Interlayerを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 6425件
Then, after an interlayer insulation film is formed, a contact hole reaching the first wiring is formed.例文帳に追加
そして、層間絶縁膜を形成した後、第1の配線に達するコンタクトホールを形成する。 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS, AND METHOD FOR PRODUCING THEM例文帳に追加
感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜及びマイクロレンズ、並びにそれらの製造方法 - 特許庁
The irradiation method of the laser light LB is varied in accordance with the level of the interlayer short 163.例文帳に追加
層間短絡163の大きさに応じてレーザ光LBの照射方法を異ならせる。 - 特許庁
Therefore, the conductor layer is brought into close contact with the interlayer resin insulating layer through the intermediary of the roughened layer 5.例文帳に追加
そのため、導体層は、前記粗化層5を介して層間樹脂絶縁層と密着する。 - 特許庁
To provide a method capable of inhibiting deterioration of magnetic characteristics by protecting a magnetoresistance effect element from outgas of an interlayer film.例文帳に追加
層間膜のアウトガスから磁気抵抗効果素子を保護し、磁気特性の劣化を抑制する。 - 特許庁
The topmost metallic layer is formed at the upper part of the interlayer dielectric film in the cell array region.例文帳に追加
前記セルアレイ領域内の前記層間絶縁膜上部に最上部金属層が配置される。 - 特許庁
A dummy pattern 41 is formed in a third interlayer insulation film in a peripheral region 2 of a wafer 1.例文帳に追加
ウェハ1の周辺領域2の第3層間絶縁膜に、ダミーパターン41を形成する。 - 特許庁
The contact hole 30h is partitioned by sidewalls 31 of the interlayer insulation films 20, 30.例文帳に追加
コンタクトホール30hは層間絶縁膜20および30の側壁31によって規定されている。 - 特許庁
Contact plugs 104 are formed in a first interlayer insulating film 102 on a semiconductor substrate 100.例文帳に追加
半導体基板100上の第1の層間絶縁膜102にコンタクトプラグ104を形成する。 - 特許庁
To provide various semiconductor structures including strain-absorbing III-Nitride interlayer modules.例文帳に追加
歪み吸収III族窒化物中間層モジュールを有する種々の半導体構造を提供する。 - 特許庁
To provide a resin composition that has excellent electric characteristics and laser processability of an interlayer insulation layer.例文帳に追加
電気特性・層間絶縁材層のレーザー加工性に優れる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To increase an interlayer adhesion force between a lower cladding layer and a core layer without performing plasma treatment.例文帳に追加
プラズマ処理をすることなく下部クラッド層とコア層との層間密着力を高めること。 - 特許庁
The interlayer film for a laminated glass contains a polyvinylacetal resin and a moisture-resistance improving agent.例文帳に追加
ポリビニルアセタール樹脂と耐湿性向上剤とを含有する合わせガラス用中間膜とする。 - 特許庁
The interlayer adhesive strength between the porous layer and the ink absorptive layer is 1-500 g/15 mm.例文帳に追加
多孔質層とインク吸収層との層間接着強度が1〜500g/15mmである。 - 特許庁
Metal wiring 5 is formed on an interlayer insulation film 1 so as to be in contact with the plug 3.例文帳に追加
プラグ3に接触するように、層間絶縁膜1の上にメタル配線5を形成する。 - 特許庁
In any position passing the center of an interlayer continuity via 1, a multilayer wiring board 2 is cut in widthwise direction.例文帳に追加
層間導通ビア1の中心を通る位置で、多層配線基板2を幅方向に切断する。 - 特許庁
The interlayer distance d_002 of a plurality of crystallites 12 is set at d_002≥0.347 nm.例文帳に追加
それら複数の結晶子12の層間距離d_002 はd_002 ≧0.347nmに設定されている。 - 特許庁
The laminated glass 10 is composed of glass plates 11, 12 facing each other and an interlayer film 13.例文帳に追加
合わせガラス10は、互いに対向する一対のガラス板11,12と、中間膜13とから成る。 - 特許庁
To ensure water-tightness and noise elimination, and absorb dimensional differences in the direction of a frontage and interlayer dislocation.例文帳に追加
水密性,消音性を確保し、間口方向の寸法誤差および層間変位を吸収する。 - 特許庁
To form an interlayer insulation film without any gap in an area narrow in the interval of a gate electrode.例文帳に追加
ゲート電極の間隔が狭い領域においても、層間絶縁膜を隙間無く形成する。 - 特許庁
Three or more wiring layers are formed on an array substrate 2 via an interlayer insulating film.例文帳に追加
アレイ基板2上に層間絶縁膜を介して3層以上の配線層が形成されている。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device by which the flatness of an interlayer insulating film is secured.例文帳に追加
層間絶縁膜の平坦性が確保される半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
Interlayer insulating films 57, 58 are formed between the charge accumulation section and the word line.例文帳に追加
さらに、電荷蓄積部とワード線との間には、層間絶縁膜57、58が形成されている。 - 特許庁
The silicon film 30 and the second interlayer insulating film 18 are etched to form a wiring trench 18a.例文帳に追加
シリコン膜30と第2層間絶縁膜18とをエッチングし、配線溝18aを形成する。 - 特許庁
The conductor 105 is compressed enough and a highly reliable fine interlayer connection can be formed.例文帳に追加
導電体105は充分圧縮され、高信頼性の微細な層間接続が形成できる。 - 特許庁
Therefore, the interlayer insulating film on the fuse 4b is broken easily when the fuse 4b is fused and cut.例文帳に追加
このため、ヒューズ4bを溶断する際に、ヒューズ4b上の層間絶縁膜は破壊されやすい。 - 特許庁
Thereby, the interlayer dielectric film having a cage structure with a large hole diameter is obtained.例文帳に追加
これにより、大きな空孔径のかご型構造を有する層間絶縁膜が得られるようになる。 - 特許庁
A base 10 is composed of a substrate 16, an interlayer insulating film 18 and an SiO2 film 20.例文帳に追加
下地10は、基板16と、層間絶縁膜18と、SiO_2 膜20とで構成されている。 - 特許庁
To provide a multilayer electronic component in which the diameter of an interlayer connection conductor can be reduced.例文帳に追加
層間接続導体の径をより小さくすることができる積層電子部品を提供する。 - 特許庁
Next, an interlayer film 109a is formed and flattened to be removed after exposing the nitride film 105.例文帳に追加
次に、層間膜109aを形成し平坦化して、窒化膜を露出させた後、除去する。 - 特許庁
An organic compound film 2 of a wiring pattern is formed on an interlayer insulating film (a).例文帳に追加
層間絶縁膜1上に形成すべき配線のパターンの有機化合物膜2を形成する(a)。 - 特許庁
Therefore, the second interlayer film becomes constant in thickness after a CMP process, and a residual film gets uniform in thickness.例文帳に追加
従ってCMP後の膜厚のばらつき(場所依存)が無くなり、残膜厚が均一になる。 - 特許庁
The semiconductor device contains the porous siliceous film as an interlayer dielectric.例文帳に追加
前記多孔質シリカ質膜を層間絶縁膜として含むことを特徴とする半導体装置。 - 特許庁
An interlayer dielectric 7 is formed on a silicon substrate 1 with a p-type diffusion layer 5 formed thereon.例文帳に追加
p型拡散層5が形成されたシリコン基板1上に層間絶縁膜7を形成する。 - 特許庁
The particles having an average interlayer spacing d002 of 0.3354-0.3400 nm are preferable, and natural graphite particles are more preferable.例文帳に追加
さらに、平均層間距離d_002が0.3354nm〜0.3400nmのものが良く、天然黒鉛からなるものがさらに良い。 - 特許庁
First, a wiring groove 16 is formed at an interlayer insulating film 15 prepared on a substrate 11.例文帳に追加
まず、基板11上に設けられた層間絶縁膜15に配線溝16を形成する。 - 特許庁
An aperture for via-hole 42 is formed on an interlayer insulation layer 40 on a core board 30.例文帳に追加
コア基板30上の層間樹脂絶縁層40に、レーザでバイアホール用開口42を形成する。 - 特許庁
GERMANIUM-CONTAINING SILOXANE-BASED RESIN AND METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR INTERLAYER INSULATING FILM BY USING THE SAME例文帳に追加
ゲルマニウムを含むシロキサン系樹脂及びこれを用いた半導体層間絶縁膜の形成方法 - 特許庁
INTERLAYER CONNECTING SHEET, AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND MULTILAYER FLEXIBLE PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加
層間接続シート及びその製造方法ならびにそれを用いた多層フレキシブルプリント配線板 - 特許庁
A via 28 and upper layer wiring 30 are formed inside the liner film 20 and interlayer dielectric 22.例文帳に追加
ライナー膜20と層間絶縁膜22内にビア28と上層配線30とが形成される。 - 特許庁
An interlayer insulating film 4 is formed on the plurality of level difference forming polysilicon layers 3.例文帳に追加
複数の段差形成用ポリシリコン層3上には、層間絶縁膜4が形成されている。 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND INTERLAYER INSULATION FILM, MICROLENS, AND METHOD FOR PRODUCING THOSE例文帳に追加
感放射線性樹脂組成物、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズとそれらの製造方法 - 特許庁
The interlayer insulating layer has etching rate lower than the dummy insulating layer to specific etching liquid.例文帳に追加
層間絶縁層は所定のエッチング液に対してダミー絶縁層よりも低いエッチング率を有する。 - 特許庁
REFORMED LAYER-LIKE CLAY MINERAL, METHOD FOR PRODUCING REFORMED LAYER-LIKE CLAY MINERAL AND INTERLAYER COMPOUND例文帳に追加
改質層状粘土鉱物、改質層状粘土鉱物の製造方法、及び層間化合物 - 特許庁
The interlayer distance d002 of a plurality of the crystallites is set to 0.388 nm≤d002≤0.420 nm.例文帳に追加
複数の結晶子の層間距離d_002 は0.388nm≦d_002 ≦0.420nmに設定される。 - 特許庁
To provide a simple method to detect the existence of interlayer peeling in a multilayer wiring layer.例文帳に追加
多層配線層の層間における剥離の有無を簡便な手法で検出できるようにする。 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS AND METHOD FOR FORMING THOSE例文帳に追加
感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズならびにそれらの形成方法 - 特許庁
An iridium layer 16 is formed on an interlayer insulating film 12 and inside an opening 14.例文帳に追加
層間絶縁膜12の上および開口部14の内部には、イリジウム層16が設けられている。 - 特許庁
INTERLAYER INSULATING FILM FOR FLEXIBLE PRINTED WIRING BOARD, ITS MANUFACTURING METHOD, AND FLEXIBLE PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加
フレキシブルプリント配線板用層間絶縁膜、その製造方法およびフレキシブルプリント配線板 - 特許庁
To reduce interlayer capacitance between a wiring and a substrate in a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置における配線と基板との間の層間容量を低減できるようにする。 - 特許庁
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