「Interlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

The interlayer insulating film 3, the wiring interlayer films 41, 42, 43, and the protecting film 8 are constituted out of a single metal-diffusion preventing material for preventing the diffusions of the metal wirings 51, 52, 53.例文帳に追加

層間絶縁膜３、配線層間膜４１、４２および４３、並びに、保護膜８を金属配線５１、５２および５３の拡散を防止する単一の金属拡散防止材料から構成する。 - 特許庁

To provide a resin mold coil wherein a molded resin is not separated from interlayer insulators of a coil and a proper creep distance can be ensured without use of the interlayer insulators whose thickness and material is more than necessary.例文帳に追加

コイル層間絶縁物の厚さや材質を必要以上の絶縁物を採用することなく、モールド樹脂と絶縁物がはく離せず、クリープ距離を確保することができる樹脂モールドコイルを提供する。 - 特許庁

A third interlayer insulating film 23 is arranged to cover a second wiring layer 10, and a plurality of contact parts 12 that reach the second wiring layer 10 through the third interlayer insulating film 23 are arranged.例文帳に追加

第２配線層１０を覆うように第３層間絶縁膜２３が配設され、第３層間絶縁膜２３を貫通して、第２配線層１０に達する複数のコンタクト部１２が配設されている。 - 特許庁

A protective film exfoliating inspection is previously performed (s9)in a comparatively strong direction of interlayer strength in a manufacturing process of the sticking plate 10 so that interlayer exfoliation is not generated when a protective film 15 is exfoliated (s11).例文帳に追加

保護フィルム１５を剥がす（ｓ１１）際に、層間剥離が生じないように、貼合板１０の製造工程で、予め層間強度が比較的強い方向に、保護フィルム剥ぎ検査を行っておく（ｓ９）。 - 特許庁

To provide a method of forming a low-dielectric constant interlayer insulating film, which is good in moisture absorption-resisting property and heat resistance properties, a semiconductor processing device for forming the interlayer insulating film and a semiconductor device using the processing device.例文帳に追加

耐吸湿性、及び、耐熱性が良い低誘電率層間絶縁膜の形成方法、それを形成する半導体製造装置、及び、それを用いた半導体装置を提供すること。 - 特許庁

In the multilayer printed wiring board comprising a plurality of metal foils and conductor layers laid alternately in layers, an interlayer contact via pad provided in a first insulation layer, a wiring circuit, and an interlayer contact via bottom pad of a second insulation layer are provided in the same surface layer and the thicknesses at least of the interlayer contact via pad and the second insulation layer interlayer contact via bottom pad are identical.例文帳に追加

複数の金属箔と導体層を交互に積層してなる多層プリント配線板であって、第一の絶縁層に設けられた層間接続ビアパッドと配線回路と第二の絶縁層の層間接続ビア底部パッドが同一表面層に設けられ、かつ少なくとも当該層間接続ビアパッドと第二の絶縁層層間接続ビア底部パッドの厚みが同じであることを特徴とする多層プリント配線板。 - 特許庁

In the liquid crystal display device 12, in which the transparent interlayer 3 is provided between the liquid crystal display panel 1 and the transparent substrate 11 having a touch panel function and disposed on a front side of the liquid crystal display panel 1, the outermost periphery of the transparent interlayer 3 is shaped like a frame, and the same material is used to form a frame-shaped transparent interlayer 7 and the transparent interlayer 3 that constitutes an entire display area.例文帳に追加

液晶表示パネル１と該液晶表示パネル１の前面に配置されたタッチパネル機能を有する透明基板１１の間に透明な中間膜３を有する液晶表示装置１２に於いて，透明な中間膜３の最外周部分が枠状に形成されており，枠状の透明な中間膜７と表示部全体を構成している透明な中間膜３は同じ材料で構成されている。 - 特許庁

The process of forming the top electrode comprises processes of forming an interlayer insulation film on the base film 8 and on the dielectric film 12, forming an opening existing above the dielectric film in the interlayer insulation film, depositing a conductor inside the opening and on the interlayer insulation film, and forming the top electrode by removing the conductor from above the interlayer insulation film.例文帳に追加

上部電極を形成する工程は、下地膜８上及び誘電体膜１２上に層間絶縁膜を形成する工程と、層間絶縁膜に、誘電体膜上に位置する開口部を形成する工程と、開口部の中及び層間絶縁膜上に導電体を堆積する工程と、層間絶縁膜上から導電体を除去することにより上部電極を形成する工程とを具備する。 - 特許庁

The manufacturing method of the pigment dispersion comprises dispersing in water a pigment which has at least a part of interlayer ions in an interlayer compound ionically replaced by a dye ion having an opposite polarity to the interlayer ions, where the ion replacement of the interlayer ions by the dye ion and dispersion in water and atomization of the pigment is carried out in the same reaction vessel.例文帳に追加

層間化合物中の層間イオンの少なくとも一部が、前記層間イオンと逆の極性を示す染料イオンによってイオン置換されている顔料を水に分散する顔料分散液の製造方法であって、前記層間イオンの前記染料イオンへのイオン置換と、前記顔料の水分散及び微粒子化を同一反応容器内で行うことを特徴とする顔料分散液の製造方法。 - 特許庁

A lower layer Cu interconnect line 21 and an upper layer Cu interconnect line 41 are arranged through an interlayer dielectric 1.例文帳に追加

層間絶縁膜１を介して下層Ｃｕ配線２１と上層Ｃｕ配線４１とを配置する。 - 特許庁

The interlayer insulating film 16 is composed of a laminated layer of USG (undoped silicate glass) layer 16U and a silicon nitride film 16S.例文帳に追加

層間絶縁膜１６は、ＵＳＧ層１６Ｕと窒化シリコン膜１６Ｓとの積層膜からなる。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes steps of forming interlayer insulating films 10, 14, 18 as silicon oxide films on an SOI layer 3 of an SOI wafer, and printing the wafer ID on the interlayer insulating films by applying a laser beam on the interlayer insulating films.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、ＳＯＩウェハのＳＯＩ層３上にシリコン酸化膜からなる層間絶縁膜１０，１４，１８を形成する工程と、前記層間絶縁膜にレーザー光線を照射することにより、前記層間絶縁膜にウェハＩＤを印字する工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The second conductive interlayer insulating film 6 and the second conductive layer 7 are interconnected in common with the neighboring memory cell column.例文帳に追加

導電層間絶縁膜６、第二導電層７は、隣接するメモリセルカラムに共通の配線となる。 - 特許庁

The interlayer insulting film is polished by means of a CMP method until the diffusion protective film 26 is exposed.例文帳に追加

層間絶縁膜１０ａを拡散防止膜２６の部分が露出するまでＣＭＰ法により研磨する。 - 特許庁

This interlayer insulating film laminated structure is provided with an SiC film 4, an SiOC film 5 and an SiO_2 film 6.例文帳に追加

層間絶縁膜積層構造は、ＳｉＣ膜４、ＳｉＯＣ膜５、及びＳｉＯ_２ 膜６を有する。 - 特許庁

The wiring part 24 provided in the interlayer dielectric film 22 under the index body 10 is an analysis object.例文帳に追加

指標体１０の直下の層間絶縁膜２２に設けられた配線部２４が解析対象物となる。 - 特許庁

The first wiring layer 8 patterned in a specific shape is formed on the first interlayer insulating film 5.例文帳に追加

第１層間絶縁層５の上に所定形状にパターン化された第１配線層８を形成する。 - 特許庁

To provide a coating liquid for forming a silica-based film which gives an interlayer insulation film having a low dielectric constant.例文帳に追加

低誘電率な層間絶縁膜を得ることができるシリカ系被膜形成用塗布液を提供する。 - 特許庁

Then, a hole section 15a and a wiring groove 15b are successively subjected to patterning to the second interlayer insulating film 15.例文帳に追加

次に、第２の層間絶縁膜１５に孔部１５ａ及び配線溝１５ｂを順次パターニングする。 - 特許庁

By not forming a dummy via in a multi-layered wiring layer region formed of a wiring interlayer film having a dielectric constant higher than a low-dielectric-constant film in a region in which an electrode pad 113 is formed, it is possible to suppress propagation of cracks and peeling of the wiring interlayer film while performing planarization of the wiring interlayer film.例文帳に追加

電極パッド１１３形成領域の、低誘電率膜より誘電率の高い配線層間膜からなる多層配線層領域において、ダミービアを形成しないことにより、配線層間膜の平坦化を行いながら、クラックの伝搬と配線層間膜の剥がれを抑制することができる。 - 特許庁

Further, the contact holes 25 to 28 are formed in the top gate insulating film 18 and interlayer insulating film 19.例文帳に追加

また、トップゲート絶縁膜１８および層間絶縁膜１９には、コンタクトホール２５〜２８が形成されている。 - 特許庁

An interlayer insulating film 15 is formed over the entire surface on the insulating film 13 including the high-magnetic-permeability film 14.例文帳に追加

高透磁率膜１４を含む絶縁膜１３上全面に層間絶縁膜１５が形成される。 - 特許庁

To improve reliability of a device by suppressing change with time in an interlayer dielectric film in a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスにおける層間絶縁膜の経時変化を抑制し、デバイスの信頼性を向上する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜、層間絶縁膜、有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置 - 特許庁

SURFACE-EMITTING SEMICONDUCTOR LASER ARRAY DEVICE OF WHICH RELIABILITY IS IMPROVED BY STRESS CONTROL OF INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加

層間絶縁膜の応力制御により信頼性を改善した表面発光型半導体レーザアレイ素子 - 特許庁

The top face of the capacitor 50 and the top face of the second interlayer insulation film 13 are flush with each other.例文帳に追加

ここで、キャパシタ５０の上面と第１の層間絶縁膜１３の上面との高さは一致している。 - 特許庁

A contact plug 3 connected electrically with a MOS transistor is formed in a first interlayer insulating film 2.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタと電気的に接続されたコンタクトプラグ３を第１の層間絶縁膜２内に形成する。 - 特許庁

To improve stability of tracking servo by a tracking error signal which gets rid of effect of an interlayer stray light.例文帳に追加

層間迷光の影響を排除したトラッキングエラー信号により、トラッキングサーボの安定性を向上させる。 - 特許庁

The gap between the mold patterns is embedded for forming an interlayer insulating layer pattern for insulating the floating gates.例文帳に追加

モールドパターン間のギャップを埋め込んで浮遊ゲート間を絶縁する層間絶縁層パターンを形成する。 - 特許庁

A lower layer conductive region 11 and an upper layer wiring layer 13 are separated by an interlayer dielectric 12.例文帳に追加

下層導電領域１１と上層配線層１３は層間の絶縁膜１２により隔てられている。 - 特許庁

To prevent increase in the leakage current of a dielectrics, while enhancing adhesion between an electrode and an interlayer insulating film.例文帳に追加

電極と層間絶縁膜との密着性を高めつつ誘電体のリーク電流の増大を防止する。 - 特許庁

The interlayer insulation film can form a cavity at the position owing to a narrow trench of the gap section 10.例文帳に追加

層間絶縁膜は間隙部１０の狭い溝に起因して当該位置に空洞を形成し得る。 - 特許庁

To provide a method of forming an interlayer insulation film which has a superior mechanical strength and has a low dielectric constant.例文帳に追加

機械的強度に優れ且つ低誘電率の層間絶縁膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the crack of an interlayer insulating layer generated at the time of heat cycle, without causing reduction in peeling strength.例文帳に追加

ピール強度の低下を招かず、ヒートサイクル時に発生する層間絶縁層のクラックを防止すること。 - 特許庁

To prevent, in a semiconductor device composed of a low dielectric interlayer insulating film and a multilayer wiring, the surface of the low dielectric interlayer insulating film from being exposed to the atmosphere to absorb moisture, and further to prevent a metal wiring interfacial surface and the low dielectric interlayer insulating film from being exposed into a contact hole and hereby overetched.例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜と多層配線とを備える半導体装置において、低誘電率層間絶縁膜の表面が雰囲気に露出して吸湿するのを防止し、また、金属配線の界面及び低誘電率層間絶縁膜がコンタクトホール内に露出してオーバーエッチングされるのを防止することを目的とする。 - 特許庁

The interlayer insulating film is comprised of an inorganic insulating film 32 and the organic insulating film 33 formed on the inorganic insulating film 32.例文帳に追加

層間絶縁膜は無機絶縁膜３２上に有機絶縁膜３３を有する構成である。 - 特許庁

To provide: a positive radiation-sensitive composition which is based on polysiloxane, allows formation of an interlayer insulation film having high flatness or evenness of thickness without application irregularity, and has excellent radiation-sensitivity and development margin; the interlayer insulating film formed of the composition; and a method of forming the interlayer insulation film.例文帳に追加

塗布ムラのない高度な平坦性（膜厚均一性）を有する層間絶縁膜を形成することができ、かつ優れた放射線感度及び現像マージンを有するポリシロキサン系のポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成される層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法の提供。 - 特許庁

An interlayer insulating film 17 is formed in the trench 13 except formation of the gate electrode 15.例文帳に追加

また、ゲート電極１５の形成以外の溝部１３には層間絶縁膜１７が形成されている。 - 特許庁

The SRN film serves as a working stopper film when working an interlayer insulation film to expose the gate insulation film.例文帳に追加

SRN膜が層間絶縁膜を加工してゲート絶縁膜を露出する場合の加工のストッパ膜となる。 - 特許庁

The EQR electrode 8 is buried in the interlayer insulating film 7 to surround the active region 21.例文帳に追加

ＥＱＲ電極８は、層間絶縁膜７中にアクティブ領域２１を囲んで埋設されている。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device preventing peeling of an interlayer insulating film from a counter electrode.例文帳に追加

層間絶縁膜が対向電極から剥がれてしまうのを防止した液晶表示装置の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming an interlayer insulation film for improving video performance.例文帳に追加

動画性能を向上させられる層間絶縁膜を形成可能な感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To make feasible of forming an interlayer insulating film in low dielectric constant under the conventional resist process.例文帳に追加

通常のレジストプロセスを採用して、比誘電率が低い層間絶縁膜を形成できるようにする。 - 特許庁

Thereafter, a tunnel film 4, a floating gate 5, an interlayer insulating film 6 and the like are formed by a general method.例文帳に追加

その後は、一般的な方法により、トンネル膜４、フローティングゲート５、層間絶縁膜６等を形成する。 - 特許庁

A wiring 105 is then formed after a silicon oxide film 104 is deposited as an interlayer insulating film.例文帳に追加

次に、層間絶縁膜としてシリコン酸化膜１０４を堆積した後、配線１０５を形成する。 - 特許庁