「Pattern Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

The pattern transfer via the projection optical system with its imaging properties adjusted in consideration of the optimum environmental correction coefficients can correct the transfer errors, caused by an environmental variation with a high degree of accuracy.例文帳に追加

ここでは、最適な環境補正係数を考慮して結像特性が調整された投影光学系を介してパターンの転写が行なわれるために、環境変化に起因する転写誤差を精度良く補正することができる。 - 特許庁

To provide an image processor for improving the success rate and accuracy of pattern matching of two images without lowering the efficiency of the inspection work of length measurement or the like, an image processing method and a scanning electron microscope.例文帳に追加

２つの画像のパターンマッチングの成功率および精度を向上させ、しかも、測長などの検査作業の効率を低下させない画像処理装置、画像処理方法および走査型電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To eliminate a locking effect so as to improve accuracy of tire performance simulation when a tire tread pattern part which has plurality of protruded and depressed parts and is composed of a rubber having incompressibility is analyzed by finite element method.例文帳に追加

非圧縮性を有するゴムから構成され、複数の凹凸部を有するタイヤのトレッドパターン部を、有限要素法により解析する際に、ロッキングの影響をなくし、タイヤ性能のシミュレーション精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which attains resist formation by a photographic process with good pattern accuracy by development using an aqueous alkali solution and exhibits satisfactory heat resistance and flexibility by processing at a low temperature.例文帳に追加

写真法によるパターン精度の良いレジスト形成が、アルカリ水溶液を用いた現像で可能であり、また、低温での加工で十分な耐熱性及び柔軟性を発現する、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an organic thin film transistor for which the position accuracy of a semiconductor pattern is improved, an organic semiconductor thin film of high crystallinity with sufficient conductivity is formed and element dispersion is reduced.例文帳に追加

本発明の目的は、半導体パターンの位置精度を向上させ、充分な伝導性をもつ結晶性の高い有機半導体薄膜を形成して素子バラツキの低減させた有機薄膜トランジスタを形成することにある。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser element, wherein a positioning recognition pattern for an element is formed in an crystal with the same photoresist etching process as for the emission part, and the element is mounted on a package with high accuracy.例文帳に追加

素子の位置決め用認識パターンを結晶内部に、かつ発光部と同一のフォトレジスト・エッチング工程によって形成し、高精度で素子をパッケージにマウントすることができる半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁

The method corrects a preset separation mask in a dot pixel level with high accuracy on the basis of a relation of location of contradictory pixels caused cross-referencing the pattern pixels to SPM data resulting from the particularized position.例文帳に追加

その結果を元にした、絵柄画素とＳＰＭデータとの対応付けに際して生じる矛盾画素の配置関係に基づいて、あらかじめ設定された分離マスクが網点画素レベルで高精度に修正される。 - 特許庁

To provide a novel patterning technology capable of inexpensively and easily patterning a piezoelectric film without need of expensive equipment, having excellent pattern shaping accuracy of the film and free from contamination during film formation.例文帳に追加

高価な装置を要することなく低コストに圧電体膜を容易にパターニングすることができ、圧電体膜のパターンの形状精度が良く、成膜時のコンタミネーションの問題がない新規なパターニング技術を提供する。 - 特許庁

To enhance dimensional accuracy of a printed matter pattern by maintaining a constant angle of separation of a printing object from a plate immediately after printing, without reference to a position of a squeegee moving on a screen plate, in off-contact printing.例文帳に追加

オフコンタクト印刷において、スクリーン版上を移動するスキージ位置にかかわらず印刷直後の印刷対象物の版離れの角度を一定に維持し、印刷された被印刷物パターンの寸法精度の向上を図る。 - 特許庁

To enable a correction verification method to reflect the stress distribution or heat distribution over an exposure mask so to improve the device in verification accuracy when it is verified that the correction of distortion made for a mask pattern on the exposure mask is right or not.例文帳に追加

露光用マスク上のマスクパターンに対する歪補正の適否を検証するのにあたり、その露光用マスク上での応力分布や熱分布を反映させ得るようにして、その検証精度を向上させる。 - 特許庁

To form a resist pattern with high accuracy even on an underlayer film including a basic substance by controlling an oxygen deficiency/activity phenomenon at the interface between the underlayer film including a basic substance and a chemically amplified resist formed thereon.例文帳に追加

塩基性物質を含む下地膜とその上に形成される化学増幅型レジストとの界面における酸失活現象を抑制し、塩基性物質を含む下地膜上でも精度の高いレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of magnetic recording medium by which a magnetic recording medium having a magnetic recording layer of a irregular pattern of which the surface is sufficiently flat and recording/reproducing accuracy is good can be manufactured efficiently and surely.例文帳に追加

表面が充分に平坦で、且つ、記録・再生精度が良い凹凸パターンの磁気記録層を有する磁気記録媒体を効率良く確実に製造することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical waveguide structure, having an optical waveguide that is superior in durability, in which the core part (optical path) having wide latitude for designing pattern figure and high-dimensional accuracy can be formed, using a simple method.例文帳に追加

パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁

To improve failure rate detecting accuracy by removing influence by a surrounding environmental temperature change in a heat image pattern for acquiring the quality of fusion of an aluminum seal fused on a bottle opening part by using an infrared camera.例文帳に追加

ボトル開口部に融着させたアルミシールの融着の良否を赤外線カメラを用いて取得した熱画像パターンの周囲環境温度変動による影響を除いて不良率検出精度を向上させる。 - 特許庁

To obtain an apparatus and a method, for the inspection of a pattern, in which even abnormality of size can be recognized, irrespective of the problem of the number of measuring elements and in which the defect of a graphic to be inspected can be detected with high accuracy.例文帳に追加

計測子の数の問題と無関係に，かつ，寸法の異常についても認識でき，高精度に被検図形の欠陥を検出できるパターン検査装置およびパターン検査方法を提供すること。 - 特許庁

Since a material, having a low adhesive property to particles, is used for forming the protective film 6 the adhesion of the particles to, particularly, the opening 5 of the mask pattern can be suppressed and the accuracy of the patterning can be improved.例文帳に追加

保護膜６の材料としてパーティクルとの密着性の低い材料を用いることにより、特にマスクパターンの開孔５へのパーティクルの付着を抑えることができ、パターニング精度を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for forming patterns on a panel substrate with high accuracy in forming fine patterns in a simple process, and to provide pattern-forming particles to be used for the method and apparatus for forming the patterns on the panel substrate.例文帳に追加

工程が簡単で、しかも微細パターン形成の精度も良い、パネル基材へのパターン形成方法および装置並びにパターン形成方法および装置に用いるパターン形成材粒子を提供することである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of magnetic recording medium by which a magnetic recording medium which has a recording layer formed with an irregular pattern, of which the surface is sufficiently flat and the recording/reproducing accuracy is good can be manufactured efficiently.例文帳に追加

凹凸パターンで形成された記録層を有し、表面が充分に平坦で記録再生精度が良好な磁気記録媒体を効率良く製造できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a transferred image with higher accuracy than a conventional one by not only simply carrying out OPC (optical proximity correction) on the mask pattern figure of an exposure mask but by taking into consideration the occurring tendency of dimensional errors after transferring.例文帳に追加

露光用マスクのマスクパターン形状に対して、単にＯＰＣを行うだけではなく、転写後の寸法誤差の生じ易さをも考慮することで、従来よりも高精度な転写像を得ることを可能にする。 - 特許庁

To easily provide an EL display color conversion filter enabling production of an EL display device which has excellent flatness, smoothness and pattern accuracy, also in which the disconnection, etc., of wires of EL elements seldom occur when the EL elements are laminated on the surface.例文帳に追加

平滑性やパターン精度に優れ、表面にＥＬ素子を積層した場合に、ＥＬ素子の断線等が少ないＥＬ表示装置を提供することができるＥＬ表示用色変換フィルターを容易に提供する。 - 特許庁

To provide a printer and a printing method capable of continuously printing a resin layer excellent in thickness uniformity and pattern accuracy even though an matter to be printed is a film or others with flexibility.例文帳に追加

被印刷体がフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能な印刷装置及び印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet coil type resolver having high detection angle accuracy by forming a coil pattern, such that voltage distribution induced in a detection phase becomes sinusoidal distribution in resolvers having a relatively small shaft-multiple angle number.例文帳に追加

軸倍角数が比較的少ないレゾルバにおいても、検出相に誘起される電圧分布が正弦波分布となるようにコイルパターンを形成して、検出角度精度の高いシートコイル型レゾルバを提供する。 - 特許庁

To ideally correct a master pattern in a mask for exposure by quantitatively grasping the fitting strain of a process model and generating the process model for simulation fitted with high accuracy.例文帳に追加

プロセスモデルのフィッティングの歪み度を定量的に把握し得るようにして、高精度にフィッティングされたシミュレーションのプロセスモデルの生成を可能にし、これにより露光用マスクにおけるマスクパターンの補正も好適に行えるようにする。 - 特許庁

To provide a check pattern for wet etching which can determine the proper and improper condition of wet etching in a short period of time with higher accuracy when contact holes are selectively formed in an insulation film provided on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上に設けた絶縁膜に選択的にコンタクトホールを形成する際に、ウェットエッチングの良否判定を短時間かつ、精度良く行うことができるウェットエッチング用チェックパターンを提供する。 - 特許庁

The camera module 40 picks up the image of a test pattern on a test target 86 and the focusing accuracy is determined from the image forming state and the microcontroller 82 judges whether a barrel 40 is extended or not.例文帳に追加

カメラモジュール４０がテストターゲット８６上のテストパターンの画像を撮像し、その画像結像状態から焦点調節精度が求められて、マイクロコントローラ８２はバレル４０を繰り出すか繰り込むかを判定する。 - 特許庁

To provide a reflection type photomask blank, reflection type photomask, and a method and a device for inspecting the same, which improve accuracy of pattern inspection of a reflection type photomask and reduce the time needed for the inspection.例文帳に追加

反射型フォトマスクのパターン検査の精度が向上するとともに、検査に要する時間を短縮することのできる反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、その検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, a user is easy to visually recognize a cursor position in the whole dot pattern with accuracy and operate without having his or her attention fixed to the circumference of the cursor, and the operability can be improved more.例文帳に追加

これにより、ユーザは、カーソル近傍だけに目を奪われることなく、ドットパターン全体の中におけるカーソル位置を視覚的に正確に認識できて操作し易くなり、操作性を一段と向上させることができる。 - 特許庁

This injection molded form with a fine pattern transferred in high accuracy is obtained by injection molding of a cyclic olefin resin or a thermoplastic resin composition comprising the above cyclic olefin resin and a specific hydrocarbon resin.例文帳に追加

環状オレフィン樹脂または環状オレフィン樹脂と特定の炭化水素樹脂からなる熱可塑性樹脂組成物を用いて射出成形することにより、微細なパターンが高転写された射出成形体を得る。 - 特許庁

To provide a new manufacturing method of an organic EL (electroluminescent) element which maintains advantageous points of accuracy of a pattern in a conventional photolithography method and utilizes virtues of manufacturing efficiency in an inkjet method.例文帳に追加

従来のフォトリソグラフィー法におけるパターンの精度が優れている点を維持し、かつ、インクジェット法が持つ、製造効率の良さを活かした、新たな有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an optical waveguide structure which has broad design flexibility of a pattern shape of an optical circuit, is capable of forming an optical path having high dimensional accuracy by a simple method and has optical waveguides excellent in durability.例文帳に追加

光回路のパターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高い光路を簡単な方法で形成することができ、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁

To improve a wiring density, to improve an opening positional accuracy, to improve reliability and to improve the yield of a pattern plating step in manufacture of a flexible printed circuit board of a double access type having a one-side conductor circuit.例文帳に追加

片面導体回路を有するダブルアクセスタイプのフレキシブルプリント配線板の製造において、配線密度の向上、開口位置精度の向上、信頼性向上およびパターンめっき工程の歩留まり向上を図る。 - 特許庁

To obtain an optical functional element which makes an extent where interference fringes of reflected wave faces of a lens or the like having a curved surface nearly being a flat surface can be observed to proper size and in which accuracy of the wave face produced by a diffraction pattern is high.例文帳に追加

平面に近い曲面を有するレンズなどの反射波面の干渉縞の観察できる範囲を適切な大きさにして、かつ、回折パターンによって生成される波面の精度が高い光機能素子を得る。 - 特許庁

Since a molybdenum plate is placed opposite to the exposed area of the surface of the diamond substrate, the surface movement of the diamond substrate 12 beyond the depth of the plate is suppressed to enable the control of the thickness of the pattern in high accuracy.例文帳に追加

モリブデン板１３ｓ’が、ダイヤモンド基板１２表面の露出領域に対向しているので、これよりも深部へのダイヤモンド基板１２表面の進行は抑制され、パターンの厚みを高精度に制御することができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of magnetic recording medium by which a magnetic recording medium having a recording layer of which the surface is flat sufficiently and the recording/reproducing accuracy is good and which has an uneven pattern can be manufactured effectively and surely.例文帳に追加

表面が充分に平坦で、且つ、記録・再生精度が良い凹凸パターンの記録層を有する磁気記録媒体を効率良く確実に製造することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stencil mask facilitating thickness reduction and stress adjustment, high in mechanical strength, excelling in electron beam irradiation resistance, suitable for providing a stencil mask for electron beam exposure, simple in a manufacturing process, and high in pattern position accuracy; a method of manufacturing the same; and a method of transferring a pattern for the same.例文帳に追加

薄膜化及び応力調整が容易であるとともに、機械的強度が高くかつ電子線照射耐性に優れた電子線露光用のステンシルマスクを得るために好適で、かつ製造プロセスが簡便かつパターン位置精度の高いステンシルマスク、その製造方法、およびそのパターン転写方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To realize in a charged particle exposure for division transfer method, where a pattern can be transferred to and exposed to light keeping high resolution and high accuracy by a method, wherein imaging conditions such as form astigmatism caused by differences in pattern distribution in sub-fields are corrected effectively.例文帳に追加

分割転写方式の荷電ビーム露光において、各サブ・フィールド内のパターン分布の相違に起因する形状非点収差等の結像条件の補正を効率良く実行でき、結果的に高解像・高精度のパターン転写露光を実現できる荷電ビーム露光方法及び荷電ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide techniques for realizing a fine wiring pattern through an energy-saving process without using expensive manufacturing equipment, effectively using materials so as to realize a resource-saving process, and obtaining a wiring member which is high in dimensional accuracy and reliability even when it has a very fine pattern.例文帳に追加

微細な配線パターンを高価な製造装置を必要とせず、また、省エネルギープロセスで実現できる技術、材料の有効利用を図り、省資源のプロセスを実現する技術、極微細なパターンを持つ配線部材であっても、寸法精度が良好で、信頼性の高い配線部材が得られる技術を提供すること。 - 特許庁

A signal pattern between first and second coplanar-type transmission lines (503, 513) and a ground pattern are connected to each other with the high accuracy of a μm order of the upper side (527) of a nonconductive fill for filling a gap between first and second substrate (501, 511) by printing or a vapor deposition method.例文帳に追加

第１の基板（５０１）と第２の基板（５１１）との間の空隙を充填する非導電性フィル上部（５２７）に、印刷・あるいは蒸着法を以ってμｍオーダーで精度よく第１のコプレーナ型伝送線路（５０３）と第２のコプレーナ型伝送線路（５１３）との信号パターン、及びグラウンドパターンをそれぞれ接続させる。 - 特許庁

To provide a sufficient optical transmission capability and sufficiently high pattern forming accuracy in a method for producing an optical waveguide to form a pattern of the optical waveguide by means of photolithography in which predetermined parts of a photosensitive resin layer are irradiated with light and then the parts which are not irradiated with light are removed by a developing solution.例文帳に追加

感光性を有する樹脂層の所定箇所に光照射した後に光照射されていない箇所を現像液で除去するフォトリソグラフィーにより光導波路のパターンを形成する光導波路の製造方法において、十分な光伝送能力及び十分に高いパターン形成精度を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a fine pattern for mass-producing the highly precise pattern of high density with high positional accuracy on a board having flexibility, such as an insulating board with copper foil, which is used for a flexible wiring board, and to provide the printed wiring board using the manufacturing method, and to provide the manufacturing method of the printed wiring board.例文帳に追加

本発明は、フレキシブル配線板に用いるような銅箔付絶縁性基板等の可撓性を有する基板に対して、高精度で高密度な微細パターンを高い位置精度で量産できる微細パターンの製造方法、それを用いたプリント配線板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method and a device, where image forming conditions can be efficiently corrected on shape astigmatism caused by a pattern distribution difference between sub-fields in a charged particle beam exposure method of a split transfer system, and resultantly, a pattern of high resolution and high accuracy can be projected for exposure and transferred.例文帳に追加

分割転写方式の荷電ビーム露光において、各サブ・フィールド内のパターン分布の相違に起因する形状非点収差等の結像条件の補正を効率良く実行でき、結果的に高解像・高精度のパターン転写露光を実現できる荷電ビーム露光方法及び荷電ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

To simultaneously and nondestructively measure a panel alignment position and a pattern profile by improving resolution, quantifying accuracy, and repeatability for realize a pattern imaging which does not rely on optical measurement technology for inspection using a device which is markedly reduced in cost and complexity, while increasing the throughput of the device significantly.例文帳に追加

検査のためのパターン像化に依らない光学的測定技術を、スループットを大きく向上させつつ、コスト及び複雑性を非常に低下させた装置によって実現し、分解能、定量化精度、及び繰り返し精度の向上を図り、重ね合せ位置及びパターンプロフィールの同時かつ非破壊測定を行えるようにする。 - 特許庁

This method for evaluating the etching accuracy comprises forming a test pattern 2 for measuring resistance including test patterns 21-24 each with a predetermined width and a space between lines arranged in rows and columns on all over the test substrate, measuring a resistance value after etching, and assuming a finished state of a circuit pattern by converting the resistance value into the widths of the line.例文帳に追加

縦、横に配列された所定線幅および線間のテストパターン２１〜２４を含む抵抗測定用テストパターン２をテスト基板の全面にわたって形成し、エッチング後に抵抗値を測定し、その抵抗値を線幅に換算して回路パターンの仕上がり状態を想定しエッチング精度を評価する。 - 特許庁

The accuracy of design values of a substrate or a molding 1 or a circuit pattern 11 formed on the substrate or the molding 1 is evaluated based on the positions or feature amounts of feature points obtained from an image picked up from the substrate or molding 1 forming the circuit pattern 11 and the evaluated result is used for the control of process conditions.例文帳に追加

回路パターン１１を形成した基板または成形品１を撮像した画像から得た特徴点の位置もしくは特徴量に基づき、基板または成形品あるいはその上に形成された回路パターンの設計値に対する精度を評価し、その評価結果を工程条件の制御に用いる。 - 特許庁

To provide a photomask blank having a light shielding film that can respond to effects by the depth of focus when a high NA exposure method is employed for an exposure device upon transferring a pattern and that is suitable for transferring a fine pattern having a half pitch of 45 nm or smaller with high accuracy, and to provide a method for manufacturing a photomask.例文帳に追加

パターン転写時の露光装置に高ＮＡの露光方法を利用した場合の焦点深度による影響に対応でき、ハーフピッチ４５ｎｍ以降の微細パターンを精度良くパターン転写するのに好適な遮光膜を備えたフォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁