「PHOTO-REACTION」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

When the addressing light emitted from the external light emitting element 10 is accepted by the photo-addressable display element 7, the carrier is multiplied by the current amplification mechanism of the photoconductive layer and a voltage is applied on the electrochromic layer to cause the developing or erasing reaction only in the part where the addressing light is accepted and to display an image.例文帳に追加

外部発光素子１０から出射された書込み光が、光書込み表示素子７に受光されると、キャリアが光導電層の電流増幅機構によって増倍され、エレクトロクロミック層に電圧が印加されて、書込み光の受光部分のみに発消色反応が生じて表示が行われる。 - 特許庁

In addition, the reaction of the base generated from the base generator with an epoxy compound and the like progresses in chains when the base and a base reactive compound together compose a photosenstive resin composition, which is rapidly cured even at a room temperature level to provide a sufficient curing thereof, thus suitably applying it to a highly sensitive photo-curable material, a resist material and the like.例文帳に追加

また、塩基反応性化合物とともに感光性樹脂組成物を構成した場合にあっては、塩基発生剤から発生する塩基とエポキシ系化合物等との反応が連鎖的に進行し、室温レベルでも硬化が速やかに実施されて硬化が十分になされる感光性樹脂組成物となるので、例えば、高感度の光硬化材料やレジスト材料等に好適に用いることができる。 - 特許庁

The chemical amplification type photoresist comprises a base resin having such characteristic that the resin becomes insoluble in a basic developing liquid when the specific positions of the resin are linked with protective groups and the resin becomes soluble in the basic developing liquid when the protective groups of the resin are eliminated, a photo-acid generating agent which generates hydrogen ion when it is exposed to light and an agent inhibiting reverse reaction.例文帳に追加

開示される化学増幅系フォトレジストは、所定の部位に保護基が結合した状態では塩基性現像液に不溶化となり、保護基が離脱した状態では塩基性現像液に可溶化となるベース樹脂と、光が当たると、水素イオンを発生する光酸発生剤とを逆反応抑制剤とからなっている。 - 特許庁

To obtain a black matrix forming material which allows curing reaction to proceed sufficiently up to the interface between the material and a substrate and has a wide development latitude even if the concn. of a black pigment is high by incorporating an alkali-soluble resin, an acid crosslinkable methylolated melamine compd., a photo-acid generating agent, a specified dispersant and the black pigment.例文帳に追加

黒色顔料が高濃度であっても、基板界面まで充分硬化反応が進行し、現像の許容度が広く、成分の混合、塗布、乾燥工程だけでは硬化反応は進まず、露光部と未露光部の現像液に対する溶解性のコントラストが充分大きいカラー液晶表示装置用ブラックマトリックス形成材料を提供すること。 - 特許庁

The method for the production of the active substance comprises the mixing of an inorganic oxide with an organic molecule to form a precursor of an active substance having an organic oxide-organic molecule structure, the selective removal of the organic material from the precursor by photo- oxidation and the immersion of the produced inorganic oxide in a reaction solution to form an inorganic material on the surface of the inorganic oxide.例文帳に追加

また、本発明の活性物質の製造方法は、無機酸化物と有機分子とを混合して無機酸化物−有機分子構造を有する活性物質の前駆体を形成し、前記前駆体から有機物を光酸化により選択的に除去し、それによって得られた無機酸化物を反応溶液に浸漬することによって、前記無機酸化物の表面に無機物を形成させることを特徴とする。 - 特許庁

The invention relates to the polyimide precursor comprising an imide structure having a side chain of carbon-carbon double bond as a connecting group between imide groups, having already formed ring structure and a polyamic acid structure originating from a silicone diamine and relates to the photosensitive resin composition comprising the same and a (meth)acrylic compound having a carbon-carbon double bond and a photo reaction initiator.例文帳に追加

イミド基間の連結基として、炭素−炭素二重結合を側鎖に有するすでに閉環しているイミド構造と、シリコンジアミン由来のポリアミド酸構造とを有するポリイミド前駆体、及び、それに加え炭素−炭素二重結合を有する（メタ）アクリル化合物と光反応開始剤を含む感光性樹脂組成物。 - 特許庁

An environment improving particulate having a non-revolution shape is used to form an environment improving layer and photo-catalytic reaction of the environment improving particulate is utilized to give damage to structure of the plants in contact with the catalyst carried by the environment improving particulate so that growth of plants is checked and organic substances are removed.例文帳に追加

非回転形状を有する環境改善用粒体で環境改善層を形成し、環境改善用粒体の光触媒反応発生により、環境改善用粒体に担持させた光触媒に対して接触状態の植物の組織に損傷を及ぼして植物の生育を阻害するとともに、有機物の分解除去を行う。 - 特許庁

The surface of an oxide-base optical article is treated with a silane coupling agent containing a thiol group and a compound having an unsaturated bond and a hydrophilic group in one molecule is fixed on the treated surface by a ene-thiol reaction by photo graft polymerization, radiation graft polymerization, graft polymerization in an aqueous solution or another method to impart antifogging performance with excellent durability to the optical article.例文帳に追加

酸化物を主として含む光学物品の表面にチオール基を含むシランカップリング剤で処理した後、光グラフト重合法、放射線グラフト重合法、水溶液中でのグラフト重合法等により、分子中に不飽和結合及び親水性基を持つ化合物を、エン・チオール反応により表面に固定することによって耐久性に優れた防曇性能を光学物品に付与する。 - 特許庁

To provide a light irradiating device and a light irradiating method avoiding partial non-reaction of a photo-reactive adhesive layer by filling up illuminance reduction or stop of light-emission from one of light-emitting sources in one light-emitting means including the plurality of light-emitting sources with light from another light-emitting means.例文帳に追加

複数の発光源を有する発光手段において、その一部の発光源の照度が照度したり、発光しなくなったりしても、他の発光手段からの光で補填できるようにし、光反応型の接着剤層の部分的な未反応を回避することのできる発光装置及び光照射方法を提供すること。 - 特許庁

Also, the reaction of the base generated from the base generator with an epoxy compound and the like progresses in chains when the base and a base reactive compound together compose a photosensitive resin composition, which is rapidly cured at a room temperature level to provide a sufficient curing thereof, thus suitably applying to a highly sensitive photo-curable material, a resist material and the like.例文帳に追加

また、塩基反応性化合物とともに感光性樹脂組成物を構成した場合にあっては、塩基発生剤から発生する塩基とエポキシ系化合物等との反応が連鎖的に進行し、室温レベルでも硬化が速やかに実施されて硬化が十分になされる感光性樹脂組成物となるので、例えば、高感度の光硬化材料やレジスト材料等に好適に用いることができる。 - 特許庁

A CPU 200 of a main control substrate 20 detects a time from the start to the end of the token detecting reaction by a photo sensor 331 of a token sensor 34a and considers the generations of an abnormality when the detected time becomes a prescribed value or less to output an abnormality generation signal to a subordinate control substrate 30 and to an external concentration terminal substrate 25.例文帳に追加

主制御基板２０のＣＰＵ２００は、メダルセンサ３４ａのフォトセンサ３３１がメダルの検出反応を開始してから終了するまでの時間を検出し、この検出した時間が所定値以下となった場合に、異常が発生したと見なし、異常発生信号をサブ制御基板３０及び外部集中端子基板２５に出力する。 - 特許庁

The positive photothermosensitive recording material is provided on a support including a biaxialy stretched polymer sheet with a photothermosensitive recording layer containing a substantially colorless compound B having polymerizable groups and a color developing component A and a site for developing a color by reaction with A in the same molecule and a photo-polymerization initiator enclosed in thermoresponsive microcapsules and a photopolymerizable composition in the outside of the above microcapsules.例文帳に追加

二軸延伸ポリマーシートを含む支持体上に、熱応答性マイクロカプセルに内包された発色成分Ａと、同一分子内に前記発色成分Ａと反応して発色させる部位及び重合性基を有する実質的に無色の化合物Ｂと光重合開始剤とを含む、熱応答性マイクロカプセル外部の光重合性組成物とを含有する感光感熱記録層を有するポジ型感光感熱記録材料。 - 特許庁

To provide a method and a device for smoothly finishing the surface of a micro structural body at an optical level by improving a micro roughness on the surface of the micro structural body by defects of mask edge shape and a reaction in a resist when the micro structural body is finished by X-ray lithography or photo lithography including a lithography step in a LIGA process.例文帳に追加

ＬＩＧＡプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むＸ線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。 - 特許庁