「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

In the exposing method where a substrate P is sucked to a substrate stage 23 and the pattern of a mask R is transferred to the exposing region of the substrate P, the region to be sucked is specified for the substrate P depending on the exposing region and the specified region is sucked to the substrate stage 23.例文帳に追加

基板ステージ２３に基板Ｐを吸着し、マスクＲのパターンを基板Ｐの露光領域に転写する露光方法において、基板Ｐに対して吸着対象の領域を露光領域に応じて特定し、特定した対象領域を基板ステージ２３に吸着する。 - 特許庁

When the diameter of exposing spot is 60 μm, such an exposing energy band as the image size falls within an appropriate range for all image patterns does not exist and a different exposing energy must be set for each image pattern in order to confine the image size within an appropriate range for all image patterns.例文帳に追加

露光スポット径が６０μｍの場合、全画像パターンについての画像サイズが適正範囲内に収まる露光エネルギバンドは存在せず、全画像パターンについて画像サイズを適正範囲内に収めるためには各画像パターンに対して異なる露光エネルギを設定する必要がある。 - 特許庁

On the other hand, when the diameter of exposing spot is 30 μm or 15 μm, such an exposing energy band as the image size falls within an appropriate range for all image patterns exists and the image size can be confined within an appropriate range for all image patterns without requiring the control of exposing energy.例文帳に追加

一方、露光スポット径が３０μｍ又は１５μｍの場合、全画像パターンについての画像サイズが適正範囲内に収まる露光エネルギバンドが存在し、露光エネルギ制御を行うことなく全画像パターンについて画像サイズを適正範囲内に収めることができる。 - 特許庁

The structural method comprises a first exposure step for focusing and exposing a first pattern part on a first focal plane, and a second exposing step for focusing and exposing a second pattern part on a second focal plane different from the first focal plane.例文帳に追加

本発明の構造化方法は、第１パターン部分が第１焦点面に焦点合せされて露光される第１露光ステップと、第２パターン部分が第１焦点面とは異なる第２焦点面に焦点合せされて露光される第２露光ステップとからなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an exposing mask prevented from being damaged due to the electrification of an object to be exposed at the time of exposure and capable of preventing the positional accuracy and resolution of an exposure pattern from being deteriorated due to vibration, a method for manufacturing the exposing mask, an exposing method, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

露光時に、露光対象の帯電に起因する露光用マスクの破損の心配がなく、振動による露光パターンの位置精度や解像度の劣化がない露光用マスクとその製造方法及び露光方法、並びに半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This electrode pattern is easily formed by exposing an electrode layer having photosensitivity from the rear side of a glass substrate structure, or by exposing the electrode layers having two or more than two layers by means of using the first layer of them as a shielding pattern and exposing from the rear side in self-alignment.例文帳に追加

感光性を有して電極層を、ガラス基板構体の背面側より露光処理することにより、または２層以上の電極層で、１層目の電極パターンを遮光パターンとして用い、基板背面側よりセルフアライメント露光することにより、容易に形成できる。 - 特許庁

OPTICAL MASTER DISK EXPOSING DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL MASTER DISK AND MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL DISK例文帳に追加

光ディスク原盤露光装置、光ディスク原盤の製造方法及び光ディスクの製造方法 - 特許庁

A maximum exposing time in photographing operation is reduced with rise in the temperature of the CCD 33.例文帳に追加

撮影動作における最大露光時間を、ＣＣＤ３３の温度が高くなるに従い短くする。 - 特許庁

In the light emitting module 1, a film 6 is stuck in a range exposing from the frame 4.例文帳に追加

発光モジュール１において枠体４から露出する範囲にはフィルム６が貼着されている。 - 特許庁

To provide a wiring pattern exposing device which can form a non- disconnected wiring pattern.例文帳に追加

断線されていない配線パターンを形成することができる配線パターン露光装置の提供。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR FILM FORMING OPTICAL THIN FILM, OPTICAL ELEMENT, OPTICAL SYSTEM, AND EXPOSING DEVICE例文帳に追加

光学薄膜成膜方法、光学薄膜成膜装置、光学素子、光学系、及び露光装置 - 特許庁

To prevent the service life of a narrow band filter from shortening and to protect the filter against deformation due to heat of an exposing shutter.例文帳に追加

峡帯域フィルタの寿命の短縮や露光シャッタの熱による変形を防止する。 - 特許庁

A through hole 30 for exposing the rear face of the diaphragm 5 is formed on the silicon substrate 1.例文帳に追加

シリコン基板１には、ダイヤフラム５の裏面を露出する貫通穴３０が形成されている。 - 特許庁

To effectively cool a heat generating part installed in electronic equipment without exposing to surrounding atmosphere.例文帳に追加

電子機器が備える発熱部を、外気などを当てることなく効果的に冷却できるようにする。 - 特許庁

A hole 11 for exposing the base 7a of the bump 7 is formed in the layer 9a.例文帳に追加

絶縁体層９ａ，１６にバンプ７の基部７ａを露出する穴部１１を形成する。 - 特許庁

To shorten a distance of stage movement when exposing a perfect shot and an edge shot separately.例文帳に追加

完全なショットとエッジショットとを別々に露光する場合にステージ移動の距離を短くする。 - 特許庁

So try exposing yourself to the language through music, movies, comic books or anything else you like. 例文帳に追加

ですから，音楽，映画，漫画などみなさんの好きなことを通じてその言語に触れてみてください。 - 浜島書店 Catch a Wave

Removal of the resist mask, implantation of oxygen, and heat treatment are consecutively performed without exposing to the air.例文帳に追加

レジストマスクの除去と、酸素の導入と、加熱処理を大気に触れずに連続して行う。 - 特許庁

A hole 13 for partially exposing the PCB substrate 4 is provided in the light guide layer 11.例文帳に追加

導光層１１にＰＣＢ基板４を部分的に露出させる孔１３が設けられている。 - 特許庁

To expose a connector alone to the outside without exposing the wiring pattern of a control board for game machine.例文帳に追加

遊技機の制御基板の配線パターンは露出させずにコネクタのみを外部に露呈させること。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, EXPOSING METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL AND PRINTING METHOD例文帳に追加

平板印刷版の製造方法、平版印刷版材料の露光方法、及び印刷方法 - 特許庁

To bore a hole in a work by exposing a coating layer of the work with a small amount of a laser beam.例文帳に追加

加工対象物の被覆層にレーザビームを照射し、少ない照射量で穴を開ける。 - 特許庁

INTERFERROMETER, SHAPE MEASURING APPARATUS AND ALIGNER AND SHAPE MEASURING METHOD AND EXPOSING METHOD例文帳に追加

干渉計、形状測定装置及び露光装置、並びに形状測定方法及び露光方法 - 特許庁

The controller 1 gives the substrate treating time received from the exposing machine 20 to the main controller 3.例文帳に追加

インラインコントローラ１は露光機２０から受け取った基板処理時間をメインコントローラ３に与える。 - 特許庁

REFERENCE INDEX PLATE, METHOD FOR ADJUSTING REFERENCE INDEX PLATE, EXPOSING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRO DEVICE例文帳に追加

基準指標板、基準指標板の調整方法、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

PELLICLE FOR PHOTOMASK, PHOTOMASK PROVIDED WITH PELLICLE, EXPOSING METHOD USING PHOTOMASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトマスク用ペリクル、ペリクルを備えたフォトマスク、フォトマスクを用いた露光方法、および半導体装置 - 特許庁

The electrode 30 is housed in a case 20 in a state exposing the solid dielectric 50.例文帳に追加

この固体誘電体５０を露出させるようにして電極３０を筐体２０に収容する。 - 特許庁

In addition, the propriety of the estimation of exposing conditions using a plurality of response models and performance are evaluated.例文帳に追加

続いて、複数の応答モデルを用いた露光条件の推定の可否、性能を評価する。 - 特許庁

CAMERA SYSTEM AND CONTROL METHOD, DEVICE MANUFACTURING DEVICE, EXPOSING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

カメラシステム及びその制御方法、デバイス製造装置、露光装置並びにデバイスの製造方法 - 特許庁

Friction coefficient is made small by exposing aramid fiber cord to inhibit heat generation at a rubber surface.例文帳に追加

アラミッド繊維コードを露出させて摩擦係数を小さくし、ゴム表面での発熱を抑える。 - 特許庁

METHOD FOR EXCHANGING LASER MEDIUM GAS, METHOD FOR DISCHARGING THE LASER MEDIUM GAS, GAS LASER SYSTEM, AND EXPOSING DEVICE例文帳に追加

レーザ媒質ガス交換方法、レーザ媒質ガス排出方法及びガスレーザ装置並びに露光装置 - 特許庁

The asthmatic model animal is obtained by inhaling and exposing IL-2 and IL-18 into a model animal.例文帳に追加

モデル動物に、アレルゲン非存在下で、ＩＬ−２およびＩＬ−１８を吸入曝露させる。 - 特許庁

A resist film pattern for exposing a part of the light shading film is formed on the light shading film.例文帳に追加

前記遮光膜上に前記遮光膜を一部露出させるレジスト膜パターンを形成する。 - 特許庁

In the housing, an opening for exposing a part of the ground part is formed on one main surface thereof.例文帳に追加

ハウジングには、その一方主面にグランド部の一部を露出するための開口部が形成される。 - 特許庁

METHOD OF DETERMINING DEFECTS IN SUBSTRATE AND APPARATUS FOR EXPOSING SUBSTRATE IN LITHOGRAPHIC PROCESS例文帳に追加

基板内の欠陥を判定する方法およびリソグラフィプロセスにおいて基板を露光するための装置 - 特許庁

To achieve a flying object for floating and flying in the air without relying on a propeller exposing outside.例文帳に追加

大気中を浮上・飛行する飛行体を外部に露出するプロペラによらずに実現する。 - 特許庁

Holes 24 for exposing a part of the belt cord 20 to the outside of the elastomer are formed in the elastomer.例文帳に追加

ベルトコード２０の部分をエラストマーの外方に露出させる孔２４を、エラストマーに形成する。 - 特許庁

Next, an interlayer film 109a is formed and flattened to be removed after exposing the nitride film 105.例文帳に追加

次に、層間膜１０９ａを形成し平坦化して、窒化膜を露出させた後、除去する。 - 特許庁

ADJUSTING METHOD OF FACE POSITION DETECTOR, FOCUSING DEVICE, EXPOSING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

面位置検出装置の調整方法、合焦装置、露光装置、並びにデバイスの製造方法 - 特許庁

LIGHT INTENSITY MODULATION ELEMENT, INTENSITY MODULATION LIGHT GENERATOR, LASER EXPOSING DEVICE, AND PHOTOGRAPHY PROCESSING DEVICE例文帳に追加

光強度変調素子、強度変調光発生器、レーザ露光装置および写真処理装置 - 特許庁

Then an etching resist pattern 22a is formed by exposing and developing the resist film 22.例文帳に追加

次に、レジスト膜２２を露光および現像することによりエッチングレジストパターン２２ａを形成する。 - 特許庁

The exterior member 2 has an opening 14 for exposing a part of the battery 4.例文帳に追加

外装部材２にはその電池４の一部を露出させる開口部１４が形成されている。 - 特許庁

OPTICAL DISK MASTER DISK EXPOSING DEVICE, CLV DRIVING CONTROL METHOD, CLV DISK FORMAT, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

光ディスク原盤露光装置、ＣＬＶ駆動制御方法、ＣＬＶディスクフォーマット及び記録媒体 - 特許庁

The electrode terminal part 13 is formed by exposing the conductor film 3 from the outer case member 5.例文帳に追加

電極端子部１３は外装部材５から導電体膜３が露出して形成されている。 - 特許庁

Then, the adhesive agent 10 part exposing along the opening portion 71 is irradiated with ultraviolet light.例文帳に追加

その後、開口部７１に沿って露出した接着剤１０部分に紫外線を照射する。 - 特許庁