「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

The exposing method used when a pattern of 0.1μm of a line width is transferred to a resist film on a wafer is selected.例文帳に追加

本例では、線幅０．１μｍのパターンをウエハ上のレジスト膜に転写する際の露光方法を選択する。 - 特許庁

To improve the throughput of an exposure apparatus capable of multiply exposing substrates in a lot by using a plurality of forms for instance.例文帳に追加

例えば、複数の原版を用いてロット中の基板を多重露光する露光装置のスループットを改善する。 - 特許庁

To perform compensation control of light exposure by enhancing measurement accuracy of the intensity of exposing light.例文帳に追加

露光光の強度の測定精度を向上させ、露光量の補償制御を適切に行えるようにする。 - 特許庁

AUTOMATIC OPTICAL AXIS CORRECTION METHOD OF TELECENTRIC OPTICAL SYSTEM, AUTOMATIC OPTICAL AXIS CORRECTION TELECENTRIC OPTICAL DEVICE, AND EXPOSING DEVICE例文帳に追加

テレセントリック光学系の自動光軸補正方法、自動光軸補正テレセントリック光学装置及び露光装置 - 特許庁

The molded resin part 17 is provided with a hole part 17a exposing part of the EL driving circuit board 14.例文帳に追加

成形樹脂部１７には、ＥＬ駆動用回路基板１４の一部を露出する穴部１７ａを設ける。 - 特許庁

The problem is solved by exposing the wire guides and nodal rings to arc flux for heat fusion and connecting them.例文帳に追加

ワイヤーガイドと節輪とをアーク柱に曝して加熱溶融して接合することにより、上記課題を解決した。 - 特許庁

As shown in Fig. (b), the transparent second release sheet 16 is separated for exposing the adhesive layer 12.例文帳に追加

さらに、図２（ｂ）に示すように、透明な第２の剥離シート１６を剥離して粘着剤層１２を露出させる。 - 特許庁

To provide a dental intraoral imaging apparatus for not exposing a cable from a light-receiving part including an X-ray imaging device.例文帳に追加

Ｘ線撮像素子を含む受光部からケーブルを露出しない歯科用口腔内撮影装置を提供する。 - 特許庁

The image is formed on the photosensitive layer by exposing the layer to exposure light through the laminated film by an exposure head 21.例文帳に追加

露光ヘッド２１により、ラミネートフィルムを介して露光光を照射して感光層に画像を形成する。 - 特許庁

This exposure system for exposing a substrate 5 via the immersion liquid 12 includes the stage 7 which holds the substrate 5 and moves.例文帳に追加

浸液１２を介して基板５を露光する露光装置は、基板５を保持し移動するステージ７を備える。 - 特許庁

The fill part 5 is filled in a space around the element in the substrate cavity 2A by exposing the front surface of the element.例文帳に追加

充填部５は、基板キャビティ２Ａ内の素子周囲の隙間に、素子表面を露出して充填される。 - 特許庁

Subsequently, the insulating film 22 is removed by etching while using the mask pattern 23 as an etching mask, thus exposing the liner film 26.例文帳に追加

そして、マスクパターン２３をエッチングマスクとして絶縁膜２２をエッチング除去し、ライナ膜２６を露出させる。 - 特許庁

To provide a foldable mobile phone capable of exposing part of a display section even in a folded state of the foldable mobile phone.例文帳に追加

折り畳んだ状態でも表示部の一部を露出できる折り畳み式携帯電話装置を提供する。 - 特許庁

This method for easily evaluating dryness resistance of plants comprises exposing potted seedling plants to dry weather soon after germination thereof followed by watering the plants again.例文帳に追加

発芽後まもない幼植物体を鉢ごと乾燥に一定期間曝した後、潅水を再開する。 - 特許庁

Then, a controlling device which controls the exposing device inputs the resolution information of an image which is an output object, sets the number of the light-emitting points which are used for the scanning in the exposing device, and a scanning interval in the subsidiary scanning direction, and controls the resolution of the image which is formed by the exposing device on the photo-sensitive body.例文帳に追加

そして、露光装置を制御する制御装置は、出力対象である画像の解像度情報を入力し、この解像度情報に基づいて、露光装置における走査に使用する発光点の数および副走査方向の走査間隔を設定し、露光装置が感光体上に形成する画像の解像度を制御する。 - 特許庁

In a photosensitive medium exposing apparatus for irradiating photosensitive medium 14 with a light for executing an exposing process of the photosensitive medium, a light emitting diode is provided on a control substrate 13 fixed to a printing device as well as a light generated by the light emitting diode is guided to an exposing head 12, using an optical fiber 17.例文帳に追加

感光性メディア１４に画像を形成するための光を照射しこの感光性メディアの露光処理を行なう感光性メディア露光装置において、印刷装置に固定されたコントロール基板１３に発光ダイオード６を配設すると共に、この発光ダイオード６で生成された光を光ファイバー１７を用いて露光用ヘッド１２に導光する構成とする。 - 特許庁

The color image forming method is featured by forming the color image by heating all surfaces or exposing all surfaces after laser exposing the lithographic printing plate original plate corresponding to an infrared laser comprising hydrophilic base material and an exposing heat sensitizing layer having an infrared absorbent and discoloring material discoloring by the exposure, which is formed on the hydrophilic base material.例文帳に追加

親水性支持体と、該親水性支持体上に形成された、赤外線吸収剤及び露光により変色する変色材料を有する感光−感熱層とを具備してなる、赤外線レーザー対応の平版印刷版原版を、レーザー露光した後、全面加熱又は全面露光して色画像を形成することを特徴とする色画像形成方法。 - 特許庁

To provide an aligner capable of avoiding the temperature rise of a frame body caused by exposing light even when the output of the exposing light is made high, preventing a mask from being deformed, keeping a gap between the mask and a work in specified size so as to expose an exact pattern and also making working efficiency excellent by shortening exposing time.例文帳に追加

露光光の出力を高くしても露光光による枠体の温度上昇がなく、マスクが変形するのを防止でき、マスクとワークとの間隙を所定の寸法に維持して正確なパターンを露光することができると共に露光時間を短縮されて稼働効率を良くすることができる露光装置を提供することである。 - 特許庁

Images obtained by an optical sensor of a digital camera are converged with high speed into the optimal exposing index by a closed loop operation by creating a reference table of the easily changeable exposing index according to a camera characteristic.例文帳に追加

容易に変更しうる露出指数の参照テーブルをカメラ特性にしたがって作成することにより、デジタルカメラの光センサーが採取した画像は閉ループ演算によって迅速に最適露出指数に高速収束される。 - 特許庁

In the image forming method in which image formation with toner is performed through electrifying, exposing, developing, transferring and fixing steps, a developer is electrified by an electrifying means between the exposing and developing steps.例文帳に追加

帯電、露光、現像、転写、定着各工程を経てトナーによる画像形成を行う画像形成方法において、露光工程と現像工程の中間に現像剤に帯電手段による帯電を行うことを特徴とする。 - 特許庁

(2) In the method for exposing the photoresist in the semiconductor device manufacturing process using the exposing device, the variation of the best focus position during exposure is found and exposure is performed by drawing the optimum focus position at every exposure unit based on the found variation.例文帳に追加

半導体装置製造工程においてフォトレジストを露光する露光方法及び装置で、露光中のベストフォーカス位置の変動を求めて、これに基づいて露光単位毎に最適なフォーカス位置を導いて露光を行う。 - 特許庁

To provide an exposing device capable of accomplishing positioning accuracy improvement and high throughput by removing thermal effect on the exposing device itself without incurring the enlargement of the temperature conditioning apparatus of a circulatory system in a heat treatment of a heating element.例文帳に追加

発熱体の熱処理を循環系の温調機器の大型化を招くことなく露光装置本体への熱影響を除去し、位置決め精度向上並びに高スループット化を達成できる露光装置の提供を目的とする。 - 特許庁

Variation of respective exposing heads 166A-166H is eliminated by adjusting by respective focusing motors 240A-240H of an autofocus unit 59 based on deviation amounts of the focus positions of the respective exposing heads 166A-166H.例文帳に追加

各露光ヘッド１６６Ａ〜１６６Ｈの焦点位置のズレ量に基づいて、オートフォーカスユニット５９の各フォーカシングモータ２４０Ａ〜２４０Ｈによる調整を行うことで、各露光ヘッド１６６Ａ〜１６６Ｈのバラツキをなくすことができる。 - 特許庁

In the master optical disk exposing device 1, the laser beam from a laser emitting part 2 is bisected and modulated to the light quantity for exposing the pits and grooves respectively by light quantity modulating elements 5, 8, and entered into digital modulators 11, 15.例文帳に追加

光ディスク原盤露光装置１は、レーザ発光部２からのレーザビームを２つに分割して、光量変調素子５、８でそれぞれピット及びグルーブの露光用の光量に変調し、デジタル変調器１１、１５に入射させる。 - 特許庁

To provide an exposing position adjusting apparatus for a print head in which bend of a print head to be mounted, i.e., shift of an exposing element chip in the Y direction, can be corrected easily and efficiently.例文帳に追加

本発明は印字ヘッドの露光位置調整装置に関し、特に搭載される印字ヘッドの曲がり、即ち露光素子チップのＹ方向ズレを容易、かつ効率的に補正する印字ヘッドの露光位置調整装置を提供するものである。 - 特許庁

A first opening 16A exposing the light reception part 10P from a surface of the support body 16 is formed, and a second opening 16B exposing the light emitting part 10L from the surface of the support body 16 is separatedly formed therefrom.例文帳に追加

そして、支持体１６の表面から受光部１０Ｐを露出する第１の開口部１６Ａが設けられ、それと離間して、支持体１６の表面から発光部１０Ｌを露出する第２の開口部１６Ｂが設けられている。 - 特許庁

When the maximum exposing time approaches during exposure in valve photographing, buzzer sound of a short cycle is outputted and when the maximum exposing time is over, a buzzer sound of a long cycle is outputted and photographing operation is forcedly finished.例文帳に追加

バルブ撮影において、露光中に最大露光時間が接近すると、短周期のブザー音を出力し、最大露光時間が経過すると、長周期のブザー音を出力するとともに、撮影動作を強制的に終了する。 - 特許庁

In the printed circuit board, the pad portion 10, in which a terminal portion 9 of the electronic component 3 is electrically connected to a part of the interconnect line pattern 11, and substrate exposing portion 12, exposing a substrate 14 forming a substrate 5 near the pad portion 10, are formed.例文帳に追加

配線パターン１１の一部に電子部品３の端子部９が電気的に接続されるパッド部１０及び該パッド部１０近傍に基板５を形成する基材１４を露出させた基材露出部１２が形成されている。 - 特許庁

To reduce the inside temperature rising due to a pre-positioned expos ing device by reducing the power consumption of the pre-positioned exposing device in the image forming device provided with the contact system charging device and the pre-positioned exposing device with regard to a photoreceptor.例文帳に追加

感光体１に対する接触式帯電装置２と前露光装置１０を有する画像形成装置において、前露光装置１０の消費電力の低減、また前露光装置１０による機内昇温の低減を図る。 - 特許庁

To extremely simplify operation for exposing coins stored in a rack portion into a vehicle room or shielding them from the vehicle room while improving the conveniences of putting the coins in and out when exposing the coins stored in the rack portion into the vehicle room.例文帳に追加

棚部に収納されたコインを車室内に露出させたり或いは車室内から隠蔽する操作を極めて簡単に行えるとともに、棚部に収納されたコインの車室内への露出時にコインの出入れ性を向上する。 - 特許庁

In non-image formation, test electrostatic images 1s in a main scanning directional line of the four-pixel width in which VL exposing quantity and less-than-VL exposing quantity are combined is written to the photosensitive drum 1, and the potential distribution thereof is measured by the potential sensor 30.例文帳に追加

非画像形成時にＶＬ露光量とＶＬ未満露光量とを組み合わせた４画素幅の主走査方向ラインの試験静電像１ｓを感光ドラム１に書き込んで電位センサ３０により電位分布を測定する。 - 特許庁

The method for manufacturing the same comprises the steps of forming a resin lens on the substrate resin layer, then forming a photoresist pattern in which a pad-like shape is removed, exposing the substrate resin layer above the pad, and exposing the pad.例文帳に追加

下地樹脂層上に樹脂レンズを形成した後に、光学機能薄膜、パッド部形状が除去されたフォトレジストパターンを形成し、パッド部上方の下地樹脂層を露出させ、パッド部を露出させる工程を具備すること。 - 特許庁

When the designed circuit pattern is exposed and transferred on a wafer via an exposing device, a defect occurring systematically dependently on the characteristic or the like of the exposing device is predicted previously by simulation and is stored as hot spot information 7.例文帳に追加

また、露光装置を介して、設計された回路パターンをウエハ上に露光転写する際に、露光装置の特性等によってシステマティックに発生する欠陥を、あらかじめシミュレーションによって予測し、ホットスポット情報７として記憶する。 - 特許庁

To provide a method for exposing intermediate core of optical fiber and an apparatus therefor capable of safely and quickly exposing a core of optical fiber intermediate part by moving/contracting a clad of the optical fiber intermediate part and preventing the contracted clad from being elongated by the heating in a post-process.例文帳に追加

光ファイバ中間部の被覆を移動・収縮させて素線を露出し、この収縮した被覆が後工程の加熱により伸長することを抑止して、安全かつ迅速に光ファイバ中間部の素線を露出する。 - 特許庁

Then the overlay correcting value which is used at the time of exposing the semiconductor device in an exposing step is calculated from the overlay error due to the difference between the exposure systems and the overlay error between the patterns formed in the semiconductor device.例文帳に追加

そして、露光装置間の機差で発生する重ね合わせ誤差と半導体装置に形成されているパターンの重ね合わせ誤差から、半導体装置の露光工程の露光処理を行う際の合わせ補正値を算出する。 - 特許庁

To provide a light beam aligner with an extremely simple structure, capable of adjusting the exposing position extremely easily without generation of the exposing position displacement even in the case the direction displacement of the light beam outputted from the light source is generated.例文帳に追加

極めて構造簡単で、しかも光源から射出される光ビームの方向ずれが生じても露光位置のずれが生じることがなく、露光位置の調整が極めて容易である光ビーム露光装置を提供することにある。 - 特許庁

A data line and a drain electrode having a source electrode, separate from each other, are formed on the first semiconductor, and a protection layer having a contact hole exposing the drain electrode and an opening exposing the second semiconductor is formed.例文帳に追加

その後、第１半導体上に、互いに分離され、ソース電極を有するデータ線及びドレイン電極を形成し、ドレイン電極を露出させる接触孔と第２半導体を露出させる開口部とを有している保護膜を形成する。 - 特許庁

(1) In a method for exposing a photoresist in a semiconductor device manufacturing process using an exposing device IIa, focus positions are detected at every exposure unit and exposure IIIa is performed by drawing the optimum focus position from the detected results.例文帳に追加

半導体装置製造工程においてフォトレジストを露光する露光方法及び装置ＩＩａで、露光単位毎にフォーカス位置を検出し、その結果から露光単位毎に最適なフォーカス位置を導いて露光ＩＩＩａを行う。 - 特許庁

To provide an image exposing system and an image exposing method performing high resolution image recording using a spreading light source for recording an image having a high image quality which is free form distortion of the image due to distortion of a lens optic system.例文帳に追加

レンズ光学系の歪曲収差による画像の歪みがなく高画質な画像を記録する、広がりを持った光源を用いて高解像度の画像記録を行なう画像露光装置および画像露光方法を提供する。 - 特許庁

PRODUCTION METHOD FOR MASK BLANK-USE TRANSLUCENT SUBSTRATE, PRODUCTION METHOD FOR MASK BLANK, PRODUCTION METHOD FOR EXPOSING MASK, PRODUCTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND PRODUCTION METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY UNIT, AND METHOD OF CORRECTING DEFECT IN EXPOSING MASK例文帳に追加

マスクブランク用透光性基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、半導体装置の製造方法及び液晶表示装置の製造方法、並びに露光用マスクの欠陥修正方法 - 特許庁

A photograph processing apparatus 10 is provided with an exposing unit 28 which exposes and forms a picture on photographic paper S, and a picture 101 for detecting shift quantity is exposed and formed on the photographic paper S with the exposing unit 28 to produce the test print 100.例文帳に追加

写真処理装置１０は、印画紙Ｓに画像を露光形成する露光ユニット２８を備え、露光ユニット２８によってずれ量検出用画像１０１を印画紙Ｓに露光形成し、テストプリント１００を作製する。 - 特許庁

To provide a high quality fluorescent surface by preventing creases on an aperture grille upon manufacturing a color selecting electrode structure body and uniformly exposing the fluorescent surface in an exposing process after using the color selecting electrode structure body.例文帳に追加

色選別電極構体を製造する際、アパーチャグリルにしわが生じないようにし、この色選別電極構体を用いた後の露光工程での蛍光面への露光を均一にすることにより高品質の蛍光面が得られるようにする。 - 特許庁

To provide a focal plane shutter for a camera characterized by that the inertial force of a blade group does not operate large on the attractive holding force of an electromagnet when a driving member temporarily stops at an exposing operation start position prior to exposing operation in photography.例文帳に追加

撮影時に露光作動に先立って駆動部材が露光作動開始位置で一旦停止するとき、羽根群の慣性力が電磁石の吸着保持力に大きく作用しないようにしたカメラ用フォーカルプレンシャッタを提供すること。 - 特許庁

For an exposure mask 30 for exposing the resist, one with such a pattern as to have curved portions 30f in corners 30e is used.例文帳に追加

このとき、レジストを露光する露光マスク３０には、パターンの角部３０ｅが曲部３０ｆを有するものを用いる。 - 特許庁

To provide a substrate treating device which prevents operation failure of an exposing device in exposure treatment by a liquid immersion method.例文帳に追加

液浸法による露光処理時に露光装置の動作不良が防止された基板処理装置を提供することである。 - 特許庁