「Pattern Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a glass substrate for a flat panel display (FPD) in which a coating layer having high chemical resistance or adhesiveness is formed on the surface of a glass substrate before wet etching, and by which the glass substrate having a high accuracy pattern can be manufactured.例文帳に追加

ウェットエッチングを行う前に、耐薬品性や密着性の大きい被覆層をガラス基板表面に形成することにより高精度なパターニングが施されたフラットパネル（ＦＰＤ）用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a spacer for a liquid crystal display device, which has excellent heat resistance and in which a minute spacer pattern whose accuracy of cell gap width can be made high can be formed and to provide a liquid crystal display device using the spacer and having a high voltage holding ratio of a liquid crystal.例文帳に追加

セルギャップ幅の精度が高く微細なスペーサーパターンを形成でき、耐熱性に優れる液晶表示装置用スペーサー、及び、当該スペーサーを使用し、液晶の電圧保持率の高い液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for correcting mask data for an LSI, the method capable of reducing the number of measurement points on a test pattern transferred onto a wafer and reducing the measuring time while carrying out optical proximity correction and process proximity correction with high accuracy.例文帳に追加

光近接効果補正とプロセス近接効果補正を高精度に行いながら、ウエハー上に転写したテストパターンの測定点数の削減および測定時間の短縮を行えるＬＳＩ用マスクデータ補正方法を実現する。 - 特許庁

To achieve the followings in detecting a test pattern using a media sensor: to decrease an influence of a cockling generated on media on accuracy of detection more than before; to shorten a time required for detection; and to form an image with a high quality.例文帳に追加

メディアセンサを用いたテストパターンの検出において、メディアに生じたコックリングが検出精度に及ぼす影響を従来以上に軽減すると共に、検出に要する時間を短縮し、高品質な画像形成を可能とすること。 - 特許庁

To provide an electric charge beam exposing method, and a method for manufacturing a semiconductor device using the beam, wherein a predetermined fine pattern is transferred on the entire face of a substrate without causing reduction of an exposure positional accuracy or an occurrence of particle.例文帳に追加

露光位置精度の低下やパーティクルの発生を伴わずに、基板の全面に所定の微細パターンを転写することのできる荷電粒子ビーム露光方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A ring of a finder pattern is formed into an elliptical shape for approximation, an inclination angle compensation expression is calculated, and an inclination angle compensation table is generated based on compensation accuracy by the inclination angle compensation expression to compensate the reading image by the inclination angle compensation table.例文帳に追加

ファインダーパターンの輪を楕円として近似し、傾斜角補正式を算出し、傾斜角補正式によって補正精度に基づいて傾斜角補正テーブルを生成し、傾斜角補正テーブルによって読み取り画像を補正する。 - 特許庁

To provide a method increasing the accuracy of a method (Tm method) detecting mutation of a base sequence of a nucleic acid by heating a double-stranded nucleic acid to the temperature (Tm value) at which the nucleic acid is dissociated into a single-stranded nucleic acid or its dissociation pattern.例文帳に追加

２本鎖核酸を加熱して１本鎖核酸に解離する温度点（Ｔｍ値）あるいは解離パターンから核酸の塩基配列の変異を検出する方法（Ｔｍ法と呼ぶ）の検出精度を高めた方法を提供する。 - 特許庁

To provide an intagliated plate, in which a glass board with grooves formed thereon is employed, the pattern of the groove of which can be formed with exact dimensional accuracy, hardly takes scratches and is excellent in surface strength.例文帳に追加

溝を形成したガラス基板を用いた凹版であって、溝のパターンを高い寸法精度で形成することが可能であって、且つ、引っかき疵がつきにくく、さらに表面強度に優れた凹版、を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer substrate on which conductor patterns causing no disconnection or short circuit, particularly, a portion for connecting end portions of respective conductor pattern layers, can be formed with a required thickness and line width and favorable location accuracy.例文帳に追加

断線やショ—トを生じることのない導電体パタ—ン、特に導電体パ夕—ン各層の端部接続部を所望の厚みおよび線幅にかつ位置精度よく形成することができる多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for supplying an alkaline developing solution, in which a deterioration state of an alkaline developing solution can be reliably evaluated, dimensional accuracy of a resist pattern can be maintained fully and deterioration in cost benefit can be prevented.例文帳に追加

アルカリ系現像液の劣化状態を確実に見極めることができ、レジストパターンの寸法精度を充分に確保でき、経済性の悪化をも抑止できるアルカリ系現像液供給方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a logic verification device applicable to logic circuit unit verification and system verification and capable of generating a verification pattern corresponding to pipeline processing for improvement of verification accuracy.例文帳に追加

論理回路の単体検証及びシステム検証に対応した論理検証装置において、パイプライン処理に対応した検証パターンを生成可能にし、検証精度を向上させることができる論理検証装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing for conveniently manufacturing an optical waveguide circuit furnished with an electric wiring, a pad for mounting and an electrode for light control or the like on the same plane with high accuracy of positions with respect to a core pattern of the optical waveguide.例文帳に追加

光導波路のコアパターンに対して電気配線、実装用パッド、光制御用電極等を高い位置精度で同一面内に備える光導波路回路を簡便に製造するための製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern, whereby the thickness of a resist film and the thickness of a resist base film can be optimized with high accuracy for minimizing a standing wave in the resist film under conditions of a kind of resist which is determined.例文帳に追加

レジストの種類が決められた条件下において、レジスト膜中の定在波の発生を極小化するためのレジストの膜厚、レジスト下地膜の膜厚を高い精度で最適化し得るレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ceramic package which is easy to be manufactured, makes narrow the width of a recessed groove having a conductor pattern is capable of high-density wiring, improves the dimension accuracy of the recessed groove and does not cause position deviation, and is capable of lateral conduction.例文帳に追加

側面導通が可能なセラミックパッケージであって、製造が容易であり、導体パターンを備えた凹溝の幅が狭く、高密度配線が可能であり、また、凹溝の寸法精度が高く位置ズレも示さないセラミックパッケージを提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device capable of efficiently preparing master data provided with accuracy well suited to an actual inspection for an object which is a multi-piece article and providing them for the inspection and a method for preparing the master data.例文帳に追加

多ピース品である対象物について，現実の検査によく適合した精度を有するマスタデータを効率よく作成して検査に供することができるパターン検査装置およびそのマスタデータの作成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a magnetization method of a servo pattern having a servo signal of double amplitudes for eliminating the necessity of intensity change and waveform shaping when the servo signal is reproduced, enhancing accuracy of head positioning and enhancing track recording density.例文帳に追加

サーボ信号再生時の強度変更および波形整形の必要性の排除、ヘッド位置決めの精度の向上、ならびにトラック記録密度の向上を達成するための、両振幅のサーボ信号を有するサーボパターン磁化方法の提供。 - 特許庁

To provide an exposure mask for focus measurement which allow the measurement of periodic patterns approximate to the pattern density used for manufacturing of semiconductor devices in actuality and is effectively for easy measurement of a defocusing quantity with codes with good accuracy.例文帳に追加

実際に半導体装置の製造に用いられるパターン密度に近い周期パターンの測定を可能にし、且つ符号付きのデフォーカス量を簡単に精度良く測定するために有効なフォーカス測定用の露光マスクを提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for formation of an antireflection film having a high antireflection effect, causing no intermixing, and capable of forming a resist pattern excellent in resolution, accuracy or the like, and to provide an antireflection film formed from the composition.例文帳に追加

反射防止効果が高く、インターミキシングを生じることがなく、解像度および精度などに優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物およびそれから形成された反射防止膜を提供すること。 - 特許庁

To provide an organic thin film transistor formed with a high accuracy source/drain electrode pattern of several μms and an active matrix display device using the organic thin film transistor as an active element.例文帳に追加

インクジェット印刷あるいはディスペンサ印刷を用いた数μｍの高精細なソース・ドレイン電極パターンが形成された有機薄膜トランジスタ及び有機薄膜トランジスタをアクティブ素子として用いるアクティブマトリックス表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vehicular lighting fixture capable of improving the heat dissipation performance of a semiconductor light-emitting element and attaining the high accuracy of each light-distributing pattern by preventing mutual interference between and among a plurality of light-distributing patterns prepared on a reflector.例文帳に追加

半導体発光素子の放熱性を向上させ、更に、リフレクタに装備した複数の配光パターン相互の干渉を防止して、各配光パターンを高精度化することができる車両用灯具を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of suppressing scattering of a liquid to be used for forming an immersion region and capable of exposing a substrate with a desired pattern accuracy without interrupting the movement of a substrate stage by piping for supplying and collecting the liquid.例文帳に追加

液浸領域を形成するための液体の飛散を抑え、液体の供給、回収用の配管類で基板ステージの移動を妨げずに所望のパターン精度で基板を露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a light-emitting device and a substrate for deposition capable of improving an EL layer pattern forming accuracy of each color in case of producing full-color flat panel display using red, green and blue luminescent colors.例文帳に追加

赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、各色のＥＬ層のパターン形成の精度を向上させることが可能な発光装置の作製方法及び成膜用基板を提供する。 - 特許庁

Variation in an output level of a sensor output signal caused by an individual difference or heating of a magnetic sensor element 40 is corrected by the offset adjustment processing, thereby avoiding or suppressing reduction in detection accuracy of the magnetic pattern.例文帳に追加

オフセット調整処理によって磁気センサ素子４０の個体差や発熱などに起因するセンサ出力信号の出力レベルのばらつきが是正されるので、磁気パターンの検出精度の低下を回避あるいは抑制できる。 - 特許庁

To provide a three-dimensional shape measuring device capable of extracting the image of a pattern portion in an acquired image to be used for a three-dimensional shape measurement with a high signal to noise (S/N) ratio, and capable of improving the accuracy of measurement and repeatability.例文帳に追加

３次元形状測定で使用する取得した画像中のパターン部分の画像を高いＳ／Ｎ（ＳＮ比）で抽出でき、測定精度と繰り返し性を向上できる３次元形状測定装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern by which an alignment mark can be accurately detected to form a pattern even when high positional accuracy is required with a small-sized high performance device, in exposure techniques in a photolithography process of a semiconductor device and a printed wiring board or in a simple curing process of a photosensitive resin.例文帳に追加

本発明は、半導体素子やプリント配線板などにおけるフォトリソグラフィ工程或いは単に感光性樹脂を硬化させる工程における露光技術に関し、小型化、高性能化に伴ない高い位置精度が必要とされる場合でも、的確にアライメントマークの検出し、パターンを形成することができる、パターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flexible wiring circuit board which causes no deterioration of patterning accuracy and less pattern fault, and is relatively easy to downsize its production equipment and its lead time can be relatively shortened and can be cut out by laser cutting method, even if the pattern pitch of the flexible wiring circuit board is made extremely small.例文帳に追加

フレキシブル配線回路基板のパターンピッチが非常に小さくなった場合であっても、パターニング精度が低下せず、パターン不良も生じにくく、製造設備の小型化も比較的容易であり、リードタイムを比較的短くすることができ、レーザーカッティング法で抜き加工を実施することもできるフレキシブル配線回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The electron beam exposure apparatus for applying electron beam scanning onto the wafer to detect the positioning mark includes: a storage means for storing a first data table representing a relation among a distance from the positioning mark to the element pattern, an emission amount of the electron beam emitted to detect the positioning mark, and dimensional accuracy of the element pattern.例文帳に追加

電子ビームをウエハ上で走査し、位置合わせマークを検出する電子線露光装置は、位置合わせマークから素子用パターンまでの距離と、前記位置合わせマークを検出するために照射される電子ビームの照射量と、前記素子用パターンの寸法精度との間の関係を表す第１のデータテーブルを記憶する記憶手段を備える。 - 特許庁

To provide a method for determining a correction pattern capable of correcting periodic unevenness of a rotary polygon mirror with high accuracy and reducing man-hours for selecting an optimum correction value, in determining a periodic unevenness correction pattern of an apparatus for scanning a recording body by deflecting a light beam with the rotary polygon mirror, and to provide a light beam scanner.例文帳に追加

光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的むら補正パターンを決定する場合、回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正できかつ最適な補正値選択のための工数を減らすことができる補正パターンの決定方法及び光ビーム走査装置を提供する。 - 特許庁

To solve a request of fine working of high quality having high pattern superposition accuracy without omission due to deformation of a pattern with a simple process/equipment scale in a reverse printing method for transfer onto a surface of a base material to be printed, which is developed instead of a photolithography method having problems of process complication and an increase of an equipment scale.例文帳に追加

工程の複雑化や設備規模の増加が問題となっているフォトリソグラフィー法に代わりに開発されている被印刷基材表面上へ転写する反転印刷法において、簡便な工程/設備規模で、パターンの変形による抜けが無く、パターン重ね合わせ精度が高く、高品質な微細加工の要求の解決を課題とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light-emitting device, which can not only improve use efficiency of an evaporation material but also increase accuracy in forming an evaporated pattern by using an evaporation donor substrate by which a material layer to be transfer layer is prevented from being excessively evaporated and a desired evaporated pattern can be formed.例文帳に追加

転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができる蒸着用基板を用いることにより、蒸着材料の利用効率を高めるだけでなく、蒸着パターンを形成する上での精度を高めることができる発光装置の作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a silicone device, which is capable of highly accurately forming a thin film pattern on a silicone substrate, and a manufacturing method of an ink jet recording head, which is capable of forming a piezo-electric element consisting of thin films with high density and high accuracy.例文帳に追加

シリコン基板上に薄膜パターンを高精度に形成することができるシリコンデバイスの製造方法及び薄膜からなる圧電素子を高密度且つ高精度に形成することのできるインクジェット式記録ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a work chuck, a work holding method and an exposure apparatus for preventing color irregularity or the like in an exposure pattern of a color filter and achieving exposure with high accuracy and high throughput even when the size of a work for multi-face exposure of the color filter is increased.例文帳に追加

カラーフィルタの多面取り露光等ワークが大型化した状態においも、カラーフィルタの露光パターンにおける色むら等を防止して、高精度、高スループットの露光を達成するためのワークチャック、ワーク保持方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for positive photoresist, in which a polymer itself can be solubilized upon irradiation with light, even if the polymer has an adamantane skeleton, and which has high etching resistance (in particular, high dry etching resistance) and can form a fine pattern, using a simple composition with high accuracy.例文帳に追加

アダマンタン骨格を有していても、光照射によりポリマーそのものを可溶化でき、耐エッチング性（特に耐ドライエッチング性）が高く、簡単な組成で微細なパターンを高い精度で形成できるポジ型フォトレジスト用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition capable of being utilized for an electronic circuit part and a substrate without generating the deterioration of molding property caused by a reduction of its flowing property, capable of transcribing a circuit pattern formed by a stamper in a good accuracy and capable of being extrusion molded.例文帳に追加

流動性低下による成形性悪化を起こすことなく、電子回路部品および基盤用途に利用可能で、スタンパーに形成した回路パターンを精度よく転写することが可能な射出成形可能なエポキシ樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an ultrasonic development processing method allowing development in low impact, and capable of achieving reduction of a development time and improvement of development accuracy, and achieving improvement of a removal effect of scum remaining in a circuit pattern part; and a device therefor.例文帳に追加

低インパクトでの現像を可能にすると共に、現像時間の短縮及び現像精度の向上が図れ、かつ、回路パターン部に残渣するスカムの除去効果の向上が図れるようにした超音波現像処理方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a control method and a control device for an electric motor for realizing high positioning accuracy by reducing generating vibration since rigidity of a control object is low, and securing vibration damping performance without depending on a characteristic of a command pattern and the control object.例文帳に追加

制御対象の剛性が低いため発生する振動を低減し、指令パターン及び制御対象の特性に依らず制振性能を確保し、高い位置決め精度を実現する電動機の制御方法及び制御装置を提供する。 - 特許庁

According to the method of manufacturing the surface acoustic wave element 22, the electrode pattern 20 having a high size accuracy is easily manufactured, compared with the conventional manufacturing method needing a deposition processing of an antireflective film, taking a much labor and time.例文帳に追加

すなわち、この弾性表面波素子２２の製造方法によれば、多大な手間と時間を要する反射防止膜の成膜処理が必要な従来の製造方法に比べて、寸法精度の高い電極パターン２０を容易に作製することができる。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition, which can cope with highly precise patterning by correcting nonuniformity such as a temperature change and a temperature distribution due to an effect of radiant heat, in order to remove the adverse effect of the radiant heat on pattern location accuracy.例文帳に追加

蒸着用マスクにおいて、輻射熱によるパターン位置精度に対する悪影響を極力排除すべく、その輻射熱の影響による温度変化や温度分布等の不均一化を是正して、高精度なパターニングに対応することを可能にする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of reducing color shift due to positional deviation in an image forming part and misregistration between an image on an intermediate transfer body and a sheet to which the image is transferred by enhancing detecting accuracy of a pattern for position detection.例文帳に追加

位置検出用パターンの検出精度を高めて画像形成部での位置ずれに起因する色ずれや、中間転写体上の画像と該画像が転写されるシートとのレジストレーションずれを低減することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer device and an inspection machine necessary for taking a high-definition image, fitting required inspection accuracy, of a board in a flat shape having a high definition pattern, such as, lead frame and various kinds of wiring boards.例文帳に追加

リードフレームや各種配線基板など高精細なパターンを有する平板状の基板に対して、要求される検査精度に見合った高精細画像を撮像するのに必要な搬送装置および検査機を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which is capable of controlling the line width of a resist pattern, which is formed on a multilayered film, with higher accuracy without much influenced by a variation in the thickness of layers composing the multilayered film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成された多層膜の各々の膜の膜厚の変動に大きく影響されることなく、多層膜上に形成されるレジストパターンの線幅の制御性を向上することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a device which maintains a stably discharging operation and which can form a pattern in a desired accuracy, when patterns of different states are formed mixedly on a substrate by using a liquid droplet discharging unit and an apparatus therefor.例文帳に追加

液滴吐出装置を用いて基板上に異なる形態のパターンそれぞれを混在して形成する際、安定した吐出動作を維持し、所望の精度でパターンを形成できるデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a practicable method for setting a design margin of mask patterns which determines the cross relations of the design margin, dimensional errors and superposition errors while studying an actual semiconductor process, a method for setting pattern accuracy and a method for setting the design margin of wafer patterns.例文帳に追加

実際の半導体プロセスを検討しながら、設計マージン、寸法誤差、重ね合わせ誤差の相互関係を求める実用的なマスクパターンの設計マージン設定方法、パターン精度設定方法およびウェハパターンの設計マージン設定方法の提供。 - 特許庁

To provide a portable information terminal which estimates the time when a user enters an out-of-service area , on the basis of a daily behavior pattern of the user and accesses a web, thereby enhancing the accuracy of detecting an access to the out-of-service area without frequent web access.例文帳に追加

ユーザの日々の行動パターンに基づいて圏外への接近時間を予測してウェブアクセスを行うことにより、頻繁にウェブアクセスを行うことがなく、圏外への接近の検出精度を高めることが可能な携帯情報端末を提供する。 - 特許庁

To provide an alignment control system for members capable of performing high-accuracy pattern matching, even if a camera recognizes the mark images attached to both members is placed at any position and at any angle, and acquiring and transmitting their positional relation to an assembling device.例文帳に追加

どのような位置・角度に置かれたカメラで両部材に付されたマークを画像認識しても、高精度なパターンマッチングを行ってその位置関係を把握して組立装置に伝達することができる部材同士の位置合わせ制御システムを提供する。 - 特許庁