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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Line Width Controlの意味・解説 > Line Width Controlに関連した英語例文

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Line Width Controlの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 137



例文

LINE WIDTH CONTROL CIRCUIT例文帳に追加

線幅制御回路 - 特許庁

IMAGE FORMING APPARATUS, LINE WIDTH CONTROL METHOD, AND LINEWIDTH CONTROL PROGRAM例文帳に追加

画像形成装置、線幅制御方法、および線幅制御プログラム - 特許庁

Further, the print control unit has a 2-dot line width change means for thickening line width by 2 dots when "automatic" is selected for the line width change in the UI determination means.例文帳に追加

さらに前記UI決定手段で線幅変更に関して「自動」が選択された場合線幅を2dot太らせる2dot線幅変更手段を備えた。 - 特許庁

The line width control information S1 is information to divide the target pixel X into 1/N to make the line width thin.例文帳に追加

この線幅制御情報S1は、注目画素XをN分割して線幅を細くする情報である。 - 特許庁

例文

A line control system 240 performs a prescribed line width control processing to the extracted pattern part.例文帳に追加

ライン制御システム240は、抽出されたパターン部位に対し、所定のライン幅制御処理を施す。 - 特許庁


例文

PULSE-WIDTH CONTROL CIRCUIT, SCANNING LINE DRIVE CIRCUIT AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

パルス幅制御回路、走査線駆動回路及び半導体集積回路 - 特許庁

RING LASER DEVICE AND CONTROL OF SPECTRUM LINE WIDTH OF RING LASER GYRO APPARATUS例文帳に追加

リングレーザー装置及びリングレーザージャイロ装置のスペクトル線幅の制御方法 - 特許庁

For example, a control of a trimming amount of the line width of the photoresist 105b is performed so that the line width of the photoresist 105b may be the same as the line width of the mask pattern constituted by the SiO_2 layer 103.例文帳に追加

例えば、フォトレジスト105bの線幅が、SiO_2層103からなるマスクパターンの線幅と同一になるようにフォトレジスト105bの線幅のトリミング量の制御を行う。 - 特許庁

To provide an image forming device which easily control the line width of a line extending in the sub-scan direction without changing the image data by image processing even if the line has a line width of one dot.例文帳に追加

副走査方向にのびる線の線幅を、線幅が1ドットの線であっても画像処理により画像データを変更することなく調節することが容易な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

例文

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING LINE WIDTH, METHOD AND DEVICE FOR PROCESSING IMAGE, LINE WIDTH CONTROL METHOD, IMAGE INPUT DEVICE, IMAGE OUTPUT DEVICE AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

線幅測定方法、線幅測定装置、画像処理方法、画像処理装置、線幅管理方法、画像入力装置、画像出力装置及び記録媒体 - 特許庁

例文

A vehicle automatic traveling system obtains a center line from a line with an arbitrary width by applying this distinction and makes a vehicle travel along the center line to control the speed of the vehicle.例文帳に追加

これを応用して任意幅の線から中心線を求め、中心線に沿って車両を走行させ、また速度を制御する。 - 特許庁

To provide a control method for making improvement in accuracy of width in a hot tandem rolling line.例文帳に追加

熱間タンデム圧延ラインにおける板幅精度向上を可能とする制御方法を提供する。 - 特許庁

To normally execute access to a memory with specified bit width by sharing a control line even in the case of a data bus with bit width equal to or less than the specified bit width by simple structure.例文帳に追加

簡単な構成で所定のビット幅以下のデータバスであっても制御ラインを共有して所定のビット幅のメモリに対するアクセスを正常に実行させることである。 - 特許庁

To precisely control the line width of a resist pattern in the longitudinal direction of a substrate to be processed, and between substrates to be processed.例文帳に追加

被処理基板の面内及び被処理基板間のレジストパターンの線幅を精度高く制御すること。 - 特許庁

To control the characteristics such as a line width of a pattern to be transferred using other characteristics than the upper limit of the spectrum width as spectrum characteristics of laser light.例文帳に追加

レーザ光のスペクトル特性として、スペクトル幅の上限値以外の特性を用いて、露光されるパターンの線幅等の特性を制御する。 - 特許庁

To provide an arc sensor control method which improves the detection performance in an arc sensor, in tandem oscillation welding, and further can perform accurate weld line copying control, oscillation width control and welding velocity control in accordance with the variation of a bevel width or a front layer bead width.例文帳に追加

タンデム揺動溶接において、アークセンサの検出性能を向上させるとともに、開先幅または前層ビード幅の変動に応じて、精度のよい、溶接線倣い制御、揺動幅の制御、溶接速度制御が可能なアークセンサ制御方法を提供する。 - 特許庁

A display width control part 206 examines the leading character of line data acquired from a display character information storage part 204, and the control part 206 adds an attribute of inter-character space reduction to line data of the preceding line, when detecting a character interdicted in the head of a line.例文帳に追加

表示幅制御部206は、表示文字情報蓄積部204から取得した行データの先頭文字を検討し、行頭禁則文字を検出したときは、前行の行データに文字間短縮の属性を付加する。 - 特許庁

By this setup, the line width of the resist pattern is predicted by the use of the above function models, a feed forward control can be realized, and the line width of the resist pattern and the thickness of the resist film can be controlled with high accuracy.例文帳に追加

これにより、上記関数モデルによって、例えば線幅を予測することによりフィードフォワード制御が可能となり、精密な線幅制御及びレジスト膜厚制御を行うことができる。 - 特許庁

Moreover, the control unit 161 changes settings of the exposing conditions of the exposure unit 5 to provide the constant line width of the wafer treated later by the coating development treatment system based on the trend of the line width.例文帳に追加

そして,制御装置161は,当該線幅の傾向に基づいて,今後塗布現像処理システムで処理されるウェハの線幅が一定になるように,露光装置5の露光条件の設定を変更する。 - 特許庁

To realize an image forming device capable of controlling the longitudinal/lateral width ratio without the need of sensing the line width at the time of executing a process control without cost increase.例文帳に追加

プロセスコントロールを行った際にも線幅を検知するようなことは行わず、コストアップを招かずに縦/横線幅比を制御することができる画像形成装置を実現する。 - 特許庁

A plotting control circuit 3 inputs an area decision signal S3 outputted from an area deciding part 4 and outputs a thick line width control signal S2 including information about the number of pixels corresponding to a thick line width, that is, pixels constituting the thick line width and information about a direction for plotting in each area to a counter part 2 for thick line plotting.例文帳に追加

描画制御回路3は、領域判定部4から出力される領域判定信号S3を入力し、太線幅に対応するピクセル数、すなわち太線幅が何ピクセルから構成されているのかについての情報と、領域毎に描画する方向についての情報とを含む太線幅制御信号S2を太線描画用カウンタ部2に出力する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method and apparatus which can control accurately the line width of a resist pattern formed on a substrate and can improve the uniformity of the line width of the entire part of a substrate or on a substrate surface.例文帳に追加

基板上に形成されたレジストパターンの線幅を精密に制御でき、基板ごと又は基板面内での線幅の均一性を向上させることができる基板処理方法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To control threshold voltage distributions of a cell connected to a last word line after programming to have a narrow width similarly to that of other cells.例文帳に追加

プログラム後の最後のワードラインに連結されたセルのしきい値電圧分布を他のセルと同様に狭い幅に調節する。 - 特許庁

The length of the both flow control members 23, 24 is set to be 1/2 or more of the width in the forward/backward direction of the pipe line 22 in the heat exchange pipe 4.例文帳に追加

両流れ制御部材23,24の長さを、熱交換管4における管路22の前後方向の幅の1/2以上とする。 - 特許庁

In the graph, when the control point is moved in a region A, the route line is displayed with low transparency and small width.例文帳に追加

グラフ中、領域Aに制御点が遷移しているときは、経路線は透過率が低く線の太さ細い表示態様である。 - 特許庁

A control portion adjusts the processing conditions of the post-exposure heat treatment unit based on results of measurement of the line width measurement unit 31.例文帳に追加

制御部は線幅測定ユニット31の測定結果に基づいて、露光後熱処理ユニットの処理条件を調整する。 - 特許庁

A signal line 82 is printed and formed so that the width can be2 mm and the length connecting a signal line A and a control signal input terminal 75 can be within 5 mm.例文帳に追加

信号ライン82は幅2mm以上で、且つ信号ラインAと制御信号入力端75を結ぶ長さが5mm以内になるようにプリント形成する。 - 特許庁

Main scan line synchronism variation control is performed by varying timing of a main scan line synchronizing signal, pulse-width, start timing of a driving clock of the CCD 303, etc.例文帳に追加

主走査ライン同期の変動制御は、主走査ライン同期信号のタイミング、パルス幅、CCD33の駆動クロックの開始タイミングなどを変動させることにより行なう。 - 特許庁

An aligner 9 by which the pattern of the mask R is exposed by exposure light B on the base plate P through a projection optical system 12, is provided with a line width detector to detect the pattern line width of the mask R and a controller 23 to control the exposure of the exposure light B based on the detected result of the line width detector.例文帳に追加

露光光BによりマスクRのパターンを投影光学系12を介して基板Pに露光する露光装置9において、マスクRのパターン線幅を検出する線幅検出装置と、線幅検出装置の検出結果に基づいて、露光光Bの露光量を制御する制御装置23とを備える。 - 特許庁

On the other hand, when the control point is moved in a region B on the opposite side, the route line is displayed with high transparency and large width.例文帳に追加

一方、反対側の領域Bに制御点が遷移しているときは透過率が高く線の太さが太い表示態様である。 - 特許庁

To provide an electron projection lithography method which appropriately corrects variations in the optimum dose caused by the proximity effect and has improved line width control.例文帳に追加

近接効果による最適ドーズ量の変動を適切に補正して、線幅制御性を向上させた露光方法を提供する。 - 特許庁

A lookup table 2 receives the surrounding pixel matrix S0 to provide an output of line width control information S1 of the target pixel X.例文帳に追加

ルックアップテーブル2は、周辺画素マトリクスS0を入力として受け、注目画素Xの線幅制御情報S1を出力する。 - 特許庁

To perform an image processing such as line width control or image emphasis equivalent to a binary image to an image subjected to antialias processing (gray edge processing).例文帳に追加

アンチエイリアス処理された画像に対し、バイナリ画像と同等の線幅制御や画像強調などの画像処理を可能にする。 - 特許庁

A main controller 28 changes a control factor of the system 100 contributing to the throughput, in response to a minimum line width of the pattern.例文帳に追加

また、主制御装置28が、パターンの最小線幅に応じてスループットに寄与する露光システム100の制御ファクタを変更する。 - 特許庁

The material pattern formation method by an ink-jet method gives a rectangular material pattern with good control performance of fine line width.例文帳に追加

本発明のインクジェット方式による材料パターン形成方法は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られる。 - 特許庁

To provide a fluid control device which further reduces an occupied space of a device by narrowing a width of a line.例文帳に追加

ラインの幅を狭くすることにより、装置の占有スペースをより一層減少することができる流体制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pulse-width control circuit, a scanning line drive circuit, and a semiconductor integrated circuit which operate with low power consumption and are small-sized and lightweight.例文帳に追加

低消費電力で動作し、小型・軽量なパルス幅制御回路、走査線駆動回路及び半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

A line width control section 3 receives the line width control information S1 as a input, and ORs an initial value of N-bit data equal to the number of divisions of the current pixel and (N-1) data bits to generate image data being fine divisions of the target pixel.例文帳に追加

線幅制御部3は、線幅制御情報S1を入力として受け、線幅情報から時分割クロックを用いて現画素の前記分割数と同じNビットデータの初期値と(N−1)個のデータビットの論理和をとり、注目画素を細分化した画像データを生成する。 - 特許庁

The inverter (62) has a pulse width modulated ac power output part that may be in synchronous control with pulse width modulated ac power output parts of other power supply parts via a control line between all power supply parts.例文帳に追加

インバータはパルス幅変調交流出力部を有し、パルス幅変調交流出力部は、全電源供給部間の制御ラインを介して他の電源供給部のパルス幅変調交流出力部と同期制御状態となる。 - 特許庁

To provide a method for forming a reverse tapered resist pattern having excellent chemical stability, line width controllability, and easiness for process control and handling.例文帳に追加

化学的安定性、線幅制御性、工程管理と取扱いの容易性の点で優れた逆テーパ形レジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Each of the plurality of conveyors 3 comprises a plurality of part conveyors 5 allowing the individual operational control and vertically disposed in a line in the car width direction.例文帳に追加

複数のコンベヤ3の各々は、個別に動作の制御ができる複数のパートコンベヤ5を車幅方向に縦列配置して構成されている。 - 特許庁

A control gate line CGL is connected to a plurality of memory cells MC arrayed in a y direction side by side in common and arrayed extending in the y direction, and the control gate line CGL has a first width D2 on the element region 10 and a second width D1 wider than the first width D2 on the element isolation region 20.例文帳に追加

y方向に並んで配列された複数のメモリセルMCに共通に接続されy方向に延びるように制御ゲート線CGLが配列され、制御ゲート線CGLは素子領域10上では第1の幅D2を有する一方素子分離領域20上では第1の幅D2より広い第2の幅D1を有する。 - 特許庁

To provide a manufacturing equipment of a porous stamp which can clearly leave the printing line of the stamping part at a desired thickness and can control the sealing film thickness and the line width by varying the thermal dose depending on the changes in the stamp material width.例文帳に追加

捺印部の印字線を所望の太さに、明瞭に残存させることができ、かつ、印材幅の変化に応じて加熱量を変動させることでシール膜厚や線幅を制御することが可能な多孔性印判の製造装置を提供すること。 - 特許庁

A line width control section 24 controls the line width for character region detection, when a ground area or a dot area is determined by using the determination results of a ground judging section 22 and a dot judging section 23.例文帳に追加

下地判定部22における判定結果と網点判定部23における判定結果とを用いて、線幅制御部24において下地領域もしくは網点領域と判断された場合に文字領域として検出する線幅の制御を行う。 - 特許庁

When the birefringence is 1.2 nm/cm or less, a pattern including an isolated line is exposed; when the birefringence is 2 nm/cm or less, a pattern including dense lines is exposed with high control accuracy of the line width; and when the birefringence is 4 nm/cm or less, a pattern containing dense lines is exposed at regular control accuracy of the line width.例文帳に追加

複屈折量が1.2nm/cm以下の場合には、孤立線を含むパターンを露光し、複屈折量が2nm/cm以下の場合には、密集線を含むパターンを高い線幅制御精度で露光し、複屈折量が4nm/cm以下の場合には、密集線を含むパターンを通常の線幅制御精度で露光する。 - 特許庁

A control point arranging means 4 for eye deformation obtains the width and height of left and right eyes from the position coordinates of the eyes, obtains rectangular eye areas and a held line segment and arranges control points for eye deformation at fixed intervals on these contours or line segments.例文帳に追加

目変形用制御点配置手段4では、目位置座標から左右の目の幅、高さを求めて目矩形領域とはさみこみ線分を求め、それらの輪郭や線分上に目変形用制御点を一定間隔で配置する。 - 特許庁

The scanning line driving circuit 13 can variably control the time width of the driving pulse DS successively outputted to respective scanning lines DSL independently per scanning line DSL and thus controls the driving time of each pixel 11 per scanning line.例文帳に追加

走査線駆動回路13は、各走査線DSLに順次出力する駆動パルスDSの時間幅を各走査線DSLごと独立に可変制御可能であり、以って走査線単位で各画素11の駆動時間を制御する。 - 特許庁

To provide a mage management printing method capable of realizing accurate page management control even when font size or line feed width in printing data is variable.例文帳に追加

印字データ中のフォントサイズや改行幅が可変である場合においても、正確なページ管理制御を実現できるページ管理印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of improving faithful reproducibility of a copied image, a printed image and line width of image data, and to provide a control method.例文帳に追加

コピー画像、プリント画像、画像データの線幅の忠実再現性を向上させることを可能とした画像形成装置及び制御方法を提供する。 - 特許庁

例文

To simply cope with fluctuation in the different width between an overhead-line voltage and an energy storage voltage by one of step-up voltage control or step-down voltage.例文帳に追加

架線電圧および蓄電電圧の異なった幅での変動に対し、昇圧制御、降圧制御の一方によって簡易に対応できるようにする。 - 特許庁




  
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