「Pattern Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wiring information management device or the like, for storing relevant information among components in a wiring pattern as shading information generated among components, and for displaying the wiring pattern with accuracy and with configurations, which it is easily viewable by a designer, by devising the display configurations of the shading information.例文帳に追加

配線パターンにおける部品相互間の関連情報を、部品間で生じる陰影情報として保持すると共に、陰影情報の表示態様を工夫することで配線パターンを正確に、且つ設計者に見やすい態様で表示する配線情報管理装置等を提供する - 特許庁

To overcome poor pattern accuracy of chemical etching and adhesive defect when adhering an aluminum layer onto a transparent base material, which are the problems generated when the material of a metal pattern is replaced with cheap aluminum from copper, and to provide a low-cost and practicable transparent conductive member with the use of aluminum.例文帳に追加

金属パターンの材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる課題である、ケミカルエッチングのパターン精度不良及びアルミニウム層を透明基材上に接着する際の接着不良を解消して、アルミニウムを用いた安価で而かも実用可能な透明導電部材を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for processing development, capable of developing a resist pattern having a rectangle shape whose tip is not rounded, and capable of processing with sufficient accuracy a film to be etched, when etching the under layer film to be etched using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

先端が丸みを帯びない矩形形状を有するレジストパターンを現像することができ、レジストパターンをマスクに用いて下層の被エッチング膜をエッチング処理により加工する際に、被エッチング膜を精度よく加工することができる現像処理方法及び現像処理装置を提供する。 - 特許庁

Gate length of an MOS transistor is important for the characteristics of a transistor and since the mask pattern is formed with high accuracy even if the gate electrode pattern includes a microelement figure, uniform and excellent characteristics of an MOS transistor can be obtained easily with regard to the gate length.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタのゲート長はトランジスタ特性上重要であり、ゲート電極パターンが微小要素図形を含むことになっても、そのマスクパターン等は高精度に作製されるから、ゲート長に関するＭＯＳトランジスタの均一で優れた特性を容易に実現することができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern membrane by which the pattern membrane having a quadrangular cross-sectional shape in which two cross-sectional angles specified at both ends of long sides among mutually facing long sides and shot sides are mutually different is formed with high accuracy as much as possible.例文帳に追加

互いに対向する長辺および短辺のうち、その長辺の両端において規定される２つの断面角度が互いに異なる四角形状の断面形状を有するパターン膜を可能な限り高精度に形成することが可能なパターン膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive paste capable of forming an electrode pattern excellent in profile accuracy and without short-circuiting or the like on the surface of a substrate by restraining generation of stringing in a forming process of an electrode pattern using an intaglio offset printing method, as well as a manufacturing method of an electrode substrate using the same.例文帳に追加

凹版オフセット印刷法を利用した電極パターンの形成工程において糸曳きが発生するのを抑制して、基板の表面に、形状精度に優れ、短絡等のない電極パターンを形成できる導電ペーストと、それを用いた電極基板の製造方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a photomask deficiency defect by which an FIB (focused ion beam) correction device can be used as a tool to correct a minute edge deficiency defect portion in a circuit pattern part, the deficiency defect region of the circuit pattern part is subjected to vapor deposition with high accuracy, and the photomask having excellent cleaning durability can be obtained.例文帳に追加

回路パターン部の微小なエッジ欠損欠陥部を修正するツールとしてＦＩＢ修正装置を用いることができ、精度良く回路パターン部の欠損欠陥領域に蒸着するとともに、フォトマスクの耐洗浄性に優れたフォトマスク欠損欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printing method by which a good printing condition is maintained even when the thicknesses of articles to be printed vary, and a printing pattern of a good pattern accuracy can stably be formed when an organic functional thin film is formed by the letterpress printing method, and as a result, to provide a manufacturing method for the organic functional thin film.例文帳に追加

凸版印刷法によって有機機能性薄膜を形成する際に、被印刷体の厚みがばらついても良好な印刷条件を維持し、安定してパターン精度の良い印刷パターンを形成できるような印刷方法、ひいては有機機能性薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device employing EUV light which prevents the deterioration of positional accuracy of a transfer pattern which is accompanied by the heating of a reticle or a wafer due to ultraviolet ray included in beams from a plasma light source, and which stably transfers a delicate pattern, and also to provide an exposure method employing the exposure device.例文帳に追加

プラズマ光源からの光線に含まれる赤外線によるレチクルやウエハの加熱に伴う転写パターンの位置精度の低下を防止した、安定して微細なパターンの転写ができるＥＵＶ光を用いた露光装置、および当該露光装置を用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

A pattern with high accuracy is formed by carrying out a step (S12) of subjecting the design data to proximity correction; a step (S13) of extracting a portion where the process margin deteriorates; and a step (S14) of correcting a pattern in the extracted portion where the process margin deteriorates.例文帳に追加

設計データに対して近接効果補正を施す工程（Ｓ１２）と、プロセス余裕度が劣化する箇所を抽出する工程（Ｓ１３）と、抽出されたプロセス余裕度が劣化する箇所に対してパターン補正を行う工程（Ｓ１４）とを行うことにより高精度なパターン形成を実現する。 - 特許庁

To provide a method of judging the flow pattern of vapor-liquid two- phase flow in which the flow pattern of a vapor-liquid two-phase flow in piping, the inside of which cannot be observed visually, can be judged objectively with high correct rate (accuracy) from the outside without having any effect on the piping and its flow.例文帳に追加

内部が目視観察できない配管内の気液二相流のフローパターンを、配管およびその流れに影響を与えることなく、外部から高い正解率（精度）で、客観的に判別することができる気液二相流のフローパターン判別方法を提供する。 - 特許庁

The printer scanner (on carriage) prints a specified pattern by means of a recording head, reads in its check pattern by means of a scanner and calculates the positional relation between a recording head and a scanner (on carriage scanner) mounted simultaneously on a carriage conveniently with high accuracy from the information thus read in.例文帳に追加

プリンタ・スキャナ（オンキャリッジ）装置において、記録ヘッドとキャリッジに同時に搭載されているスキャナ（オンキャリッジスキャナ）との位置関係を記録ヘッドにより、有る所定のパターンを印字しそのチェックパターンをスキャナにて読み込み、読み込んだ情報から、簡易にかつ高精度に算出する。 - 特許庁

To improve accuracy of a starting position of drawing in a circumference direction in each position in a radial direction of each region when a hard disk pattern is drawn by electron beam scanning, the hard disk pattern including a plurality of servo regions and data regions between the servo regions in an arc form provided from the center side to the outside of the disk.例文帳に追加

中心側から外側に向けて円弧状に設けられる複数のサーボ領域と該サーボ領域間のデータ領域からなるハードディスクパターンを電子ビーム走査により描画する際の、各領域の半径方向位置毎の周方向描画開始位置の精度を向上させる。 - 特許庁

To suppress the lowering of a detection accuracy even if a scale is contaminated or the like, or even if a pattern on the scale is something like an integrated pattern, to keep a detection head compact, and to reduce the stopping of a control machine to which an encoder is mounted, due to an error.例文帳に追加

スケール上に汚れ等がある場合、およびスケール上のパターンが統合パターンのような場合においても、検出精度の低下を抑制するとともに検出ヘッドをコンパクトに維持でき当該エンコーダが装着される制御機械のエラー止まりを少なくすることが可能となる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for accurately measuring the trial of the cuff of a fine pattern, and also to provide a semiconductor device manufacturing control system for deciding the processing accuracy on the basis of shape information, such as the height of pattern, tapering angle, amount of trail, and roughness.例文帳に追加

微細パターンのボトム部の裾引き形状を正確に計測する方法および計測装置を提供するとともに、パターン高さ、テーパー角、裾引き量およびラフネス等の形状情報に基づいて加工精度を判定する半導体デバイスの製造管理システムを提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for detecting concentration of an image pattern in sufficient accuracy not depending on color and concentration of the image pattern to be detected, on the occasion of color stabilization control of an output image using a sensor installed on a carrying path in the downstream side of a fixing device.例文帳に追加

定着器下流側の搬送路上に設置したセンサを用いて出力画像の色安定化制御を行う場合において、検出する画像パターンの色や濃度によらず十分な精度で画像パターンの濃度を検出することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The shot magnification etc., of an exposure system 21 is corrected by measuring the superimposing accuracy between the lower-layer pattern and an upper-layer pattern in a chip area, by measuring the patterns by using an evaluation device 11 utilizing a substrate current signal induced when an electron beam is projected upon an overlay mark.例文帳に追加

重ね合わせマークに電子ビームを照射したときに誘起される基板電流信号を利用した評価装置１１を用いて、チップエリアの下層パターンと上層パターンを測定することで重ね合わせ精度を測定し、露光装置２１のショット倍率等を補正する。 - 特許庁

To enable a system to efficiently estimate a travel speed pattern, without referring to enormous past travel data, when estimating a travel speed pattern, based on the past travel data, and to prevent the estimation accuracy from dropping, due to the decrease in the available past data.例文帳に追加

過去の走行データに基づいて走行速度パターンを推定するときに、過去の膨大な走行データを参照することなく効率的に走行速度パターンを推定することができ、かつ、利用することができる過去のデータの数が少なくなって推定の精度が低下してしまうことがないようにする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of stably forming a printing pattern of excellent pattern accuracy by easily clarifying a relation between a pixel shape of a barrier-rib substrate suited for printing conditions and a printing method, in forming an organic functional element by a letterpress printing method.例文帳に追加

凸版印刷法によって有機機能性素子を形成する際に、容易に印刷条件に適した隔壁基板の画素形状と、印刷方法の関係を明らかにすることにより、安定してパターン精度の良い印刷パターンを形成できるような製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern processing method and a pattern processing apparatus capable of directly processing a membrane with a high degree of accuracy by irradiating a light pervious to a mask between a light source and a substrate to the membrane on the surface of the substrate and at the same time, capable of precisely masking and processing a large-sized substrate with a required minimum sized-mask.例文帳に追加

光源と基板との間のマスクを透過した光を基板表面の薄膜に照射し、薄膜を直接高精度に加工できると共に、必要最小限の大きさのマスクで大型サイズの基板も適切にマスクしつつ加工できるパターン加工方法及び加工装置を提供する。 - 特許庁

Thus, the deterioration of the correcting accuracy of shift in the superposition caused by the backlash is avoided by avoiding non-coincidence caused by the backlash between a velocity fluctuation pattern detected based on an image for detecting velocity fluctuation and a velocity fluctuation pattern made when forming an image.例文帳に追加

これにより、速度変動検知用画像に基づいて検出された速度変動パターンと、画像形成時に発生する速度変動パターンとの、ガタツキに起因する不一致を回避することで、ガタツキに起因する重ね合わせズレ補正精度の悪化を回避することができる。 - 特許庁

To suppress the lowering of the accuracy of a detection angle caused by a distance difference between a sine-phase patterns and a cosine-phase coil pattern which is disposed at the stator side and constitutes an exciting coil or a detection coil, and a coil pattern which is disposed at the rotor side and constitutes a detection phase or an excitation phase.例文帳に追加

ステータ側に配置された励磁コイルまたは検出コイルを構成するｓｉｎ相およびｃｏｓ相のコイルパターンと、ロータ側に配置された検出相または励磁相を構成するコイルパターンとの距離の違いに起因する検出角度の精度の低下を抑える。 - 特許庁

To provide a method for exposure and a phase shift mask in which the resolution of an image formed on a resist according to a two-dimensional random pattern can be improved and the dimensional accuracy of the two-dimensional random pattern projected onto the resist can be improved.例文帳に追加

本発明は、二次元ランダムパターンに対してレジストに結ばれる像の解像度の向上をさせることができ、併せてレジストに露光される二次元ランダムパターンの寸法精度を向上させることができる露光方法および位相シフトマスクを提供することを課題とする。 - 特許庁

A photomask 101 is provided with a main pattern part 101A for forming a main pattern on a resist film, and an alignment mark part 101B for forming the alignment accuracy measuring mark with a cross section not passing through the resist film when the resist film is developed on the resist film.例文帳に追加

フォトマスク１０１は、レジスト膜にメインパターンを形成するためのメインパターン部１０１Ａと、レジスト膜に、該レジスト膜が現像されたときに該レジスト膜を貫通しない断面形状を有するアライメント精度計測マークを形成するためのアライメントマーク部１０１Ｂとを備えている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a barrier rib and lower panel for a plasma display panel capable of forming a barrier rib pattern of a desired shape with high accuracy, and easily determining a thickness of a dielectric layer.例文帳に追加

所望の形状の隔壁パターンを高精密度で形成し、誘電体層の厚さを容易に決定することが可能なプラズマディスプレイパネル用隔壁及び下部パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To form a pattern having a high line width accuracy by promoting chemical amplification of a resist at the time of heat-treating a substrate which is applied with the chemically-amplified resist and is exposed.例文帳に追加

化学増幅型のレジストが塗布され露光された基板を加熱処理するにあたり、レジストの化学増幅反応を促進させて線幅精度の高いパターンを形成できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To deregulate selection of a pattern while a high accuracy is assured as a decorative plate with sufficient visibility and to simultaneously easily manufacture the small quantity and multiple types of printing bases at a low cost.例文帳に追加

充分な視覚性を有し化粧板としての高い精度を確保しつつ、模様の選択の自由化を図ることができると同時に、低コストで少量多種類の印刷基材を簡易に製造する。 - 特許庁

To provide a light irradiation device which gradually can change scanning pattern of a laser beam, while compensating error in accuracy of position detecting element to enable correct position control of an actuator.例文帳に追加

レーザビームのスキャンパターンを徐々に変更することができ、且つ位置検出素子の精度誤差を補正して正確なアクチュエータの位置制御を行うことができる光照射装置を提供すること。 - 特許庁

To obtain a method of bonding electronic components and a substrate, using a conductive adhesive whereby even in a fine pattern severe in accuracy requirements the electric insulation can be easily and reliably maintained.例文帳に追加

精度要求の厳しい微細なパターンでも容易かつ確実に電極間の電気絶縁性を保つことができる、導電性接着剤を用いた電子部品と基板との接合方法を提供する。 - 特許庁

To provide a structure of a two-layer resist for obtaining a half exposure pattern with high sensitivity and high accuracy, and to provide a manufacturing method of a display apparatus provided with thin film transistors formed by using the two-layer resist.例文帳に追加

高感度、高精度のハーフ露光パターンを得るための二層レジストの構造と、この二層レジストを用いて形成した薄膜トランジスタを具備した表示装置の製造方法を実現する。 - 特許庁

To perform correlation operation, even when the minimum line width of an ABS pattern is not an integral multiple of an array interval of an ABS light-receiving element array, and enables measurement of moving distance, with high accuracy.例文帳に追加

ＡＢＳパターンの最小線幅がＡＢＳ受光素子アレイのアレイ間隔の整数倍となっていない場合でも、相関演算を行うことができ、高精度に移動距離を計測可能とする。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having such resist characteristics that a line-and-space (1:1) with a pattern process accuracy of ≤90 nm can be achieved with a satisfactory shape in the lithographic process for a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路のリソグラフィーによるパターン加工精度として９０ｎｍ以下のライン・アンド・スペース（１：１）を良好な形状で達成可能なレジスト特性を有するホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a code error rate measurement apparatus and a code error rate measurement method for automatically setting a clock phase and a data threshold voltage to a center of an opening of an eye pattern at high speed with high accuracy.例文帳に追加

クロック位相とデータ閾値電圧を高速かつ高精度でアイパターンの開口部中心に自動設定できる符号誤り率測定装置および符号誤り率測定方法を提供すること。 - 特許庁

To detect a defect in each display region with high accuracy, in the case that an inspection pattern simultaneously having at least two kinds or more display regions with mutually different gray scale levels exists on a transmissive display panel.例文帳に追加

透過型表示パネルに、少なくとも２種類以上の異なる階調の表示領域を同時に有する検査パターンを有する場合において、表示領域毎の欠陥を高精度に検出する。 - 特許庁

To enable to highly accurately control the shape of a resist mask to be used for forming a lead element into a predetermined pattern, and to improve the forming accuracy of the lead element and manufacturing yield of a magnetic head.例文帳に追加

リード素子を所定パターンに形成するレジストマスクの形状を高精度に制御することを可能とし、リード素子の形成精度を高めるとともに磁気ヘッドの製造歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To improve on the throughput of an aligner without reducing accuracy in positioning, in compliance with correcting parameters, the original plate pattern relative to each of a plurality of shot regions on a substrate.例文帳に追加

露光装置において、基板上の複数のショット領域のそれぞれに対して、補正パラメータに基づいて原版のパターンを位置合わせする位置合わせの精度を落とすことなく、スループットを向上させる。 - 特許庁

To provide an electron beam lithographic equipment to be used when manufacturing a master disk of an information recording medium such as an optical disk by which a desired pattern can be lithographed with high accuracy on the master disk.例文帳に追加

光ディスク等の情報記録媒体の原盤を作製する場合に使用される電子ビーム描画装置に関し、原盤に所望のパターンを高精度で描画することができるようにする。 - 特許庁

To perform accurate control in which machine accuracy of a printing machine is taken into consideration; to adopt a specific color which is important for the quality in each printed pattern as an object to be measured/controlled.例文帳に追加

印刷機の機械精度を考慮に入れた高精度の制御ができ、個々の印刷絵柄において品質面で重要となる特定色を測定と制御の対象とすることができるようにする。 - 特許庁

To provide an information generation device, an object detection device, an information generation method, an object detection method and a program for more improving the accuracy of the detection of an object using a local binary pattern.例文帳に追加

ローカルバイナリパターンを用いた物体の検出の精度をより向上させることが可能な、情報生成装置、物体検出装置、情報生成方法、物体検出方法、およびプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide an aromatic polyamide which can be adhered onto a glass plate without using an adhesive layer, wherein a high accuracy circuit pattern formed from the aromatic polyamide cannot cause displacement easily in circuit board processing process.例文帳に追加

芳香族ポリアミドが接着層を介さずにガラス板に接着可能であり、かつ、形成した高精度の回路パターンが回路基板加工プロセス中で位置ずれを起こしにくい芳香族ポリアミドを得ること。 - 特許庁

To provide a reflective optical sensor and image forming device having high light use efficiency, a good S/N ratio, and high detection accuracy, for detecting toner concentration or a toner position even in a contracted toner pattern.例文帳に追加

光利用効率が高く、ＳＮ比が良く、検出精度が高く、縮小化されたトナーパターンでも、トナー濃度またはトナー位置の検出が可能な反射型光学センサおよび画像形成装置を得る。 - 特許庁

To provide a transfer mask and its manufacturing method by which warpage can be reduced and the positional accuracy of an entire transfer mask can be made appropriate without degrading the positional relationship of a transfer pattern in a single crystal silicon layer.例文帳に追加

反り量が少なく、単結晶シリコン層内の転写パターンの位置関係が悪化することなく、転写マスク全体の位置精度が良好な転写マスク及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To improve circuit simulation accuracy by extracting parasitic capacitance (overlapping capacitance value) of overlapped portions of a gate electrode and source/drain regions of a MOS transistor by using a small-area test pattern and precision is improved.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタのゲート電極とソース／ドレイン領域の重なり部分の寄生容量（オーバーラップ容量値）を小面積のテストパターンにより高精度に抽出して回路シミュレーション精度を向上する。 - 特許庁

To provide an optical disk cartridge which does not require processing accuracy of a diffraction grating when a pattern such as characters, figures or the like is to be displayed by diffracted light by a diffraction grating formed in the shell of an optical disk.例文帳に追加

光ディスクのシェルに形成された回折格子による回折光によって文字、図形等のパターンを表示する際に、回折格子の加工精度を必要としない光ディスクカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a swing stop control device for a crane achieving the swing stop of a suspended load with high accuracy without having a speed pattern in a crane conveyance system including a double pendulum structure and a single pendulum structure.例文帳に追加

二重振り子構造、単振り子構造を含むクレーン搬送システムにおいて、速度パターンを持たずに、吊り荷の振れ止めを高精度に実現可能としたクレーンの振れ止め制御装置を提供する。 - 特許庁