「Pattern Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide: an electron gun capable of obtaining desired pattern dimensions and pattern accuracy; a charged particle beam lithography system; and a charged particle beam lithography method.例文帳に追加

所望のパターン寸法とパターン精度を実現することが可能な電子銃および荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a ceramic green sheet with wiring pattern, with a thin formation having the formed wiring pattern with high accuracy, without producing a crack on the ceramic green sheet.例文帳に追加

セラミックグリーンシートにクラックが発生することなく、高精度に配線パターンが形成された薄型化が可能な配線パターン付きセラミックグリーンシートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of performing exposure processing with accuracy by preventing deterioration in a pattern image, when exposing a pattern onto a substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介してパターンを基板に露光する際、パターン像の劣化を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To surely and easily grasp the positional deviations between the respective line pattern groups with high accuracy in drawing a plurality of line pattern groups with different angle directions on a substrate.例文帳に追加

基材上に角度方向の異なる複数の直線パターン群を描画する際の各直線パターン群間の位置ずれ量を高精度で確実且つ容易に把握すること。 - 特許庁

To improve pattern size accuracy by suppressing generation of fault in resist pattern resulting from residual drops of liquid and localization of bubbles on the occasion of liquid immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光の際の液滴の残留や気泡の局在化に起因するレジストパターンの欠陥発生を抑制することができ、パターン寸法精度の向上をはかる。 - 特許庁

Distortion of the irradiation pattern is matched with the distortion of the irradiation object pattern, to perform overlay exposure with higher accuracy by respectively controlling the magnetic field of coil 20 or electric field of electrode.例文帳に追加

コイル２０の磁界又は電極の電界を各々制御することにより照射パターンの歪みを被照射パターンの歪みに合わせ、高い精度で重ね合わせ露光する。 - 特許庁

To improve drawing accuracy by effectively suppressing stretching of a pattern drawn on a substrate in a scanning direction, without performing complicated processing to correct CAD data of the pattern.例文帳に追加

パターンのＣＡＤデータを補正する複雑な処理を行うことなく、基板に描画されるパターンの走査方向への伸びを効果的に抑制して、描画精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a method of forming a barrier rib for plasma display panel having sufficient height and accuracy while perfectly eliminating a non- pattern part without dissolving a pattern part.例文帳に追加

パターン部分は溶失することなく、非パターン部分は完全に除去されて高さと精度が十分なプラズマディスプレー用の隔壁の形成が可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device, an exposing method and a device manufacturing method suppressing deterioration of formation accuracy of a pattern formed on a substrate in exposing a pattern image on the substrate.例文帳に追加

基板にパターン像を露光する際に、基板に形成されるパターンの形成精度の悪化を抑制できる露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the prescribed pattern is detected from the image data whose background density is eliminated in this way, the prescribed pattern embedded with the inhibit information or the like can be detected with high accuracy.例文帳に追加

これにより、地肌を除去した画像データから所定のパターンを検出するようにしたので、禁止情報などが埋め込まれた所定のパターンを精度良く検出できる。 - 特許庁

To provide a method for forming a thin-film pattern having a fine pattern width with high accuracy without depending on the resolution limit of an aligner.例文帳に追加

露光装置の解像限界に依存せずに、微小なパターン幅を有する薄膜パターンを高精度に形成することが可能な薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of performing exposure processing with accuracy by preventing deterioration in a pattern image, when exposing a pattern onto a substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介してパターンを基板に露光する際、パターン像の劣化を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mold for imprinting which can smoothly proceed dry etching to a hard mask layer and forms a fine pattern with high pattern accuracy.例文帳に追加

ハードマスク層に対するドライエッチングの進行をスムーズに行うことができ、高いパターン精度で微細パターンを形成するインプリント用モールドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing device and a method for manufacturing a color filter by which a pattern figure can be formed with high accuracy even when the pattern figure is continuously formed.例文帳に追加

連続してパターン形状を形成する場合でも、精度よくパターン形状を形成することができるカラーフィルタの製造装置および製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern film formation method capable of forming a thin film by a vacuum film deposition method having high accuracy and highly fine pattern with high productivity and low cost.例文帳に追加

高精度かつ高精細なパターンを有する真空成膜法による薄膜を、高い生産性かつ低コストで形成することができるパターン膜形成方法を提供する。 - 特許庁

Since positioning for selecting the grating pattern does not require high accuracy, high-speed selection of the grating pattern can be executed compared to the case when the diffraction grating is rotated.例文帳に追加

この格子パターンの選択のための位置合わせは、高精度を要しないので、回折格子を回転させる場合に比して、高速に格子パターンの選択が可能である。 - 特許庁

To stably manufacture a semiconductor device by measuring the size of a gate electrode on the activation region of a circuit pattern or a QC pattern, with high accuracy in a size inspection stage.例文帳に追加

寸法検査工程において、回路パターンまたはＱＣパターンの活性化領域上のゲート電極寸法を高精度に計測し、半導体装置を安定して製造する。 - 特許庁

To enhance the contrast of a resist and to improve pattern accuracy, in a pattern forming method, using excimer laser light that has a wavelength of ≤200 nm for the exposure light.例文帳に追加

波長２００ｎｍ以下のエキシマレーザー光を露光光として用いたパターンの形成方法において、レジストのコントラストを向上させて、パターン精度を改善する。 - 特許庁

To provide a method for verifying a photomask pattern with high accuracy and high reliability for decreasing unnecessary correction by comparing with CAD pattern data after performing simulation of light intensity.例文帳に追加

光強度シミュレーション実施後のＣＡＤパターンデータとの比較検証で、無駄な修正を低減し、高精度で信頼性の高いフォトマスクパターンの検証方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern formation method by which the dimensional accuracy of the pattern of a photomask is enhanced and a photomask having no harmful effect on a wafer step and easy to put to practical use can be manufactured.例文帳に追加

フォトマスクのパタン寸法精度を向上させ、さらにウエハ工程への悪影響がなく、実用が容易であるフォトマスクを作製できるマスクパタン形成方法を提供 - 特許庁

To provide a thin film pattern deposition method capable of easily forming a pattern of high accuracy and large area, and an organic electric field light emission and display device (organic EL display) manufacturing method using the thin film pattern deposition.例文帳に追加

高精度かつ大面積のパターンを簡易に形成することができる薄膜パターンの形成方法、および、これを用いた有機電界発光表示装置（有機ＥＬディスプレイ）の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for generating lithographic pattern data which can convert pattern data to lithographic pattern data for an objective electron-beam exposure system and the processing of which is practical and has no problem in accuracy.例文帳に追加

図形データを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、且つ、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a transparent substrate with a circuit pattern, having a circuit pattern not generating a disconnection when used as an electrode of an electronic circuit, etc., without pattern exfoliation and residual resist, and with good patterning accuracy.例文帳に追加

パターン剥がれやレジスト残りがなくパターン精度が良好で、電子回路等の電極として用いたときに断線を生じない回路パターンを有する回路パターン付き透明基板を製造する方法の提供。 - 特許庁

To provide a collation method of a foreign matter distribution pattern capable of quickly and quantitatively estimating collation accuracy indicating the degree of collation of both of the foreign matter distribution pattern and a reference pattern of a semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加

異物分布パターンと半導体製造装置の基準パターンの両パターンの一致の程度を示す照合確度を迅速に且つ定量的に求めることが可能な異物分布パターンの照合方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a microparticle pattern excellent in pattern controllability, pattern accuracy and productivity; and to provide a method for producing a single electron device, a magnetic recording medium, a chemical sensor, a quantum dot laser device or a photonic crystal optical device.例文帳に追加

パターン制御性、パターン精度及び生産性に優れた微粒子パターン形成方法および単電子素子、磁気記録媒体、化学センサ、量子ドットレーザー素子、フォトニック結晶光学デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a phase shift mask in which generation of an unnecessary pattern can be suppressed with high accuracy by accurately extracting the position where an unnecessary pattern due to overlapping of side lobes on transferring a pattern is generated.例文帳に追加

パターン転写時のサイドローブ重なりによる不要パターンの発生位置を的確に抽出することにより、高精度に不要パターンの発生を抑えることが可能な位相シフトマスクの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for printing a pattern capable of printing the pattern having a good printing accuracy in a short time without repeating a complicated work and printing a thick film, printing the pattern on a recess part of a base or the like.例文帳に追加

煩雑な作業を繰り返すことなく、短時間で印刷制度が良いパターン印刷が可能であるとともに、厚膜印刷や基板等の凹部へのパターン印刷をも可能なパターン印刷方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for setting and registering reference pattern, with which the position of a reference pattern can be exactly set and registered even when thinning processing is performed, and a pattern matching recognizing method for improving recognition accuracy.例文帳に追加

間引き処理を行った場合でも基準パターンの位置を正確に設定登録が可能な基準パターン設定登録方法と認識精度を向上させるパターンマッチング認識方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern transfer device, a pattern transfer method and a program, which are capable of correcting the transfer pattern in accordance with the distortion of a body to be transferred and capable of improving the registration accuracy with the body to be transferred.例文帳に追加

被転写体の歪みに合わせて転写パターンを補正することができ、被転写体との重ね合わせ精度を向上させることができるパターン転写装置、パターン転写方法およびプログラムを提供する。 - 特許庁

To secure good pattern forming, ink reception, changeability and a positional accuracy even for a flat plat shape work having a big size.例文帳に追加

大きなサイズの平板状のワークに対しても、良好なパターン形成、インキ受理・転移性および位置精度を確保する。 - 特許庁

To form a pattern suitable for a flat panel display such as a PDP, an FED, and a fluorescent display tube at low cost with high accuracy.例文帳に追加

ＰＤＰ、ＦＥＤ、および蛍光表示管等の平面ディスプレイに好適なパターンを、低コストで精度良く形成する。 - 特許庁

Therefore, the state of the passenger sitting can be estimated with a high accuracy non-invasively by using the pressure pattern data.例文帳に追加

従って、圧力パタンデータを用いて非侵襲的に着座乗員の状態を高精度に推定することができる。 - 特許庁

To provide a charged particle beam for suppressing variations in magnetic field at manipulator operation and improving an accuracy of pattern formation.例文帳に追加

マニュピレータ作動時の磁場変動を抑え、パターン形成精度を向上させた荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To form a drawing pattern with high accuracy by appropriately correcting a drawing position according to deformation of a drawing object such as a substrate.例文帳に追加

基板等の被描画体の変形に応じて描画位置を適切に補正し、精度よく描画パターンを形成する。 - 特許庁

To improve the accuracy of an extraction of a suggestion query by suppressing semantic drift caused by a presence of a generic pattern.例文帳に追加

ジェネリックパターンの存在に起因して生ずる意味ドリフトを抑制し、サジェスチョンクエリの抽出の精度の向上を図ること。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING PATTERN, AND METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING SUPERPOSING ACCURACY例文帳に追加

パターン検出方法及びパターン検出装置、並びに重ね合わせ精度測定方法及び重ね合わせ精度測定装置 - 特許庁

To provide a method for designing a gray scale mask to be used for forming a desired pattern on a substrate with high accuracy.例文帳に追加

所望のパターンを基板上に精度よく形成するために使用されるグレースケールマスクの設計方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device which eliminates an erroneous detection of false defect macroscopically, and enables high defect detection accuracy microscopically.例文帳に追加

マクロには擬似欠陥の誤検出がなく、ミクロには欠陥検出精度が高いパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an optical sheet which is excellent in the accuracy of a straight line-shaped array pattern on the surface.例文帳に追加

本発明は、表面に直線状の配列パターンの精度に優れた光学シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, a transfer pattern which is minuter than the limit of working accuracy during the production of an imprinting mold to be used can be obtained.例文帳に追加

よって、用いるインプリントモールドの製造時の加工精度の限界よりも更に微細な転写パターンを得ることが出来る。 - 特許庁

To prevent variations in accuracy of an element pattern due to changes in the thickness of resist film, where the substrate as a whole cannot be heated uniformly.例文帳に追加

基板全体を均一に加熱できないため、レジスト膜厚が変化し、素子パターンの精度にばらつきが発生する。 - 特許庁

To obtain an optical waveguide and a method for manufacturing an optical waveguide by which a cured product with excellent pattern accuracy or the like is obtained.例文帳に追加

パターン精度等に優れた硬化物が得られる光導波路ならびに光導波路の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for pattern film deposition in which the accuracy of the relative position between patterns can be improved.例文帳に追加

パターン間の相対位置の精度を向上させることが可能な成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide electric discharge-machining equipment which corrects a position of a machining electrode according to a jump pattern to improve machining accuracy.例文帳に追加

ジャンプパターンに応じて加工電極の位置を補正し、加工精度の向上が図られた放電加工機を提供する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining apparatus that can accurately project a mask pattern on a workpiece and has excellent machining accuracy.例文帳に追加

マスクパターンを被加工物上に精度良く投影することができ、加工精度に優れるレーザ加工装置を提供すること。 - 特許庁