「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

An aperture 4a exposing the electrode pad 3 is formed onto the solder resist layer 4.例文帳に追加

ソルダレジスト層４には、電極パッド３を露出させる開口部４ａが形成される。 - 特許庁

FORMING METHOD FOR DIFFRACTION GRATING, INTERFERENCE EXPOSING DEVICE AND PRODUCTION METHOD FOR OPTICAL DEVICE例文帳に追加

回折格子の形成方法及び干渉露光装置並びに光デバイスの製造方法 - 特許庁

PHOTOMASK, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR EXPOSING SEMICONDUCTOR CHIP PATTERN AND CHIP ALIGNMENT ACCURACY INSPECTING DEVICE例文帳に追加

フォトマスク、半導体装置、半導体チップパターンの露光方法、チップアライメント精度検査装置 - 特許庁

The vigorous fixed asset investment is exposing excess production capacity (Figure 1-3-11).例文帳に追加

旺盛な固定資産投資は、過剰な生産能力を顕在化させつつある（第1-3-11表）。 - 経済産業省

If archie was taking surveillance photos, he must've been planning on exposing hughes.例文帳に追加

アーチーが 監視写真を撮っていたなら ヒュースの不正を暴こうとしていたに違いない - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

Turn me in to the authorities, exposing the coven, bringing us all to ruin?例文帳に追加

私を当局に引き渡せば この集会が表沙汰となり 我々を破滅に導くぞ? - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

No, repair his relationship with his father whilst exposing his godfather's true nature.例文帳に追加

いや、名付け親の本性を暴くことで 父親との関係を、修復させようととこだ - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

It is a mimicry of the functionary exposing his thighs with his hakama (pleated skirt-like Japanese garment) rolled-up. 例文帳に追加

その事務係が袴を持ち上げて太股をあらわにしている様子を表現する芸。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

ROTATION CONTROL DEVICE, ORIGINAL DISC EXPOSURE DEVICE, ROTATION CONTROLLING METHOD, AND METHOD OF EXPOSING ORIGINAL DISC例文帳に追加

回転制御装置、原盤露光装置、回転制御方法および原盤露光方法 - 特許庁

To provide an exposing device using an immersion method in which static electricity on a substrate can be suppressed.例文帳に追加

基板上の静電気を抑制できる液浸法を用いる露光装置を提供する。 - 特許庁

The exposing by ultraviolet rays is further applied thereto by using a gradation mask 23 having a gradation section 25.例文帳に追加

次に、グラデーション部２５をもったグラデーションマスク２３にてさらに紫外線露光を行う。 - 特許庁

EXPOSURE DEVICE FOR MASTER DISK OF OPTICAL RECORDING MEDIUM AND EXPOSING METHOD FOR MASTER DISK OF OPTICAL RECORDING MEDIUM例文帳に追加

光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤の露光方法 - 特許庁

To provide a radical generator and an exposing apparatus, which reduce contamination by an eliminated gas.例文帳に追加

脱離ガスによる汚染を低減するラジカル発生装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

DEFLECTING SYSTEM, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSING DEVICE USING IT, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

偏向器、それを用いた荷電粒子線露光装置及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

The first layer is exposed and developed for exposing to the metal covering 102 on the substrate (b).例文帳に追加

ｂ）基板上の金属皮膜１０２に露出させるために、第１層を露光、現像する。 - 特許庁

The substrate processing method of processing the substrate having the resist film formed includes exposing steps S13, S15 of exposing the substrate the plurality of times and a heating processing step S16 of performing the heating processing on the substrate before the substrate is developed after the exposing steps S13, S15.例文帳に追加

レジスト膜が形成された基板を処理する基板処理方法において、基板を複数回露光する露光工程Ｓ１３、Ｓ１５と、露光工程Ｓ１３、Ｓ１５の後、基板を現像処理する前に、基板に加熱処理を行う加熱処理工程Ｓ１６とを有する。 - 特許庁

The exposing part 12a of the second sheet 12 exposing over the first sheet 11 side from the hole 11a is deformed during lamination, and the hole 11a is fulfilled with the exposing part 12a, which reaches the same plane as the surface of the first sheet 11 as shown in a diagram (B).例文帳に追加

穴１１ａから第１シート１１側に露出した第２シート１２の露出部１２ａは、第１シート１１への積層時に変形して穴１１ａの内部を埋め尽くし、（Ｂ）に示すように第１シート１１の表面と同一平面上に達している。 - 特許庁

The substrate transfer mechanism 20 used for an exposing device 1 for exposing a pattern P of a mask M on a substrate W by directing an exposing light EL via the mask M to the substrate W lifts up and supports the substrate W and conveys the same in the X direction.例文帳に追加

基板搬送機構２０は、基板Wに対してマスクMを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する露光装置１に適用され、基板Ｗを浮上させて支持すると共に、基板ＷをＸ方向に搬送する。 - 特許庁

To provide a method and device of inspecting the optical component of an exposing optical system for detecting the crystal of ammonium sulfate precipitated of the optical component of the exposing optical system such as a photomask or the like.例文帳に追加

フォトマスクなど露光光学系光学部品上に析出した結晶の硫酸アンモニウムを検出する、露光光学系光学部品の検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁

The image formation device is equipped with a photosensitive drum 110 on which a latent image is formed by exposing an image forming surface 110A and the exposure apparatus 10 for exposing the image forming surface 110A.例文帳に追加

画像形成装置は、像形成面１１０Ａの露光によって潜像が形成される感光体ドラム１１０と、この像形成面１１０Ａを露光する露光装置１０とを具備する。 - 特許庁

To provide an exposing device and an exposing method having high manufacturing efficiency, for performing exposure treatment in a photolithographic process of a large substrate for a flat display panel used for a flat display device.例文帳に追加

平面表示装置に用いられるフラットディスプレイパネル用の大型基板のフォトリソ工程の露光処理を行う露光装置で、生産効率の高い露光装置と露光方法を提供する。 - 特許庁

When the reflector 11 is fitted to the luminaire body 2, the fitting part side end face exposing part 15 is contacted with the supporting part side end face exposing part 6, thus the reflector 11 can be grounded through the luminaire body 2.例文帳に追加

器具本体２に反射板11を取り付けると、取付部側端面露出部15が支持部側端面露出部６に接触し、器具本体２を介して反射板11を接地できる。 - 特許庁

Accordingly, a light emitting diode needs not be provided in the exposing head 12 so that an expensive flexible cable can be eliminated, and a light weight of the exposing head 12 can be achieved.例文帳に追加

これにより、露光用ヘッド１２に発光ダイオード６を設ける必要がなくなり、高価なフレキシブルケーブルは不要となり、かつ露光用ヘッド１２の軽量化を図ることができる。 - 特許庁

Especially, in a multi-exposing system for overlapping the scanning areas and exposing the same position multiple times, an image density is decreased against a predetermined density due to the misalignment of the exposure position.例文帳に追加

特に、走査領域を重複させて同一位置を複数回露光させる多重露光方式では、露光位置のずれにより所定の濃度に対して画像濃度が低下する。 - 特許庁

To prevent propagation of vibrations on the beam line side to an exposing device even in the configuration allowing airtight connection of a beam line with the exposing device and allowing vibration of a Be thin film.例文帳に追加

ビームラインと露光装置とを気密に接続し、かつ、Ｂｅ薄膜を振動させる構成を採用した場合にも、ビームライン側の振動が露光装置に伝搬するのを防ぐこと。 - 特許庁

To suppress generation of exposing a wrong detector in a multiplex detector system and exposing a patient by radiation before positioning the detector at a position to receive the radiation.例文帳に追加

多重検出器システムにおいて不正な検出器を曝射すること、及び放射線を受光する位置に検出器を配置しないうちに患者を放射線で曝射することの発生を抑える。 - 特許庁

At an exposing section, an AOM driver 15 drives an AOM based on line data comprising a plurality of pixel data to modulate a light beam for scanning and exposing a print sheet.例文帳に追加

露光部では、複数の画素データからなるラインデータに基づいてＡＯＭドライバ１５によりＡＯＭが駆動されることで光ビームを変調し、印画紙に対して走査露光させる。 - 特許庁

To provide a matching mechanism and a method therefor and a back surface exposing device by which matching operation and exposing operation are accurately performed without sagging a base plate.例文帳に追加

基板をたれさせることなく、かつ、精度よく整合作業および露光作業を行なうことができる整合機構およびその方法ならびに裏面露光装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

A conductor-exposing part 8a of the flexible circuit board 7 is formed on the periphery of the positioning hole 13 of the flexible circuit board 7, and solder 14 is arranged on the conductor-exposing part 8a.例文帳に追加

フレキシブル回路基板７の各位置決め孔１３の周縁に、前記フレキシブル回路基板７の導体露出部８ａを形成し、前記各導体露出部８ａに半田１４を配設する。 - 特許庁

An insulating sheet material 6 to be bonded to the heat sink 3 has a structure formed by not directly exposing the surface of a sprayed alumina film 6b but exposing the rear surface of an Al plate 6a.例文帳に追加

ヒートシンク３に接合される絶縁シート材６について、溶射アルミナ膜６ｂの表面を直接露出させるのではなく、Ａｌ板６ａの裏面を露出させた構造とする。 - 特許庁

An electromagnetic energy source for exposing a reticle pattern on a substrate is switched to an electromagnetic energy source for exposing a pattern other than that of the reticle on the substrates by the aligner with plural electronic energy sources.例文帳に追加

複数の電磁エネルギ源を有する露光装置により、レチクルのパターンを基板に照射する電磁エネルギ源と、レチクル以外のパターンを基板に照射する電磁エネルギ源とに切替える。 - 特許庁

The exposing step is a step of exposing the transparent resin layer by using a grating mask having a first transmission region and a second transmission region with transmittance higher than that of the first transmission region.例文帳に追加

露光する工程は、第１の透過領域、およびこの領域よりも高い透過率の第２の透過領域を有するグレーティングマスクを用いて透明樹脂層を露光する工程である。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device with which a conductive film pattern is formed by exposing the entire photoresist film of low stepped region and a high stepped region, by performing an exposing operation.例文帳に追加

低段差領域及び高段差領域全体のフォトレジスト膜を１回で露光し、導電性膜パターンを形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

This radiographic device is provided with a radiation exposing means 1 for exposing a subject S with radiation, and a radiographic means 2 for photographing a transmitted radiation image of the subject S.例文帳に追加

被写体Ｓに放射線を曝射する放射線曝射手段１と、それに相対して被写体Ｓの透過放射線像を撮影する放射線撮影手段２が設けられている。 - 特許庁

To provide a color image forming device where an image is exposed by an image exposing means by using a polygon mirror which is stored in a compact state, in the case of exposing the image from the inside of a photoreceptor drum having a transparent substrate.例文帳に追加

透明基体の感光体ドラムの内側から像露光を行うのにコンパクトな形で収納したポリゴンミラーを用いた像露光手段によって行うカラー画像形成装置。 - 特許庁

The method for exposing comprises the steps of synchronously moving a reticle 2 and a wafer 4, and exposing an image of the reticle 2 on the wafer 4 with the exposure beams from illumination optical systems 9, 9a, and 9b via a projection optical system 8.例文帳に追加

レチクル２とウエハ４とが同期して移動し、照明光学系９，９ａ，９ｂからの露光光でウエハ４上にレチクル２の像を投影光学系８を介して露光する。 - 特許庁

To provide an image exposing head and an image exposing device, capable of increasing the light amount introduced to a printing paper via an image forming means as much as possible without putting a burden on the light source.例文帳に追加

結像手段を介して印画紙へ導かれる光量を光源に負担を強いることなく可及的に増大し得る画像露光ヘッド及び画像露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposing method and a device therefor by which a dimensional difference and a level difference are prevented from occurring at the joint part of fields and exposing time is prevented from getting long.例文帳に追加

本発明は、フィールドのつなぎ部分の寸法差及び段差の発生を防止し、かつ、露光時間が長くなることのない露光方法及びその装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a projection-type optical system, an exposure apparatus having the same projection-type optical system and an exposing method, to obtain a predetermined resolution and obtain superior exposing performance.例文帳に追加

所望の解像度を得ることができ、優れた露光性能を実現することが可能である投影光学系、該投影光学系を有する露光装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposing apparatus with a simple exposing technology for correcting simultaneously a higher-order thermal aberration generated by a complicated modified illumination and an asymmetric thermal aberration generated by a slit-shaped substance.例文帳に追加

複雑な変形照明により発生する高次の熱収差とスリット状物体により発生する非対称な熱収差を同時に補正する簡易な露光技術の実現。 - 特許庁

The partly overlapping region d is provided with an overlapping region adjusting means (image processing part 203) making the ratio of exposing values of respective exposing beams mutually adjoining different on every specified number of dots.例文帳に追加

一部重複域ｄにおいて、互いに隣接する各露光ビームの露光値の比率を所定数のドット毎に異ならせる重複領域調整手段（画像処理部２０３）を備えた。 - 特許庁

This device and method for exposing original plate has a mechanism which controls the temperature of the laser for exposure, the respective optical holders, the respective optical elements and the respective controlling instruments, etc., or the whole of device for exposing master disk.例文帳に追加

そのため露光用レーザ、各光学ホルダ、各光学素子、各制御機器等は温度変化に対し特性が変り適切な露光処理ができなくなる可能性があった。 - 特許庁

To obtain a fine pattern of a desirable shape by preventing the immersion exposing liquid from infiltrating to the resist film through the barrier film which is protecting the resist film from this exposing liquid.例文帳に追加

レジスト膜を液浸露光用の液体から保護するバリア膜を通して該液体がレジスト膜に浸透することを防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

This multi-gradation photomask is used to form a resist pattern on the substrate 30 having a resist film already formed by radiating exposing light I from the exposing device.例文帳に追加

本発明に係る多階調フォトマスクは、露光装置から露光光Ｉを照射することにより、レジスト膜を形成した露光対象基板３０上にレジストパターンを形成するために用いられる。 - 特許庁

A cylindrical photomask 1 is rotated, and a work W is carried in synchronization with the rotation of the photomask 1 and exposed at an exposing position E by an exposing light source 2 provided in the photomask 1.例文帳に追加

円筒状フォトマスク１を回転させ、これに同期してワークＷを搬送し、円筒状フォトマスク１内部に設けられた露光光源２により露光位置Ｅにおいて露光を行う。 - 特許庁