「Pattern Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing an optical waveguide, which produces a core part (optical path) which has a high optical transmission performance, a large degree of freedom in designing a pattern form, and a high dimensional accuracy with a simple method, and to provide an optical waveguide manufactured by the method and to provide an optical waveguide structure equipped with the optical waveguide.例文帳に追加

本発明の目的は、光伝送性能が高く、また、パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができる光導波路の製造方法、この製造方法により製造された光導波路、および、これを備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a transparent conductive laminate which improves pattern alignment accuracy of a plurality of transparent conductive films by suppressing a dimensional change due to heat applied during a post process by conducting crystallization of a transparent conductive layer in a short time and a heat contraction processing of a substrate prior to patterning and joining of the conductive layer.例文帳に追加

短時間で透明導電層を結晶化させること、及び、基板の熱収縮処理を行い、導電層のパターニング、貼り合せの前に、後工程で加えられる熱による寸法変化を抑制することで、複数の透明導電性フィルムのパターン位置合わせ精度を向上させる透明導電性積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The marks for measurement are composed of plural main patterns 114 which are arranged apart a prescribed pitch 111 along the measurement direction (121) of the superposition accuracy and auxiliary patterns 113 and 115 which are made equal in the pitch 112 with the first pattern described above to the prescribed pitch 111 described above.例文帳に追加

測定用マークは、重ね合わせ精度の測定方向（１２１）に沿って所定のピッチ（１１１）をおいて配置された複数の主パターン（１１４）と、複数の主パターンに対して測定方向の前後に各々設けられ、前記第１パターンとのピッチ（１１２）が上記所定のピッチ（１１１）と等しくされた補助パターン（１１３，１１５）とから構成される。 - 特許庁

To provide a hybrid printer in which an image of a free pattern can be drawn in a short time with high accuracy on a three-dimensional shape, e.g. a nail, by making the most use of the features of ink jet system and pad print system without requiring any troublesome work of a user and without contaminating the periphery of the printer significantly.例文帳に追加

インクジェット方式とパッド印刷方式の両方の長所を生かして、爪などの立体形状の上に自由な図柄の画像を短時間に精度良く多色に描くことができ、その際、利用者に煩わしい作業を行わせることなく、かつ、装置周辺を汚すことが比較的少ないハイブリッド印刷装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To prevent the degradation of estimation accuracy in learning algorithm caused by the unbalance of the number of samples among population group by controlling contribution in learning algorithm of samples belonging to each population group when a standard pattern for recognizing a voice of unspecified users is made from time series of features of voices uttered by plural speakers.例文帳に追加

複数の話者が発声した音声の特徴量の時系列から不特定話者の音声認識用標準パターンを作成する際に、各々の母集団に属しているサンプルの学習アルゴリズムにおける寄与を制御することにより、母集団間のサンプル数の不均衡による学習アルゴリズムにおける推定精度の低下を改善する。 - 特許庁

To obtain such an inorganic particle-containing resin composition and a transcribing film usable suitably for forming a pattern with a high dimensional accuracy and that is excellent in the storage stability and is preferably used for the formation of a panel material such as a dielectric layer in a plasma display panel, an electrode, a phosphor, a color filter, a partition wall and a black stripe (a matrix).例文帳に追加

寸法精度の高いパターンを形成するために好適に使用することが可能な、保存安定性に優れる、プラズマディスプレイパネルの誘電体層、電極、蛍光体、カラーフィルター、隔壁、ブラックストライプ（マトリクス）などのパネル材料の形成に好ましく用いられる無機粒子含有樹脂組成物および転写フィルムを提供すること。 - 特許庁

To improve inspection accuracy for missing electronic components in a circuit board which is provided with an insulating substrate 10, a conductor pattern 2 formed on the surface of the substrate 10 and a plurality of electronic components 4 and by which at least two types of electronic circuits can be constituted, depending on the types, the number and/or arrangement of the electronic components.例文帳に追加

絶縁基板10と、該絶縁基板10の表面に形成された導体パターン２と、該導体パターン２上に実装された複数の電子部品４とを具え、電子部品４の種類、数及び／又は配置によって少なくとも２種類の電子回路を構成することが可能な回路基板において、電子部品の欠品の検査精度を高める。 - 特許庁

To provide a reflective mask, capable of obtaining a reflection signal having sufficient contrast even for a reflective mask for EUV exposure, when detecting an alignment mark using a laser drawing device, thus forming a resist pattern for forming a light-shielding region with good position accuracy, and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

本発明は、ＥＵＶ露光用の反射型マスクにおいても、レーザ描画装置を用いてアライメントマークを検出する際に、十分なコントラストを有する反射信号を得ることができ、それゆえ、位置精度良く、遮光領域形成用レジストパターンを形成することができる反射型マスク、およびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

Engine torque estimation is calculated from an engine torque characteristic in an engine torque estimation arithmetic means, by an engine torque estimated value correcting means and an engine torque estimated value learning means, accuracy of the engine torque estimated value is improved, a target torque pattern of an engine and a motor generator is generated in accordance with an operating condition of a hybrid vehicle based on the engine torque estimated value.例文帳に追加

エンジントルク推定演算手段でエンジントルク特性からエンジントルク推定を演算し、エンジントルク推定値補正手段、エンジントルク推定値学習手段により、前記エンジントルク推定値の精度を向上させ、前記エンジントルク推定値をもとにハイブリッド車両の運転状態に応じて、エンジン及び電動発電機の目標トルクパターンを発生する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter in which a fine pattern can be formed with high accuracy by uniformizing the luminous energy in two-dimensionally distributed picture drawing units, in particular, a black image can be formed with high definition and extremely little variance in the line width, and to provide a color filter having excellent display characteristics, and a display apparatus using the color filter.例文帳に追加

２次元的に分布した各描画単位の光量を均一化することにより、微細なパターンを高精度に形成可能であり、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、高精細に形成可能なカラーフィルタの製造方法、及び表示特性に優れたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた表示装置を提供する。 - 特許庁

An interpolation processing circuit 14 processes signals of pixels laid out in a checkered pattern and having the sensitivity of G light with high accuracy, color difference signals are calculated respectively at pixel positions of R and B lights, interpolation processing circuits 18, 19 apply interpolation processing to the color difference signals, synthesizing the color difference signals for all the pixels can obtain color pixel signals almost without a color false signal.例文帳に追加

市松状に配置されたＧ光の感度を有する画素信号を高精度に補間処理回路１４を用いて処理し、Ｒ，Ｂ光の画素位置でそれぞれ色差信号を算出し、補間処理回路１８，１９による補間処理を行い、全画素の色差信号を合成することで、色偽信号のほとんどないカラー画素を得る。 - 特許庁

By determining a width of the peripheral region to be 1.62λ/NA inside from the boundary with the other cell library (wherein λ is the wavelength of exposure light used for pattern exposure and NA is the numerical aperture of the lens in an exposure apparatus), the correction amount of the OPC can be adjusted with high accuracy and the time required for the OPC processing can be reduced.例文帳に追加

このとき、上記周辺領域の幅を、他のセルライブラリとの境界から内側に１．６２λ／ＮＡ（λはパターン露光に用いる露光光の波長、ＮＡは露光機のレンズの開口数）とすることにより、上記ＯＰＣの補正量を高精度に調整することができるので、ＯＰＣ処理に要する時間を削減することができる。 - 特許庁

When manufacturing an outer lens 14, a photolithography process comprising respective processes of resist coating, exposure and development is performed on a bilayer substrate 23 consisting of a flat surface substrate 21 and a flexible substrate 22, thereby, a dot pattern of a photomask 25 is accurately transferred to a resist layer 24 and a resist fine structure 24a assured of forming accuracy can be manufactured.例文帳に追加

アウターレンズ１４の製造に際して、レジスト塗布、露光及び現像の各工程からなるフォトリソグラフィ工程を、平面基板２１及びフレキシブル基板２２からなる二層基板２３上で行うことにより、フォトマスク２５のドットパターンをレジスト層２４に正確に転写し、形成精度の確保されたレジスト微細構造体２４ａを製作する。 - 特許庁

When the lines 95a and 95b cross the area 92 at the same speed, they have equal covering area per unit time from starting covering the area 92 until perfectly covering it up, and detection output from the sensor becomes trapezoidal waveform and a boundary between a belt surface and a pattern surface is sharp, whereby detecting accuracy is improved.例文帳に追加

直線９５ａ、９５ｂが同一速度で検出領域９２を横切った場合、いずれも、検出領域を覆い始めてから覆い尽くすまでの間、単位時間当たりの覆い隠す面積は等しくなり、センサーからの検出出力は台形の波形となり、ベルト面とパターン面の境界線が鮮明で、検出精度が向上する。 - 特許庁

In a transistor comprising a gate electrode 11, a gate insulating film 2, a source electrode 17, a drain electrode 16 and the organic semiconductor layer 3 formed on a substrate, the sealing layer 4 is included on the semiconductor layer, and a printing method is used for its formation to form a stripe shape, by which a pattern is simply formed, and high alignment accuracy is obtained together with the high yield.例文帳に追加

基板上に形成されたゲート電極１１、ゲート絶縁膜２、ソース電極１７、ドレイン電極１６および有機半導体層３を含んでなるトランジスタにおいて、半導体層上に封止層４を有し、その形成に印刷法を用い、ストライプ状にすることで、簡易にパターンを形成でき、歩留まりよく、高いアライメント精度が得られる。 - 特許庁

To provide a stacked antenna for circularly polarized wave that relates to an antenna adopting a microstrip structure for a hand-held type mobile phone in mobile communication, adopts a structure not needing hole processing for the purpose of ease of manufacture without requiring high accuracy, even for pattern manufacture, and is a stack antenna suitable for mass- production and industrialization, especially having sufficient separation between transmission and reception.例文帳に追加

この発明は、移動体通信におけるハンドヘルド型携帯電話機用のマイクロストリップ構造のアンテナに関し、穴加工を必要としない構造を採用していて製作が容易であり、また、パターン製作にも高精度を要しないで、大量生産に向き工業化に適しているスタックアンテナ、特に送受信間の分離度が十分な円偏波スタックアンテナを提供することを目的とする。 - 特許庁

The transparent material for forming the lattice structure is formed of a silicon nitride film and has a thickness of 800 nm or less, and provides a wide band quarter-wave plate which has a thin film thickness and is easily processed, and accordingly can enhance accuracy of a required phase difference and high transmissivity, by making a cross-sectional shape of each line pattern into a trapezoidal shape according to required characteristics.例文帳に追加

本発明は、格子構造を形成するための透明性材料は、窒化シリコン膜からなり、その厚さは８００ｎｍ以下であり、要求特性に応じ各ラインパターンの断面形状を台形形状とすることにより、薄い膜厚で加工しやすく、従って必要な位相差と高い透過率の精度を向上することができる広帯域１／４波長板を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a superjunction semiconductor by using a multistage epitaxial system, in which a silicon epitaxial growth rate after alignment marker formation is not made slower than that of a typical condition, deterioration of pattern form accuracy of the alignment marker is prevented, and auto doping from a low resistance arsenic-doped silicon substrate used to lower an on resistance of a superjunction semiconductor is prevented.例文帳に追加

アライメントマーカーの形成後に行うシリコンエピタキシャルの成長速度を、通常の条件より遅くすることなく、アライメントマーカーのパターン形状精度の低下を防ぎ、超接合半導体装置を低オン抵抗にするために用いられる低抵抗砒素ドープシリコン基板からのオートドーピングを防止する多段エピタキシャル方式による超接合半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Namely, since it is possible to prevent the phenomenon that the circumferential portion of the pattern images formed via the projection type optical system is shielded and cannot pass through the photosensitive aperture by changing the aperture used for the measurement, the optical characteristic of the projection type optical system can be calculated with higher accuracy without relation to the focusing condition.例文帳に追加

すなわち、ピンホールパターンの結像状態に応じて、計測に用いる開口を変更することにより、投影光学系を介して形成されるパターン像の周縁部が受光用開口を通過せずに遮られてしまうという事態を防止することができるので、結像状態にかかわらず、投影光学系の光学特性を高精度に算出することが可能となる。 - 特許庁

To provide a stage device capable of preventing bad affection affected mutually in a constitution equipped with a plurality of stages, an aligner and a method capable of transferring the pattern of a mask onto a substrate disposed on the stage device without inviting the deterioration of the accuracy of exposure, and to provide a device manufacturing method for manufacturing a device by employing the aligner and its method.例文帳に追加

複数のステージを備える構成において互いに及ぼしあう悪影響を防止することができるステージ装置、当該ステージ装置上に載置された基板上にマスクのパターンを露光精度の悪化を招かずに転写することができる露光装置及び方法、並びに当該露光装置及び方法を用いてデバイスを製造するデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint mold structure which efficiently and uniformly transfers a pattern by enhancing flow of a composition of an imprint resist layer when the imprint mold structure is pressed against the imprint resist layer, an imprint method which is improved in transfer accuracy by using the imprint mold structure, and a magnetic recording medium which is improved in recording and reproduction properties.例文帳に追加

インプリントレジスト層に押し当てる際に、前記インプリントレジスト層の組成物の流動を促進して、均一な転写を効率よく行うことができるインプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いることによって転写精度を向上させたインプリント方法、並びに、記録特性、及び再生特性を向上させた磁気記録媒体の提供。 - 特許庁

To prevent wiring accuracy from being lowered by etching fine wiring already, molded as well when etching a thin metal layer in semi-additive method (FAM: foil additive method) for forming fine wiring, by removing the thin metal layer on the surface of an insulating substrate after adding the thin metal layer on the surface of the substrate, and forming a wiring pattern with electric plating.例文帳に追加

絶縁基板表面に薄手の金属層を付加し、電気めっきにより配線パターンを形成後、基板表面の薄手金属層を除去して微細配線を形成するセミアデイテイブ（ＦＡＭ：Ｆｏｉｌ Ａｄｄｉｔｉｖｅ Ｍｅｔｈｏｄ）工法において、薄手金属層のエッチング時に既に成形した微細配線をもエッチングして、配線精度の低下を招くことを防止する。 - 特許庁

Then the calculation accuracy of the OPC object pattern is determined based on the adjusted area data and OPC additional calculation is carried out to generate mask data.例文帳に追加

ＯＰＣ精度が必要な領域と必要ではない領域の境界部分で精度が必要な領域を精度の高い領域に適した領域分拡張し、精度が必要ではない領域は精度の高い領域に適した領域分縮小する領域調整を行って、調整された領域データに基づいてＯＰＣ対象パターンの計算精度を決めてＯＰＣ付加計算を行ってマスクデータを生成する。 - 特許庁

To control delivery speed of an intermediate transfer body to optimal speed for detecting toner density upon detecting the toner density of a reference toner pattern present in the intermediate transfer body to restrict change of distance between the transfer body and a toner density detecting part and secure the number of samples of detected density values to increase accuracy of detecting the toner density, and maintain productivity by eliminating effect to consecutive printing operation.例文帳に追加

中間転写体にある基準トナーパターンのトナー濃度を検知する際、中間転写体の搬送速度を濃度検知に最適な速度に制御することにより、転写体とトナー濃度検知部間の距離変動を抑えるとともに、検知した濃度値のサンプル個数を確保し、トナー濃度検知の検知精度を向上させると共に、連続印刷動作への影響をなくし、生産性を維持する。 - 特許庁

To provide a removing agent for photoresist with which a photoresist film applied on a substrate, a photoresist layer remaining after etching the photoresist film applied on a substrate, or a photoresist residue remaining after etching and ashing the photoresist layer can be easily removed at a low temperature in a short time while various kinds of materials can be microprocessed without corroding at all, and a circuit wiring pattern with high accuracy can be manufactured.例文帳に追加

基板上に塗布されたフォトレジスト膜、または基板上に塗布されたフォトレジスト膜をエッチング後に残存するフォトレジスト層、あるいはフォトレジスト層をエッチング後にアッシングを行い残存するフォトレジスト残査物等を低温でかつ短時間で容易に剥離でき、その際種々の材料を全く腐食せずに微細加工が可能であり、高精度の回路配線を製造できるフォトレジスト剥離剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a fully automatic plating method and an apparatus thereof in which the solution wettability of a plating surface of a water is improved by performing surface modification and evacuation before performing the plating, bubbles in a pattern of high aspect ratio can be removed, defective plating and plating flaw can be prevented during the plating, and a high accuracy film thickness distribution and a high yield are achieved in the precision plating.例文帳に追加

本発明の目的は、めっきを行う前に表面改質処理及び減圧脱気処理を行うことによりウェハめっき面の液濡れ性を向上すると共に、高アスペクト比のパターン内の気泡を除去することができ、めっき処理時のめっき不良及びめっき欠陥を防止し、精密めっきにおける高精度膜厚分布と高歩留り性を有する全自動めっき方法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of obtaining high connection reliability by connecting all bumps definitely, and a member for a circuit substrate for the same without causing a big deformation by a pressure unevenness in the bump series formed on an electronic part to the member for the circuit substrate in which highly precise connection pattern excellent in the dimensional accuracy is formed by laminating a flexible film on a reinforced plate through an organic layer.例文帳に追加

可撓性フイルムを有機物層を介して補強板に貼り合わせた、寸法精度に優れた高精度な回路パターンを形成した回路基板用部材に、電子部品上に形成されたバンプ列に圧力ムラによる大きな変形を引き起こすことなく、かつ確実に全てのバンプを接続させることで高い接続信頼性が得られる方法とそのための回路基板用部材を提供すること。 - 特許庁

About each of template candidates, actual position measurement processing is carried out to evaluate a processing time, a template analysis is done to evaluate an amount of positioning information associated with position measurement accuracy, robustness to a noise is evaluated based on a position measurement result for a pattern to which a random noise is added, and a weighted mean value of these evaluations is worked out to find an overall evaluated value.例文帳に追加

テンプレート候補の各々について、実際に位置計測処理を行うことにより処理時間の評価を行い、テンプレートを解析することにより位置計測精度に関わる位置決め情報量の評価を行い、ランダムノイズを加えたパターンに対する位置計測結果に基づいてノイズに対するロバスト性の評価を行い、これらの各評価の重み付け平均値を求めることにより総合評価値を求める。 - 特許庁

To provide a film type wiring circuit and a manufacturing method thereof to form a wiring circuit such as an electrical contact or the like by lithography on a polymer film, not resulting in problem that pattern reproducing accuracy is not lowered due to the flexure or the like of the polymer film and that manufacturing efficiency is lowered because peeling between the polymer film and a substrate is hardly caused.例文帳に追加

高分子フィルム上にリソグラフィーにより電気的接点等の配線回路を形成する方法であって、高分子フィルムのたわみ等に起因するパターンの再現精度の低下の問題がなく、かつ、高分子フィルムと基板との剥離が困難となる等、生産効率を低下させる問題もないフィルム状配線回路の製造方法、及びこの方法により製造されるフィルム状配線回路を提供する。 - 特許庁

To form a micro antenna pattern of excellent reproducibility and accuracy on a paper-made sheet base low in aqueous or oily chemical-resistant properties with high production yield at a low cost.例文帳に追加

各種商品本体や商品包装容器等に貼着したり添付して使用するＩＣラベルやＩＣタグ等の電子情報伝達処理用ＩＣシート類に搭載するＩＣチップの回路駆動用アンテナパターンを紙製シート基材上にパターン形成する方法であり、水性、油性の薬液に対して耐性強度の低い紙製のシート基材上に、再現性の優れた精度の良いマイクロアンテナパターンを生産収率良く安価に実生産できるようにすることにある。 - 特許庁

The image of a mask pattern is formed accurately on a substrate by determining correspondence between a scanning direction regulated on a first coordinate system for controlling movement of first stages 10, 11 holding a mask 12 and a scanning direction regulated on a second coordinate system for controlling movement of a second stage 4 holding a substrate 5 thereby enhancing alignment accuracy of the mask and the substrate at the time of scanning alignment.例文帳に追加

マスク（１２）を保持する第１ステージ（１０，１１）の移動を制御するための第１座標系で規定される走査方向と、基板（５）を保持する第２ステージ（４）の移動を制御するための第２座標系で規定される走査方向との対応関係を求めることによって、走査露光時のマスクと基板とのアライメント精度を向上させて、マスクのパターンの像を正確に基板上に形成する。 - 特許庁

An SEM image formed by signals obtained by scanning electrons on a sample is obtained by an electrooptical system composed of an electron source for generating the electrons on a silicon substrate with a part of a semiconductor integrated circuit formed thereon, and an electromagnetic lens or electrostatic lens; a reference image is obtained by averaging a plurality of images or by automatic generation from design data; and shape dispersion and superposition accuracy of a pattern are statistically calculated by comparing them.例文帳に追加

半導体集積回路の一部が形成されたシリコン基板上で、電子を発生させる電子源と電磁レンズあるいは静電レンズからなる電子光学系により試料上で上記電子を走査して得られる信号により構成したＳＥＭ画像を取得して、複数の画像を平均化あるいは設計データから自動生成によって参照画像をもとめ、比較して、パターンの形状ばらつきや重ねあわせ精度を統計的に算出する。 - 特許庁

To provide a photomask manufacturing method by which productivity is enhanced without reducing dot quality and dimensional accuracy and a highly accurate shadow mask pattern is obtained and a photomask for a shadow mask.例文帳に追加

生産性の向上を図るために、露光工程でもシャドウマスクの多面取りが行われるようになってきているが、特に１７インチディスプレイ用のフォトマスクをガラス基板に焼付ける場合には、従来から使用している露光機と大きさが合わず、そのために専用の露光装置を製造するか、もしくは枠の大幅な改造を余儀なくされていたが、これを従来より使用されている露光装置を転用して使用可能としたシャドウマスク用フォトマスクの製造方法及びこれに用いられるフォトマスクを提供する。 - 特許庁