「Pattern Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a lithography simulation method capable of predicting a pattern with high accuracy while suppressing increase in a calculation amount.例文帳に追加

計算量の増加を抑制しながら精度の高いパターン予測を可能とするリソグラフィーシミュレーション方法を提供すること。 - 特許庁

To increase accuracy of a cam angle signal/crank angle signal by a frequency multiplying clock output means, and to increase versatility of a pulse generation pattern.例文帳に追加

倍周クロック出力手段でカム角信号・クランク角信号の精度を高め、パルス発生パターンの汎用性を高める。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition having non- tackiness of a coating film, excellent in developability, resolution, pattern adhesion, development margin, curability and accuracy of pattern dimensions and suitable for ink for a color filter capable of forming a good pattern.例文帳に追加

塗膜のタックフリー性を備え、現像性、解像度やパターン密着性、現像マージン、硬化性、パターン寸法精度に優れ、良好なパターン形成が可能なカラーフィルター用インキに適した着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a photomask pellicle in which vibration of the pellicle is suppressed and distortion or aberration of a focused pattern during exposure are reduced when a photomask works during exposure, and a pattern image with little out-of-focus state or pattern distortion in the image and high accuracy can be obtained.例文帳に追加

露光中のフォトマスク動作時に、ペリクルの振動を抑制し、露光における結像パターンの歪や収差が緩和して、像のボケやパターン歪の少ない高精度なパターン像を得ることができるフォトマスク用ペリクルを得る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device provided with an etching process capable of applying a pattern work, uniform in the surface and excellent in accuracy without depending upon the roughness and fineness of a processing pattern.例文帳に追加

加工パターンの疎密に依存することなく面内均一に精度良好なパターン加工行うことが可能なエッチング工程を備えた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a mask pattern for exposure by which a high accuracy corrected shape can be obtained at a high speed in correction of the optical proximity effect of a mask pattern for exposure.例文帳に追加

露光用マスクパターンの光近接効果の補正処理において、高精度な補正形状を高速に得ることが可能な露光用マスクパターンの補正方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming technology for forming a pattern suitable for a flat display such as a plasma display panel, a field emission display and a fluorescent display tube with high accuracy at a low cost.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル、フィールドエミッションディスプレイ、および蛍光表示管等の平面ディスプレイに好適なパターンを、低コストで精度良く形成できるパターン形成技術を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method in which processing accuracy of a pattern is improved by improving the uniformity of drying state of a functional liquid body, and a droplet discharge apparatus.例文帳に追加

機能性液状体の乾燥状態の均一性を向上させることによりパターンの加工精度を向上させたパターン形成方法、及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide an X-ray projection aligner which can compensate for the magnification of projection and enables a desired fine pattern to be laid, with high accuracy on the circuit pattern on a wafer, prior to exposure.例文帳に追加

投影倍率の補正ができ、所望の微細パターンをウエハ上の回路パターンに高精度に重ねて露光することができるＸ線投影露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern layout method wherein the enhancement of design accuracy, shortening of a designing period, and reduction of design error are made possible by creating an exposure pattern to be transferred onto a substrate by exposure.例文帳に追加

基板上に露光される露光パターンを作成することにより、設計精度の向上、設計期間の短縮、設計ミスの低減が可能となったパターンレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

Then the accuracy is improved and the time is shortened about the DP matching by means of the feature points the extracted by employing both an equal-division method and an angle method and by means of the standard pattern of every sub-pattern.例文帳に追加

また、等分割法と角度法とを併用して抽出した特徴点とサブパターン毎の標準パターンとによってＤＰマッチングの精度向上と時間短縮を図る。 - 特許庁

To obtain the manufacturing method of a semiconductor device having a buried layer, which can miniaturize the dimension of the pattern of the buried layer and raises the dimensional accuracy of the pattern.例文帳に追加

埋め込み層を有する半導体装置の製造方法であって、埋め込み層のパターン寸法を微細化でき、また寸法精度を向上させた半導体装置の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device and this semiconductor device for improving the accuracy of the positioning of a lower layer pattern with an upper layer pattern in a photolithography process.例文帳に追加

ホトリソグラフィ工程において、下層パターンと上層パターンとの位置合わせの精度の向上を図ることができる半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To improve recognition accuracy in the case of performing non- parametric pattern identification while suppressing a memory capacity for storing a reference pattern even in the case that k of k nearest neighbor is ≥3.例文帳に追加

ｋ最近傍のｋが３以上の場合であっても、参照パターンを記憶するためのメモリ容量を抑制しつつ、ノンパラメトリックなパターン識別をおこなう場合の認識精度を上げること。 - 特許庁

To perform correction processing and verification processing of pattern data with high accuracy, to shorten a development term of a mask pattern and further, to improve a manufacturing yield of a semiconductor device.例文帳に追加

パターンデータの補正処理及び検証処理を精度よく行うことができるとともに、マスクパターンの開発期間を短縮でき、さらには、半導体装置の製造歩留まりを向上できる。 - 特許庁

To provide a method for forming electrodes with a prescribed pattern to at least a side face of a vibrator and forming an electrode pattern with high accuracy even when the vibrator is downsized.例文帳に追加

振動子の少なくとも側面に所定パターンの電極を形成する方法であって、振動子を小型化しても高精度で電極パターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To improve accuracy of an oscillator by reducing change in electric capacity of an electrode pattern and suppressing occurrence of floating capacity of the electrode pattern, in frequency adjustment of the oscillator.例文帳に追加

振動子の周波数調整において、電極パターンの電気容量の変化を低減し、電極パターンの浮遊容量の発生を抑制することで、振動子の精度を向上させる。 - 特許庁

To measure a pattern shape with high accuracy by correcting a measurement error caused by disturbance on the wave front of a reference light comprising 0-order diffraction light reflected from the pattern face of a diffraction optical element.例文帳に追加

回折光学素子のパターン面での反射０次回折光からなる参照光の波面の乱れに起因する測定誤差を補正して被検面の面形状を高精度に測定する。 - 特許庁

To provide a photomask enabling a high accuracy resist pattern to be formed, a resist pattern forming method using the same, a method of fabricating a component with a thin film and a method of fabricating a master information carrier.例文帳に追加

高精度なレジストパターンの形成を可能とするフォトマスク、それを用いたレジストパターン形成方法、薄膜付き部品の製造方法、およびマスター情報担体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device which is capable of detecting positions of a plurality of pattern forming regions set up on the surface of a substrate, carrying out an alignment process with high accuracy, and performing an exposure process accurately for the pattern forming regions.例文帳に追加

基板上に設定された複数のパターン形成領域の位置検出及びアライメント処理を精度良く行って精度良い露光処理ができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern prediction method and a pattern correction method allowing prediction or correction of a high accuracy feature without increasing a process time, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device, and a program.例文帳に追加

処理時間を増大させずに、高精度な形状の予測又は補正を可能とするパターン予測方法、パターン補正方法、半導体装置の製造方法、およびプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a method and system for electron beam lithography, by which a photomask can be fabricated with the same accuracy as that of the conventional methods by preventing an increase the writing time of a pattern with an OPC pattern.例文帳に追加

ＯＰＣ付パタンでの描画時間の増加を防ぎ、従来の方法と同等な精度でフォトマスクを作製可能な電子ビーム描画方法および描画装置を実現する。 - 特許庁

To provide a pattern matching method, an image processor and a computer program capable of performing pattern matching with high accuracy without being influenced by deformation of an edge or fluctuations of contrast.例文帳に追加

本発明は、エッジの変形、或いはコントラストの変動等に依らず、高精度にパターンマッチングを行うパターンマッチング方法，画像処理装置、及びコンピュータプログラムの提供を目的とする。 - 特許庁

In addition, since the specific pattern is detected in a wider range of an original by extracting the object area, detection accuracy of the specific pattern is raised more.例文帳に追加

また、対象領域を抽出することにより、原稿のより広い範囲について特定パターンを検出することができるため、特定パターンの検出精度をより高めることができる。 - 特許庁

To provide a pattern coater that can intermittently apply a highly adhesive material of a specified shape between sheet materials in a specified position with a high accuracy and a high efficiency to form an arbitrarily shaped pattern.例文帳に追加

所定形状の高粘度材をシート状物間の所定の位置に、任意の形状で正確かつ効率良く間歇塗布できるパターン塗工装置を提供することである。 - 特許庁

To provide an antireflection film material capable of preventing the deterioration of the accuracy of the form of a resist pattern due to the deactivation of an acid catalyst generated in exposure, and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

露光時に発生した酸触媒の失活に起因するレジストパターンの形状精度の悪化を防止しうる反射防止膜材料及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner which suppresses misalignment of an exposure position from a desired exposure pattern and which can form an exposure region with high accuracy according to a desired exposure pattern.例文帳に追加

所望の露光パターンに対して露光位置がずれてしまうことを抑制し、所望の露光パターンに従って高精度で露光領域を形成することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern layout for a liquid crystal display device, capable of shortening a design time while improving the design accuracy of an array pattern for the liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置のアレイパターンの設計精度を向上できるとともに設計時間を短縮できる液晶表示装置用パターンレイアウトの作成方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that the detection accuracy of fixed pattern noise components is low since measuring signals of fixed pattern noise reflecting the dispersion in a column direction of a transistor for read of pixels can not be outputted without being affected by a dark current.例文帳に追加

暗電流の影響を受けることなく、かつ画素の読み出し用のトランジスタの行方向のばらつきを反映した固定パターンノイズの測定信号を出力できない。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an imprint mold which is capable of forming a fine mold pattern with high pattern accuracy and is capable of finally removing a thin film pattern formed for etching processing on a substrate, without damaging the mold pattern.例文帳に追加

インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a mask blank and a method of producing a transfer mask, for obtaining desired flatness of the mask blank even when a thin film has a film stress, and preventing reduction in positional accuracy of a mask pattern as well as pattern shift and pattern defect during pattern transfer.例文帳に追加

薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a mask blank and a method of producing a transfer mask, for achieving a desired flatness of the mask blank even when a thin film itself has a film stress, and avoiding degradation in positional accuracy of a mask pattern or occurrence of a pattern displacement error and a pattern defect during pattern transfer.例文帳に追加

薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-curing composition giving a hardened body excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film, and a pattern forming method, and to provide a pattern using method using a pattern as a resist mask, electronic components, and an optical waveguide.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供すると共に、それを用いたパターン使用方法、電子部品及び光導波路を提供する。 - 特許庁

To solve the problem wherein image face curvature, pattern slippage, distortion and defocus in a pattern face are worsened and pattern accuracy on a wafer is worsened due to self weight deflection of a reticle itself, face distortion and exposure thermal distortion when the reticle is clamped and a pattern on the reticle face is projected.例文帳に追加

レチクルをクランプし、レチクル面上のパターンをウエハ上に投影する際に、レチクル自身の自重タワミおよび面歪みおよび露光熱歪みにより、像面湾曲、パターン横ずれ、ディストーション、パターン面内デフォーカスが悪化し、ウエハ上パターン精度が悪化する問題を無くする。 - 特許庁

To provide a radiation-curing composition giving a hardened body excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film, and a pattern forming method, and to provide a pattern using method using the pattern as a resist mask, electronic components, and an optical waveguide.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供すると共に、それを用いたパターン使用方法、電子部品及び光導波路を提供する。 - 特許庁

To provide a scan exposure device using a microlens array, which is capable of increasing the accuracy of an exposure pattern in overlay exposure by, even in the case of the occurrence of deviation of the exposure pattern from a reference pattern, detecting the deviation during exposure to be able to prevent displacement of the exposure pattern.例文帳に追加

露光パターンの基準パターンからのずれが発生しても、露光中にこのずれを検出して、露光パターンの位置ずれを防止することができ、重ね露光における露光パターンの精度を向上させることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask, having a light shielding film in which a semitransparent phase shift film pattern can be formed, without being influenced by the dimensional accuracy of the light-shielding film pattern and proper dimensional accuracy can be obtained.例文帳に追加

遮光膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法において、半透明位相シフト膜パターンが、遮光膜パターンの寸法精度の影響を受けずに形成ができ、寸法精度が良好であるハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a step-system proximity exposure method that can enhance the transfer accuracy of an exposure pattern onto a substrate, even when detection accuracy of an optical measurement sensor, such as a laser interferometer, tends to deteriorate.例文帳に追加

レーザ干渉計等の光学的計測センサの検出精度が低下しやすい場合であっても、基板上の露光パターンの転写精度を高めてることができるステップ式近接露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilevel gradation photomask, by which a resist level difference structure having different resist residual film values within the film plane can be formed with high accuracy, and thereby, a mask pattern with high accuracy can be formed.例文帳に追加

面内でレジスト残膜値の異なるレジスト段差構造を精度良く形成することができ、これによって精度の高いマスクパターンを形成できる多階調フォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can improve the accuracy of wiring connection to a semiconductor element, etc. and the forming accuracy of a wiring pattern and to provide a method of manufacturing the semiconductor device and an electronic apparatus.例文帳に追加

半導体素子などに対しての配線接続の精度及び配線パターンの形成精度を向上させることができる半導体装置、半導体装置の製造方法および電子機器を提供する。 - 特許庁

To improve a degradation in tracking accuracy on a boundary portions between cardiac chambers and cardiac muscle due to the influence of speckle pattern noise caused by a contrast medium.例文帳に追加

造影剤によるスペックルパターンノイズの影響による心腔と心筋との境界部分のトラッキング精度の低下を改善すること。 - 特許庁

To provide a method for pattern formation capable of affording in high accuracy, well-balanced filter patterns and fluophor patterns, and capable of improving the yielding percentage and/or lowering the cost.例文帳に追加

健全なフィルタパターンと蛍光体パターンが高精度に得られ、歩留まり向上や低コスト化が可能なパターン形成方法を得る。 - 特許庁

To provide a piezoelectric vibrating body which has a highly accurately formed minute pattern on upper and lower sides of a piezoelectric vibrator with high accuracy to thereby prevent a cross sectional part from being short- circuited.例文帳に追加

圧電振動子の上下面の微細パターンを高精度に形成し、断面部のショートを防止した圧電振動体の提供。 - 特許庁

To provide a pattern recognizing device more improved in accuracy in comparison with a conventional recognizing device for performing rough classification on the basis of main component analysis or the like.例文帳に追加

主成分分析等に基づいて大分類を行う従来の認識装置と比べ、より高精度なパターン認識装置の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a circuit arrangement capable of exposing the electric conduction pattern from coated resin with ease and sufficient accuracy.例文帳に追加

被覆樹脂からの導電パターンの露出を容易かつ精度良く行うことが可能な回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁