「Pattern Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a conductive paste capable of forming an electrode pattern excellent in profile accuracy and without short-circuiting or the like on the surface of a substrate by restraining generation of stringing in a forming process of an electrode pattern using an intaglio offset printing method, as well as a manufacturing method of an electrode substrate using the same.例文帳に追加

凹版オフセット印刷法を利用した電極パターンの形成工程において糸曳きが発生するのを抑制して、基板の表面に、形状精度に優れ、短絡等のない電極パターンを形成できる導電ペーストと、それを用いた電極基板の製造方法とを提供する。 - 特許庁

To improve the reading accuracy of a registration correction pattern formed on a recording medium by an image forming means and to accurately correct positional deviation by changing the density of the image of the registration correction pattern in every image forming means and making reflected light quantity by each color image constant.例文帳に追加

レジスト補正パターン画像の濃度を各画像形成手段毎に変更して各色の画像による反射光量を一定にすることにより、記録媒体に形成される各画像形成手段のレジスト補正パターンの読み取り精度を向上させ、精度よく位置ずれの補正を行うことである。 - 特許庁

To suppress the lowering of the accuracy of a detection angle caused by a distance difference between a sine-phase patterns and a cosine-phase coil pattern which is disposed at the stator side and constitutes an exciting coil or a detection coil, and a coil pattern which is disposed at the rotor side and constitutes a detection phase or an excitation phase.例文帳に追加

ステータ側に配置された励磁コイルまたは検出コイルを構成するｓｉｎ相およびｃｏｓ相のコイルパターンと、ロータ側に配置された検出相または励磁相を構成するコイルパターンとの距離の違いに起因する検出角度の精度の低下を抑える。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for processing development, capable of developing a resist pattern having a rectangle shape whose tip is not rounded, and capable of processing with sufficient accuracy a film to be etched, when etching the under layer film to be etched using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

先端が丸みを帯びない矩形形状を有するレジストパターンを現像することができ、レジストパターンをマスクに用いて下層の被エッチング膜をエッチング処理により加工する際に、被エッチング膜を精度よく加工することができる現像処理方法及び現像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring information management device or the like, for storing relevant information among components in a wiring pattern as shading information generated among components, and for displaying the wiring pattern with accuracy and with configurations, which it is easily viewable by a designer, by devising the display configurations of the shading information.例文帳に追加

配線パターンにおける部品相互間の関連情報を、部品間で生じる陰影情報として保持すると共に、陰影情報の表示態様を工夫することで配線パターンを正確に、且つ設計者に見やすい態様で表示する配線情報管理装置等を提供する - 特許庁

To overcome poor pattern accuracy of chemical etching and adhesive defect when adhering an aluminum layer onto a transparent base material, which are the problems generated when the material of a metal pattern is replaced with cheap aluminum from copper, and to provide a low-cost and practicable transparent conductive member with the use of aluminum.例文帳に追加

金属パターンの材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる課題である、ケミカルエッチングのパターン精度不良及びアルミニウム層を透明基材上に接着する際の接着不良を解消して、アルミニウムを用いた安価で而かも実用可能な透明導電部材を提供する。 - 特許庁

To provide a means capable of preventing generation of unevenness due to a periodical array pattern, minimizing a pattern dimension shift or a coordinate shift without greatly increasing a drawing amount or drawing time, and achieving high-accuracy drawing, in a method for creating a drawing data of a photomask for an image sensor.例文帳に追加

イメージセンサ用フォトマスクの描画データ作成方法において、周期的配列パターンによるムラの発生を防止することができ、かつ描画量や描画時間を大幅に増やさず、パターン寸法シフトや座標シフトを最小化でき、高精度な描画が可能な手段を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern membrane by which the pattern membrane having a quadrangular cross-sectional shape in which two cross-sectional angles specified at both ends of long sides among mutually facing long sides and shot sides are mutually different is formed with high accuracy as much as possible.例文帳に追加

互いに対向する長辺および短辺のうち、その長辺の両端において規定される２つの断面角度が互いに異なる四角形状の断面形状を有するパターン膜を可能な限り高精度に形成することが可能なパターン膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

Gate length of an MOS transistor is important for the characteristics of a transistor and since the mask pattern is formed with high accuracy even if the gate electrode pattern includes a microelement figure, uniform and excellent characteristics of an MOS transistor can be obtained easily with regard to the gate length.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタのゲート長はトランジスタ特性上重要であり、ゲート電極パターンが微小要素図形を含むことになっても、そのマスクパターン等は高精度に作製されるから、ゲート長に関するＭＯＳトランジスタの均一で優れた特性を容易に実現することができる。 - 特許庁

To provide an exposure device employing EUV light which prevents the deterioration of positional accuracy of a transfer pattern which is accompanied by the heating of a reticle or a wafer due to ultraviolet ray included in beams from a plasma light source, and which stably transfers a delicate pattern, and also to provide an exposure method employing the exposure device.例文帳に追加

プラズマ光源からの光線に含まれる赤外線によるレチクルやウエハの加熱に伴う転写パターンの位置精度の低下を防止した、安定して微細なパターンの転写ができるＥＵＶ光を用いた露光装置、および当該露光装置を用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a photomask deficiency defect by which an FIB (focused ion beam) correction device can be used as a tool to correct a minute edge deficiency defect portion in a circuit pattern part, the deficiency defect region of the circuit pattern part is subjected to vapor deposition with high accuracy, and the photomask having excellent cleaning durability can be obtained.例文帳に追加

回路パターン部の微小なエッジ欠損欠陥部を修正するツールとしてＦＩＢ修正装置を用いることができ、精度良く回路パターン部の欠損欠陥領域に蒸着するとともに、フォトマスクの耐洗浄性に優れたフォトマスク欠損欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printing method by which a good printing condition is maintained even when the thicknesses of articles to be printed vary, and a printing pattern of a good pattern accuracy can stably be formed when an organic functional thin film is formed by the letterpress printing method, and as a result, to provide a manufacturing method for the organic functional thin film.例文帳に追加

凸版印刷法によって有機機能性薄膜を形成する際に、被印刷体の厚みがばらついても良好な印刷条件を維持し、安定してパターン精度の良い印刷パターンを形成できるような印刷方法、ひいては有機機能性薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve accuracy of a starting position of drawing in a circumference direction in each position in a radial direction of each region when a hard disk pattern is drawn by electron beam scanning, the hard disk pattern including a plurality of servo regions and data regions between the servo regions in an arc form provided from the center side to the outside of the disk.例文帳に追加

中心側から外側に向けて円弧状に設けられる複数のサーボ領域と該サーボ領域間のデータ領域からなるハードディスクパターンを電子ビーム走査により描画する際の、各領域の半径方向位置毎の周方向描画開始位置の精度を向上させる。 - 特許庁

To suppress the lowering of a detection accuracy even if a scale is contaminated or the like, or even if a pattern on the scale is something like an integrated pattern, to keep a detection head compact, and to reduce the stopping of a control machine to which an encoder is mounted, due to an error.例文帳に追加

スケール上に汚れ等がある場合、およびスケール上のパターンが統合パターンのような場合においても、検出精度の低下を抑制するとともに検出ヘッドをコンパクトに維持でき当該エンコーダが装着される制御機械のエラー止まりを少なくすることが可能となる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flexible wiring circuit board of which patterning accuracy is never lowered and which hardly causes pattern defects even if a pattern pitch becomes very small, and which allows the reduction in size of manufacturing facilities relatively easily and can make the lead time relatively short.例文帳に追加

フレキシブル配線回路基板のパターンピッチが非常に小さくなった場合であっても、パターニング精度が低下せず、パターン不良も生じにくく、製造設備の小型化も比較的容易であり、リードタイムを比較的短くすることができる、フレキシブル配線回路基板の製造方法を提供する - 特許庁

To provide a method and an apparatus for accurately measuring the trial of the cuff of a fine pattern, and also to provide a semiconductor device manufacturing control system for deciding the processing accuracy on the basis of shape information, such as the height of pattern, tapering angle, amount of trail, and roughness.例文帳に追加

微細パターンのボトム部の裾引き形状を正確に計測する方法および計測装置を提供するとともに、パターン高さ、テーパー角、裾引き量およびラフネス等の形状情報に基づいて加工精度を判定する半導体デバイスの製造管理システムを提供する。 - 特許庁

A pattern with high accuracy is formed by carrying out a step (S12) of subjecting the design data to proximity correction; a step (S13) of extracting a portion where the process margin deteriorates; and a step (S14) of correcting a pattern in the extracted portion where the process margin deteriorates.例文帳に追加

設計データに対して近接効果補正を施す工程（Ｓ１２）と、プロセス余裕度が劣化する箇所を抽出する工程（Ｓ１３）と、抽出されたプロセス余裕度が劣化する箇所に対してパターン補正を行う工程（Ｓ１４）とを行うことにより高精度なパターン形成を実現する。 - 特許庁

To provide a method of judging the flow pattern of vapor-liquid two- phase flow in which the flow pattern of a vapor-liquid two-phase flow in piping, the inside of which cannot be observed visually, can be judged objectively with high correct rate (accuracy) from the outside without having any effect on the piping and its flow.例文帳に追加

内部が目視観察できない配管内の気液二相流のフローパターンを、配管およびその流れに影響を与えることなく、外部から高い正解率（精度）で、客観的に判別することができる気液二相流のフローパターン判別方法を提供する。 - 特許庁

The printer scanner (on carriage) prints a specified pattern by means of a recording head, reads in its check pattern by means of a scanner and calculates the positional relation between a recording head and a scanner (on carriage scanner) mounted simultaneously on a carriage conveniently with high accuracy from the information thus read in.例文帳に追加

プリンタ・スキャナ（オンキャリッジ）装置において、記録ヘッドとキャリッジに同時に搭載されているスキャナ（オンキャリッジスキャナ）との位置関係を記録ヘッドにより、有る所定のパターンを印字しそのチェックパターンをスキャナにて読み込み、読み込んだ情報から、簡易にかつ高精度に算出する。 - 特許庁

To enable a system to efficiently estimate a travel speed pattern, without referring to enormous past travel data, when estimating a travel speed pattern, based on the past travel data, and to prevent the estimation accuracy from dropping, due to the decrease in the available past data.例文帳に追加

過去の走行データに基づいて走行速度パターンを推定するときに、過去の膨大な走行データを参照することなく効率的に走行速度パターンを推定することができ、かつ、利用することができる過去のデータの数が少なくなって推定の精度が低下してしまうことがないようにする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of stably forming a printing pattern of excellent pattern accuracy by easily clarifying a relation between a pixel shape of a barrier-rib substrate suited for printing conditions and a printing method, in forming an organic functional element by a letterpress printing method.例文帳に追加

凸版印刷法によって有機機能性素子を形成する際に、容易に印刷条件に適した隔壁基板の画素形状と、印刷方法の関係を明らかにすることにより、安定してパターン精度の良い印刷パターンを形成できるような製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for exposure and a phase shift mask in which the resolution of an image formed on a resist according to a two-dimensional random pattern can be improved and the dimensional accuracy of the two-dimensional random pattern projected onto the resist can be improved.例文帳に追加

本発明は、二次元ランダムパターンに対してレジストに結ばれる像の解像度の向上をさせることができ、併せてレジストに露光される二次元ランダムパターンの寸法精度を向上させることができる露光方法および位相シフトマスクを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a pattern processing method and a pattern processing apparatus capable of directly processing a membrane with a high degree of accuracy by irradiating a light pervious to a mask between a light source and a substrate to the membrane on the surface of the substrate and at the same time, capable of precisely masking and processing a large-sized substrate with a required minimum sized-mask.例文帳に追加

光源と基板との間のマスクを透過した光を基板表面の薄膜に照射し、薄膜を直接高精度に加工できると共に、必要最小限の大きさのマスクで大型サイズの基板も適切にマスクしつつ加工できるパターン加工方法及び加工装置を提供する。 - 特許庁

Thus, the deterioration of the correcting accuracy of shift in the superposition caused by the backlash is avoided by avoiding non-coincidence caused by the backlash between a velocity fluctuation pattern detected based on an image for detecting velocity fluctuation and a velocity fluctuation pattern made when forming an image.例文帳に追加

これにより、速度変動検知用画像に基づいて検出された速度変動パターンと、画像形成時に発生する速度変動パターンとの、ガタツキに起因する不一致を回避することで、ガタツキに起因する重ね合わせズレ補正精度の悪化を回避することができる。 - 特許庁

To realize high-accuracy personal identification under environment requiring a non-contact property, even though using an unclear finger vein pattern image with positional shift.例文帳に追加

本発明の目的は、非接触性の求められる環境下での個人認証に関し、不鮮明で位置ずれのある指静脈パターン画像を利用しながらも、高精度な個人認証を実現することである。 - 特許庁

To provide a character recognition pattern dictionary preparing device of which the accuracy of recognition will not be lowered, even when a feature vector to be used for selecting a feature amount is not suitable for character recognition.例文帳に追加

特徴量選択を行なう際に用いられる特徴ベクトルが文字認識に適切でない場合であっても認識精度が低下しないような文字認識パターン辞書作成装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, even when the distance A of the intermittent shift of the irradiation region group is slightly misaligned, the gap between stripes 71, 72 is properly irradiated with light and the pattern with high accuracy can be drawn at high speed.例文帳に追加

これにより、光照射領域群の間欠移動距離Ａが微少にずれた場合であっても、ストライプ７１，７２間に光が適切に照射され、高精度なパターンを高速に描画することができる。 - 特許庁

To provide a fine pattern forming method which obviates the occurrence of the deterioration in dimensional accuracy by the influence of reflected light, etc., from a light shielding body surface in projection exposing using a phase shift mask having high phase angle controllability.例文帳に追加

位相角制御性の高い位相シフトマスクを用い投影露光時に遮光体面からの反射光等の影響による寸法精度劣化の生じない微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To realize high-accuracy personal identification by using an unclear finger vein pattern image with positional shift regarding the personal identification under environment requiring a non-contact property.例文帳に追加

本発明の目的は、非接触性の求められる環境下での個人認証に関し、不鮮明で位置ずれのある指静脈パターン画像を利用しながらも、高精度な個人認証を実現することである。 - 特許庁

The solution is algebraically calculated on the basis of the geometric relation by simultaneously setting up the algebraic conditions in each the solution pattern, and accuracy of the calculated solution is geometrically checked (S7-S9).例文帳に追加

そして、当該解パターン毎の代数的制約条件を連立させることにより、幾何的な関係に基づいて、代数的に解を算出し、算出した解の精度を、幾何的にチェックする(S7-S9)。 - 特許庁

To produce a circuit board having a circuit pattern formed with especially high accuracy at least on one side by controlling deformation of a flexible film susceptible to dimensional variation due to heat, humidity or an external force.例文帳に追加

熱、湿度、外力の影響で寸法変化を起こしやすい可撓性フイルムの変形を抑制し、少なくとも片面に特に高精度な回路パターンを形成した回路基板を製造すること。 - 特許庁

To provide a wideband dual-polarization antenna with a slot pattern that can produce vertical polarized energy near the horizon and can scan at a high accuracy fine angle.例文帳に追加

本発明の目的は、水平に近い状態で垂直偏波エネルギーを生成することが可能で、ほぼ微少角での走査が可能なスロットパターンを有する広帯域二重偏波アンテナの提供である。 - 特許庁

To enable to highly accurately control the shape of a resist mask to be used for forming a lead element into a predetermined pattern, and to improve the forming accuracy of the lead element and manufacturing yield of a magnetic head.例文帳に追加

リード素子を所定パターンに形成するレジストマスクの形状を高精度に制御することを可能とし、リード素子の形成精度を高めるとともに磁気ヘッドの製造歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide an electron beam lithographic equipment to be used when manufacturing a master disk of an information recording medium such as an optical disk by which a desired pattern can be lithographed with high accuracy on the master disk.例文帳に追加

光ディスク等の情報記録媒体の原盤を作製する場合に使用される電子ビーム描画装置に関し、原盤に所望のパターンを高精度で描画することができるようにする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which forms an image without degrading accuracy in registration correction even when a pattern and a flaw on a transfer belt are overlapped each other, and to provide its control method.例文帳に追加

転写ベルト上の傷とパターンとが重なった場合であっても、レジストレーション補正の精度を低下させることなく画像形成を行う画像形成装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To improve on the throughput of an aligner without reducing accuracy in positioning, in compliance with correcting parameters, the original plate pattern relative to each of a plurality of shot regions on a substrate.例文帳に追加

露光装置において、基板上の複数のショット領域のそれぞれに対して、補正パラメータに基づいて原版のパターンを位置合わせする位置合わせの精度を落とすことなく、スループットを向上させる。 - 特許庁

To detect a defect in each display region with high accuracy, in the case that an inspection pattern simultaneously having at least two kinds or more display regions with mutually different gray scale levels exists on a transmissive display panel.例文帳に追加

透過型表示パネルに、少なくとも２種類以上の異なる階調の表示領域を同時に有する検査パターンを有する場合において、表示領域毎の欠陥を高精度に検出する。 - 特許庁

To improve a drawing accuracy of a paste pattern by eliminating the positioning deviation of each nozzle even when the positioning deviation of the discharge ports of a plurality of nozzles occurs with the exchange and the attachment and detachment of the nozzles.例文帳に追加

複数のノズルの吐出口の位置がそれらのノズルの交換、着脱に伴い位置ずれを生じても、各ノズルのこの位置ずれを解消し、ペーストパターンの描画精度を向上すること。 - 特許庁

To provide a position detecting apparatus and its method having high accuracy by compensating for a pattern position detected from information of dislocation caused by an aberration in an optical system or an error in manufacturing.例文帳に追加

光学系の収差、製造誤差等に起因する位置ずれ情報に基づいて検出されたパターン位置を補正し、高精度にパターン位置を検出できる装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem, wherein worsening of the measurement accuracy of a speckle pattern of the surface of a body to be detected which should originally be observed occurs, caused by a mixing of lights reflected by the back surface of the body to be detected as noise.例文帳に追加

本来観測すべき被検出体表面のスペックルパターンに対して、被検出体背面にて反射した光がノイズとして混入することに起因し、測定精度の悪化が生じる。 - 特許庁

To provide a transfer mask and its manufacturing method by which warpage can be reduced and the positional accuracy of an entire transfer mask can be made appropriate without degrading the positional relationship of a transfer pattern in a single crystal silicon layer.例文帳に追加

反り量が少なく、単結晶シリコン層内の転写パターンの位置関係が悪化することなく、転写マスク全体の位置精度が良好な転写マスク及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To improve circuit simulation accuracy by extracting parasitic capacitance (overlapping capacitance value) of overlapped portions of a gate electrode and source/drain regions of a MOS transistor by using a small-area test pattern and precision is improved.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタのゲート電極とソース／ドレイン領域の重なり部分の寄生容量（オーバーラップ容量値）を小面積のテストパターンにより高精度に抽出して回路シミュレーション精度を向上する。 - 特許庁

To provide a photosensitive film for forming circuits, which is reduced in its manufacturing cost and is improved in its resolution and pattern accuracy and the yield of printed-wiring boards and a method for manufacturing printed- wiring boards.例文帳に追加

製造コストを抑えると共に、解像度、パターン精度及びプリント配線板の製造歩留まりを向上させた回路形成用感光性フィルム及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a strain measuring device and a strain measuring method capable of improving the measuring accuracy and reducing an information processing amount while taking account of deformation of a prescribed feature pattern.例文帳に追加

本発明は、所定の特徴パターンの変形を考慮しつつ測定精度の向上と情報処理量の低減とを図ることができるひずみ測定装置およびひずみ測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, a color shift correction method and a program that maintain color shift correction accuracy to execute a color shift correction, even when an entire pattern length region cannot be secured on an image carrier due to the existence of a noise source on the image carrier.例文帳に追加

像担持体上にノイズ源が存在することにより像担持体上にパターン全長の領域が確保できない場合でも色ずれ補正の精度を維持して色ずれ補正を実行すること。 - 特許庁