F layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 524件
In the continuous film (F), the surface treatment layer (Fh) is provided on an unlaminated surface.例文帳に追加
連続フィルム(F)は、非貼合面に表面処理層(Fh)が設けられている。 - 特許庁
The diamond-like carbon film F consists of a metal layer M on the inner side and a carbon layer C on the outer side.例文帳に追加
ダイヤモンドライクカーボン膜Fは内側の金属層Mと外側のカーボン層Cとからなる。 - 特許庁
A p-type ZnO layer is formed on the surface of the p-type ZnMgO layer (f).例文帳に追加
(f)p型ZnMgO層表面上に、p型ZnO層を形成する。 - 特許庁
To provide a method which enables a continuous laminated sheet (A) to be manufactured by laminating a continuous film (F) on a continuous sheet (S) by heat seal, without making scratches on surfaces of laminating rolls (21 and 22) transferred onto the continuous film (F), and without causing damage to a surface treatment layer (Fh) of the continuous film (F).例文帳に追加
貼合ロール(21、22)の表面の傷が連続フィルム(F)に転写されることがなく、また連続フィルム(F)の表面処理層(Fh)を損なうことなく、連続シート(S)に連続フィルム(F)を熱融着により貼合して連続貼合シート(A)を製造し得る方法を提供する。 - 特許庁
On the basis of the DC sensitivity of the actuator and the drive voltages F_CS_L0 and F_CS_L1, an interlayer distance L_D between the L0 layer and L1 layer is obtained.例文帳に追加
アクチュエータのDC感度と、駆動電圧F_CS_L0及びF_CS_L1とに基づき、L0層及びL1層の層間距離L_Dが得られる。 - 特許庁
Then, the electrode layer 4 is subjected to heat treatment to grow hillocks 8 (Fig.(f)).例文帳に追加
次に、電極層4を熱処理して、ヒロック8を成長させる(図(f))。 - 特許庁
The Asker F hardness of the foaming layer 19 is set from 50° to 75°.例文帳に追加
発泡層19のアスカーF硬度は50°〜75°に設定されている。 - 特許庁
The polarizing layer 55 is formed on the light emission side F of the display element substrate 50.例文帳に追加
表示素子基板50の光出射側Fに偏光層55を形成する。 - 特許庁
Thereafter a water-repellent layer 14 is formed only to a front face (Fig. (F)).例文帳に追加
この後、表面のみに撥水層14を形成する(図2(F))。 - 特許庁
A polarizing layer 54 is formed on a light emission side F of a substrate 53.例文帳に追加
基板53の光出射側Fに偏光層54を形成する。 - 特許庁
In this rolling member having a lubricated layer L with lubrication on a surface thereof, the lubricated layer L comprises a hard carbon layer C and a fluorine compound layer F, and the fluorine compound layer F is disposed on the outermost surface.例文帳に追加
潤滑性を有する潤滑層Lを表面に備えた転動部材において、潤滑層Lは硬質炭素層C及びフッ素化合物層Fを備えていて、フッ素化合物層Fが最表面に配されている。 - 特許庁
The vibration of the magnetization direction F is resonated, when a frequency f_F of the magnetization direction F in a free layer 1A_F of the magnetoresistance effect element 1A is consistent with a frequency f of the alternating current i flowing in the magnetoresistance effect element 1A, and a voltage V increases between output terminals OUTPUT1, OUTPUT2.例文帳に追加
磁気抵抗効果素子1Aのフリー層1A_Fの磁化の向きFの振動数f_Fと、磁気抵抗効果素子1Aを流れる交流電流iの周波数fが一致した場合、磁化の向きFの振動が共振し、出力端子OUTPUT1,OUTPUT2の間の電圧Vが増加する。 - 特許庁
A capsulizer 11a receives a user MAC frame (f) from a user site #1, and attaches a layer header H to set an arbitrary VPN thereto to capsulize the user MAC frame (f) and to generate a layer MAC frame F.例文帳に追加
カプセル化処理部11aは、ユーザMACフレームfをユーザサイト#1から受信し、任意のVPNを設定するための階層化ヘッダHを付与して、ユーザMACフレームfをカプセル化し、階層化MACフレームFを生成する。 - 特許庁
Then, the terminal connection structure J1 includes: a hole 10 arranged at one end side of the terminal metal fittings F and inserting the superconductive conductor layer 102 exposed from the cable core; and a superconductive wire 50 arranged on an outer peripheral surface of a section into which the superconductive conductor layer 102 of the terminal metal fittings F is inserted.例文帳に追加
そして、端末金具Fの一端側に設けられると共に、ケーブルコアから露出された超電導導体層102が挿入される穴10と、端末金具Fの超電導導体層102が挿入された区間の外周面に配される超電導線材50と、を備える。 - 特許庁
An adhesive b between the semiconductor device C of a first layer and the semiconductor F of a second layer is different in material from an adhesive c between the semiconductor device F of the second layer and the semiconductor device G of a third layer.例文帳に追加
第1層目の半導体装置Cと第2層目の半導体装置Fとの間の接着剤bと、第2層目の半導体装置Fと第3層目の半導体装置Gとの間の接着剤cとは、材質が異なる。 - 特許庁
A first layer (lower layer) and a second layer (upper layer) are formed respectively so as to become the relation of A<B<C<D<E<F<G<H<I<J<K and the relation of a<b<c<d< e<f<g<h<i<j<k.例文帳に追加
即ち、第1層(下層)はA<B<C<D<E<F<G<H<I<J<Kの関係となるように、第2層(上層)はa<b<c<d<e<f<g<h<i<j<kの関係となるようにそれぞれ形成されている。 - 特許庁
The metallized polyester film is provided by preparing a layer (M layer) which contains metal oxide in one side of polyester film layer (F layer), wherein the M layer has a crystal layer (Ma layer) having microcrystals of metal components and an amorphous layer (Mb layer).例文帳に追加
ポリエステルフィルム層(F層)の片面に金属酸化物を含む層(M層)が設けられ、このM層が金属成分の微結晶を有する結晶層(Ma層)と、非晶層(Mb層)を持つ金属蒸着ポリエステルフィルムとする。 - 特許庁
A metal transfer film which has a plastic film F having a surface low in adhesion with metal, a metal layer M provided on the surface F of the plastic film F, and an adhesive layer Ad provided on the surface MS of the metal layer M.例文帳に追加
金属との密着性が低い表面を有するプラスチックフィルムFと、そのプラスチックフィルムFの表面FSに設けられる金属層Mと、その金属層Mの表面MSに設けられる粘着層Adとを有する金属転写フィルムを作製する。 - 特許庁
The thickness t of the cover layer is set in a range of f(n)-t1≤t≤f(n)+t2 by using a function f(n) relating to the refractive index n of the cover layer and constants t1 and t2 set on the basis of permissible values of the aberration of the cover layer.例文帳に追加
そして、カバー層の屈折率nに関する関数f(n)と、カバー層における収差の許容値に基づいて設定される定数t1及びt2とを用いて、カバー層の厚さtがf(n)−t1≦t≦f(n)+t2の範囲に設定されるようにしたものである。 - 特許庁
The dielectric layer 30 is positioned between the supporting layer and the conductive layer, and is formed of a dielectric material with a permittivity of 1.1 to 2.8 F/m.例文帳に追加
誘電層310は、支持層と導電層との間に位置し、1.1〜2.8F/mの誘電率を有する誘電物質からなる。 - 特許庁
The flexible joint is provided with a flexible part 2 having metal flanges F, and an inner layer 3, a reinforcing layer 4 and an outside face rubber layer 5 between the flanges.例文帳に追加
金属製のフランジFを有すると共に、このフランジF間に、内層3と補強層4と外面ゴム層5とを有する可とう部2を備える。 - 特許庁
A ratio of the carbon in the middle layer F is increased from a substrate layer M side toward a surface layer C side.例文帳に追加
また、中間層F中の炭素の割合は、下地層M側から表面層C側に向かって増加している - 特許庁
The base layer B of a film F containing a resist layer fed out from a feed-out section 5 is wound intermittently at a base layer winding section 8.例文帳に追加
繰り出し部5により繰り出したレジスト層を含むフィルムFのベース層Bを、ベース層巻き取り部8で断続的に巻き取る。 - 特許庁
The execution method is the one whereby a waterproof layer 1, a covering layer structure comprising a FRP layer f, is placed on the site.例文帳に追加
FRP層fを含む被覆層構造体である防水層1を現場施工する施工方法である。 - 特許庁
The method for producing the substrate structure contains a stage (i) of forming the Mg-F bonding layer contg. fluorine bonded to magnesium on the surface of the substrate and a stage (ii) of forming the protective layer on the surface of the Mg-F bonding layer.例文帳に追加
かかる基体構造の製造方法は、(i)基体表面にマグネシウムに結合するフッ素を含むMg−F結合層を形成する工程、及び(ii)Mg−F結合層の表面に保護層を形成する工程を含んでなる。 - 特許庁
The partitioning parts E, F and G of the front bag layer 11 in a quilt length direction, the partitioning parts E', F' and G' of the rear bag layer 13 in the same direction and the partitioning parts L and M of the middle bag layer 19 in the same direction are different in a quilt thickness direction.例文帳に追加
表袋層11の布団長さ方向の仕切り部E、F、G及び裏袋層13の同方向の仕切り部E´、F´、G´と、中袋層19の同方向の仕切り部L、Mとが布団厚さ方向で食い違っている。 - 特許庁
After the arrangement of the fibers F of an i-th layer is completed, when the fibers F of the next layer [(i+1) layer] are arranged, the rotary direction of the mandrel is reversed at the times of the forward and return movements of a yarn supply head.例文帳に追加
第i層の繊維Fの配列が完了した後、次の層((i+1)層)の繊維Fを配列する際は、糸供給ヘッドの往動時と復動時とでマンドレルの回転方向を逆にする。 - 特許庁
An axis direction of the fine carbon fiber 22 is almost parallel to a surface direction F of the wiring layer.例文帳に追加
微細炭素繊維22の軸方向が、配線層の面方向Fとはほぼ平行である。 - 特許庁
The filament F is implanted in the adhesive layer 204b by an action of an electrostatic force.例文帳に追加
フィラメントFは、接着層204bに対して静電気力の働きにより植設される。 - 特許庁
When the semiconductor device F of the second layer is analyzed, only the adhesive c is removed.例文帳に追加
第2層目の半導体装置Fを解析するに際しては、接着剤cのみが剥がされる。 - 特許庁
Meanwhile, the waste toner T of an upper layer is moved to an arrow F direction of Fig.3 with the partition plate 425.例文帳に追加
一方、上層の廃トナーTは、仕切り板425により、図3の矢印F方向に移動する。 - 特許庁
A second conductive junction layer 51 is formed on one main surface of a support substrate 50 (Fig.1(f)).例文帳に追加
支持基板50の一方の主面上に、第2の導電性接合層51を形成する(図1(f))。 - 特許庁
In addition, such an inconvenience that user's foot F feels hardness of the intermediate layer 22 while walking is prevented.例文帳に追加
また、歩行時においてユーザの足Fが中間層22の硬さを感じる、という不都合が抑制される。 - 特許庁
Each insulating layer 3 in the flexible region F is formed as a coverlay function part C.例文帳に追加
前記屈曲領域Fにおける絶縁層3をカバーレイ機能部Cとして形成する。 - 特許庁
In this case, the thickness (f) of the layer 155 is formed larger than a prepared hole size.例文帳に追加
そして、スチレンスラブ層155の層厚fを下穴寸法より長く形成する。 - 特許庁
The root growing layer forming member F is unfolded to cross the narrow and long supporting member B orthogonally and is fixed.例文帳に追加
根生育層形成材Fを、細長支持材Bに直交するように展開し、固定する。 - 特許庁
This folding roof for greening is mainly composed of: a folding roof R; a plurality of narrow and long supporting members B ; and root growing layer forming members F.例文帳に追加
主として折板屋根Rと複数の細長支持材Bと根生育層形成材Fからなる。 - 特許庁
The transfer of the intermediate data stream to a filter 221 is performed via a layer I/F 211.例文帳に追加
中間データストリームのフィルタ221への引き渡しはレイヤI/F211を介して行われる。 - 特許庁
Pencil hardness of the coating layer 19 is at least F and elastic deformation rate is not lower than 70%.例文帳に追加
被覆層19の鉛筆硬度はF以上であるとともに弾性変形率は70%以上である。 - 特許庁
KERATINOUS FIBER F-LAYER DAMAGE-REPAIRING AGENT AND HAIR COSMETIC CONTAINING THE SAME例文帳に追加
ケラチン繊維F層損傷修復剤及びそれを含有する毛髪化粧料 - 特許庁
The layers 150a, 150b are polished to form an uneven pattern layer 150c (Fig.2(f)).例文帳に追加
層150a、150bを研磨し、凹凸パターン層150cを形成する(図2(f))。 - 特許庁
A step (e) forms a recording layer 40 on a substrate 41, and a step (f) laminates a reflection film 42.例文帳に追加
(e)で基板41に記録層40を形成し、(f)で反射膜42を積層する。 - 特許庁
A back plate 14 is formed on the organic film layer 13 of the luminescent pattern (F).例文帳に追加
発光パターンの有機膜層13上に背面側電極14を形成する(F)。 - 特許庁
The concrete floor reinforcing structure K reinforces an existing concrete floor F, and is formed of a reinforcing substrate layer 1, a substrate adjusting layer 2, a reinforcing fiber layer 3, a fiber cover layer 5, smoothing layers 6, 7, and a finish layer 8 laminated on the concrete floor F in this order.例文帳に追加
既設のコンクリート床Fを補強するコンクリート床補強構造Kであって、コンクリート床F上に補強下地層1と、下地調整層2と、補強繊維層3と、繊維被覆層5と、平滑層6,7と、仕上げ層8とをこの順に積層してなるものである。 - 特許庁
A fuse F constituted of a conductive layer (for example, a multi-crystal silicon layer) is arranged in a circuit 2 formed on a semiconductor substrate, and currents are supplied to the fuse F so that the fuse F can be fused, and that the characteristics or constitution of the circuit 2 can be changed in this semiconductor device.例文帳に追加
半導体基板に形成された回路2内に導電層(たとえば、多結晶シリコン層)からなるフューズFを有し、当該フューズFに電流を供給し溶断させて回路2の特性または構成を変更可能な半導体装置である。 - 特許庁
When loading a disk, focus search is performed to an L0 layer and L1 layer respectively and drive voltages F_CS_L0 and F_CS_L1 of an actuator at a focusing point are stored respectively.例文帳に追加
ディスク装填時に、L0層及びL1層夫々についてフォーカスサーチを行い、合焦点位置でのアクチュエータの駆動電圧F_CS_L0及びF_CS_L1を夫々記憶する。 - 特許庁
Alternatively, it is constituted so that the relation between the saturation magnetization Ms_f of the free layer and the saturation magnetization Ms_b of the hard bias layer 11 satisfy Ms_f≤8*Ms_b.例文帳に追加
或いは、フリー層の飽和磁化Ms_fと、ハードバイアス層11の飽和磁化Ms_bとの関係を、Ms_f≦0.8*Ms_bを満たすように構成する。 - 特許庁
Finally the surface of the cholesteric layer 13 is subjected to surface modification treatment ((f)) and subsequently a protective layer 14 is film formed on the surface with a wet process ((g)).例文帳に追加
最後に、コレステリック層13の表面に対して表面改質処理を施した後((f))、その表面上に保護層14をウェットプロセスにより成膜する((g))。 - 特許庁
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