「Pattern Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of forming an illumination intensity correcting filter, capable of preventing loosening of a photosensitive coating film on the quartz glass and forming a light-shielding part of a prescribed pattern with a high accuracy.例文帳に追加

石英ガラス上の感光性塗布膜の弛みを防止して、所定のパターンの遮光部を高精度に形成できる照度補正フィルターの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for evaluating a magnetic recording medium which improves the speed and accuracy of the evaluation of the magnetic recording medium having a magnetic recording pattern separated magnetically.例文帳に追加

磁気的に分離された磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の評価に対する迅速性及び正確性を高めた磁気記録媒体の評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a proximity effect which can improve the accuracy of a proximity effect correction by taking differences in the quantity of out-of-focused light between meshes corresponding to divisions of a mask pattern into consideration.例文帳に追加

マスクパターンを分割したメッシュ毎のビームぼけ量の違いを考慮することで近接効果補正の精度う改善した近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁

To prevent deterioration of the performance of an element or a decrease in yield due to a decrease in an pattern overlapping accuracy caused by deformation of the shape of an exposure region.例文帳に追加

露光領域の形状の歪みに起因するパターンの重ね合わせ精度の低下による素子性能の劣化又は歩留まりの低下等を防止できるようにする。 - 特許庁

To eliminate an adverse influence on the accuracy at the time of loading wafers by vibration during the operation of a gate valve which is an entrance or exit of a sample chamber for pattern evaluation of wafers.例文帳に追加

ウェーハのパターン評価をする試料室の出入口となるゲートバルブ作動時の振動が、ウェーハをロードする際の精度に悪影響を与えないようにする。 - 特許庁

To prevent deterioration in the accuracy of expression in printing by reducing as much as possible the effects by a pattern and a texture of the raw material of a three-dimensional relief material.例文帳に追加

三次元レリーフのレリーフ材料の素材の持つ柄や質感による影響をできるだけ低減し、印刷による表現の精度が低下するのを防止すること。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of forming a repeated pattern, with high interval accuracy on the side surface of the sample to be exposed.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、被露光試料の側表面に高い間隔精度で繰り返しパターンを形成できる露光方法を提供できるようにすることである。 - 特許庁

To detect a position with high accuracy without executing pattern matching in a rotational direction even when a detection target is disposed in an attitude including displacement in the rotational direction.例文帳に追加

検出対象が回転方向の位置ずれを含んだ姿勢で配置されている場合にも、回転方向のパターンマッチングを行うことなく、高精度の位置検出を行う。 - 特許庁

To suppress variations in inspection accuracy, due to the different levels of proficiency among workers by easily determining the presence of uneveness in a periodic pattern in an object of inspection.例文帳に追加

被検査体の周期性パターンにおけるムラの有無を容易に判定するものであり、作業者間の習熟度の違いによる検査精度のばらつきを抑える。 - 特許庁

To provide an image input apparatus for suitably carrying out exposure control on the basis of a detection result by detecting an object pattern with high accuracy even in a scene of a state such as a backlight wherein the exposure control is difficult.例文帳に追加

逆光など露出制御の難しいシーンにおいても精度よく被写体パターンを検出し、検出結果にもとづいて露出制御を好適に行う。 - 特許庁

In the mask that is complementarily divided in the electron beam projection exposure, a pattern requiring high dimensional accuracy and the other patterns are arranged at one mask and the other masks, respectively.例文帳に追加

電子線投影露光における相補分割されたマスクにおいて、一つのマスクに高い寸法精度が要求されるパターンを、他方のマスクにそれ以外のパターンを配置する。 - 特許庁

To provide a dial device where a plurality of contact pieces come into contact with an electrode pattern with stable pressure and at high positional accuracy and by which smooth and excellent click feeling is obtained.例文帳に追加

複数の接片が電極パターンに安定した圧力で、かつ高い位置精度で接触するとともに、滑らかで良好なクリック感が得られるダイヤル装置を提供する。 - 特許庁

To maximally restrain a design change caused by a change in a shift pattern, by stabilizing a detection result by further restraining a variation in position detection accuracy.例文帳に追加

位置検出精度のばらつきをより一層抑制して検出結果の安定化を図るとともに、シフトパターンの変更に伴う設計変更をできるだけ抑制する。 - 特許庁

Due to the multiple exposure, the light intensity of the respective patterns is the same even if the phase absolute value in the mask varies, thereby improving the dimensional accuracy of the transferred pattern.例文帳に追加

多重露光により、マスクにおける位相の絶対値が変動しても、それぞれのパターンの光強度は同一となり、転写されたパターン寸法精度が向上する。 - 特許庁

To cut a fuse with high accuracy and lessen the area of a pattern for positioning in trimming that it occupies in a scribe line region, in an IC where the fuse is trimmed with a laser.例文帳に追加

ヒューズをレーザトリミングをするＩＣにおいて、高精度でヒューズを切断し、及びスクライブライン領域に占めるトリミング位置決め用パターンの面積を小さくすること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a new and improved lower panel for a PDP capable of forming a high-definition barrier rib pattern with high form accuracy by utilizing an X-ray.例文帳に追加

Ｘ線を利用して高精細の隔壁パターンを高い形状精度で成形できる、新規かつ改良されたＰＤＰ用下部パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To manufacture a car seat with the good outward appearance by aligning the seam part of different covering materials and a pad easily with good accuracy in the car seat having a pattern.例文帳に追加

パターンを有する車両用シートにおいて、異なる表皮材の縫い合わせ部とパッドを簡単且つ精度良く位置合わせして、見栄えの良い車両用シートを製造する。 - 特許庁

To provide a droplet discharge device in which alignment accuracy between a striking position of a droplet and an irradiation position of a laser beam is improved and a shape controlling property of a pattern is improved.例文帳に追加

液滴の着弾位置とレーザ光の照射位置の整合精度を向上させて、パターンの形状制御性を向上させた液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which enables an improvement in exposure dimensional accuracy without allowing illumination light to substantially receive the influence of shifter side walls and without depending on pattern shapes.例文帳に追加

照明光がシフター側壁の影響を実質上受けることなく、且つパターン形状によらず露光寸法精度向上が可能となる位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a system and method for electron beam exposure by which a pattern can be exposed on a wafer with accuracy, by correcting the irradiation time of an electron beam upon the wafer.例文帳に追加

ウェハに対する電子ビームの照射時間を補正し、精度よくウェハにパターンを露光することができる電子ビーム露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask, by which dimensional accuracy on a final pattern after multiple exposure processes can be improved, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

多重露光後の最終パターン上での寸法精度を改善することが可能なフォトマスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a display comprising arc tube array type display sub-modules connected in a lateral direction with high accuracy, configured in common without changing a display electrode pattern by each sub-module.例文帳に追加

発光管アレイ型表示サブモジュールごとに表示電極パターンを変えることなく共通化され、高い精度で横方向に接続されてなる表示装置を提供する。 - 特許庁

To connect electrodes and a wiring pattern electrically with hight positional accuracy and to provide a highly reliable semiconductor device and a method of manufacture.例文帳に追加

本発明の目的は、電極と配線パターンとを位置精度よく電気的に接続し、かつ、信頼性の高い半導体装置及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an apparatus capable of producing a formed glass substrate having large area and holding a fine pattern formed by surface unevenness in high forming accuracy and productivity.例文帳に追加

表面に凹凸により微細なパターンが形成された大面積のガラス製成形基板を、高い成形精度且つ高い生産性で製造することができる装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid drop ejection production apparatus for producing a high grade, high quality, high accuracy and high reliability pattern wiring board or a device substrate with high yield.例文帳に追加

高品位、高品質かつ高精度で信頼性の高いパターン配線基板あるいはデバイス基板を歩留まり良く製造するための液滴噴射製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing photosensitive composition having high sensitivity and capable of forming a pattern having high dimensional accuracy and a sensitive film obtained from the composition.例文帳に追加

高感度で寸法精度の高いパターンを形成することができる無機粒子含有感光性組成物およびそれから得られる感光性フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a ceramic green sheet in which electrodes can be formed with good pattern accuracy and after the ceramic green sheet is formed, a carrier sheet can be easily released.例文帳に追加

パターン精度よく電極を形成でき、しかもセラミックグリーンシートの形成後にはキャリアシートを容易に剥離することができるセラミックグリーンシートの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic semiconductor element capable of easily manufacturing an organic semiconductor element having excellent pattern accuracy of an organic semiconductor layer and excellent transistor characteristics.例文帳に追加

有機半導体層のパターン精度が良好であり、トランジスタ特性に優れた有機半導体素子を容易に製造することが可能な製造方法を提供すること。 - 特許庁

To contribute to improvement in exposure accuracy of EUV exposure or the like by inhibiting degradation in surface flatness caused by reflective pattern formation or degradation in surface flatness in electrostatic chucking.例文帳に追加

反射パターン形成による表面平坦度の劣化や静電チャック時の表面平坦度劣化を抑制することができ、ＥＵＶ露光などの露光精度の向上に寄与する。 - 特許庁

To provide a method and device which has little constraints of a data format and can obtain higher identification accuracy in a field for performing pattern recognition from multidimensional information.例文帳に追加

多次元情報からパターン認識を行なう分野において、データ形式の制約が少なく、かつ、より高い識別精度を得ることが可能な方法および装置を提供する。 - 特許庁

Then the mask distortion caused by the electron beam exposure system for mask making is evaluated by measuring the posional distortion of the resist pattern in the position accuracy evaluation mark 40 of the etching mask.例文帳に追加

次いで、エッチングマスクの位置精度評価マーク４０のレジストパターンの位置ずれを測定することにより、マスク作製用電子線露光装置に起因するマスク歪みを評価する。 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing photosensitive resin composition capable of forming a high-accuracy pattern, excellent in thermal decomposability of organic components, and ensuring less shrinkage after baking.例文帳に追加

精度の高いパターンを形成することができるとともに、有機成分の熱分解性に優れ、かつ、焼成後に収縮の少ない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electroluminescent substrate or an electroluminescent element with sufficient accuracy of pattern without any restrictions on the sort of luminous materials.例文帳に追加

発光材料の種類による制約がなく、得られるパターンの精度が充分得られるエレクトロルミネッセント基板もしくはエレクトロルミネッセント素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device which enhances the accuracy of superposition of functional patterns and a steep rise in the cost of which is suppressed, and to provide an exposed pattern forming method.例文帳に追加

機能パターンの重ね合わせ精度を向上すると共に露光装置の高騰を抑制しようとする露光装置及び露光パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To simplify a fabricating process by performing a patterning process without using a photolithography process, and to form a thin film pattern at a home position by improving the accuracy of alignment.例文帳に追加

ホト工程を使用しないでパターニング工程を遂行し製造工程を単純化すると共にアラインメントの正確性を向上させて薄膜パターンを定位置に形成させる。 - 特許庁

To provide an optical film for display which ensures high light ray transmittance with a small number of sheets of base films and is manufactured while maintaining high positioning accuracy of a light-shielding pattern.例文帳に追加

基材フィルムの枚数が少なくて光線透過率が高いと供に、遮光パターンの位置合わせ精度を高く維持して製造できるディスプレイ用光学フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a coin identifying device capable of easily identifying the type and truth/falsehood of a coin with high accuracy by paying attention to recessed/projecting information made by a punched pattern on the coin surface.例文帳に追加

コイン表面における打抜模様がなす凹凸情報に着目して、その種別や真偽を簡易に、精度良く識別することのできるコイン識別装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid drop ejection production apparatus capable of producing a high quality, high accuracy and high reliability pattern wiring board or a device substrate with high yield and exhibiting reliability in long term use, and to provide a high accuracy, high quality and high reliability pattern wiring board or a device substrate being produced by the apparatus.例文帳に追加

高品質かつ高精度で信頼性の高いパターン配線基板あるいはデバイス基板を歩留まり良く製造でき、長期使用における信頼性のある液滴噴射製造装置を提供し、さらにその製造装置により製作される高精度かつ高品質で信頼性の高い機能を付与されたパターン配線基板、デバイス基板を提供する。 - 特許庁

To provide a solution ejection production apparatus capable of producing a high quality, high accuracy and high reliability pattern wiring board or a device substrate with high yield and exhibiting reliability in long term use, and to provide a high accuracy, high quality and high precision pattern wiring board or a device substrate being produced by the apparatus.例文帳に追加

高品質かつ高精度で信頼性の高いパターン配線基板あるいはデバイス基板を歩留まり良く製造でき、長期使用における信頼性のある溶液噴射製造装置を提供し、さらにその製造装置により製作される高精度かつ高品質で信頼性の高い機能を付与されたパターン配線基板、デバイス基板を提供する。 - 特許庁

To provide encapsulated particles for static charge image development which is capable of print a wiring pattern with high density and high accuracy by electrostatic recording method or electrophotography, and is capable of forming a conductive patter with high accuracy and low resistance without vacant space and fault, and to provide a manufacturing method of the same and conductive wiring pattern forming method using above encapsulated particle.例文帳に追加

静電記録方式あるいは電子写真法により高密度かつ高精度の配線パターンの印刷が可能であり、空隙や欠陥等のない高精度、かつ低抵抗の導電性パターンを形成することが可能な静電荷現像用カプセル化粒子及びその製造方法、及びそれを用いた導電性配線パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask blank which is capable of shortening the dry-etching time by increasing the dry-etching speed of a light shielding film, reducing the film reduction of a resist film, improving resolution and pattern accuracy (CD accuracy) by reducing the thickness of the resist film, and forming a light shielding film pattern having a good cross-sectional shape due to the reduction of the dry-etching time.例文帳に追加

遮光膜のドライエッチング速度を高めることで、ドライエッチング時間が短縮でき、レジスト膜の膜減りを低減することができ、レジスト膜を薄膜化して解像性、パターン精度（ＣＤ精度）を向上でき、ドライエッチング時間の短縮化による断面形状の良好な遮光膜のパターンが形成することができるフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a method for releasing a flexible film from a reinforcing plate without incurring position deviation or disconnection of a circuit pattern, break of a bonding pad with an electronic component, damage of the electronic component, and the like in a circuit board member wherein the high-accuracy circuit pattern is formed by sticking the flexible film through an organic layer to the reinforcing plate and maintaining dimension accuracy.例文帳に追加

可撓性フイルムを有機物層を介して補強板に貼り合わせ、寸法精度を維持することで、高精度な回路パターンを形成した回路基板用部材を、回路パターンの位置ずれや断線、電子部品との接合パッド部の破断や電子部品の破損を起こすことなく、可撓性フイルムを補強板から剥離する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a die machining method by which a fine pattern can be formed on the surface of a desired shape with high accuracy in an easy production process without limiting the size of the fine pattern while avoiding complexity of the die production process in a method of producing the die for molding a molded article having the fine pattern.例文帳に追加

微細パターンを有する成形品を成形するための金型の製造方法について、その製作工程の煩雑化を避け、微細パターンのサイズが制限されないで、所望形状の表面に微細パターンを容易な製作工程で高精度に形成できるように、金型加工方法を工夫すること。 - 特許庁

Furthermore, a 1st retrieval processing to retrieve the image slippage position by using the electronic watermark pattern having a slippage by each small area with respect to the embedded electronic watermark pattern and a 2nd retrieval processing to detect an electronic watermark by using the electronic watermark pattern for setting the same small area when embedding the electronic watermark pattern are used to perform efficient the electronic watermark detection and to enhance the accuracy.例文帳に追加

また、埋め込んだ電子透かしパターンに対して小領域毎にずれを持たせた電子透かしパターンを用いて画像ずれ位置を探索する第１探索処理と、電子透かしパターン埋め込み時と同じ小領域設定の電子透かしパターンを用いて電子透かしの検出を行なう第２探索処理を併用することで、電子透かし検出の効率化、精度向上を実現する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a phase shifting mask in which dislocation of a resist pattern due to the waveguide effect of a Levenson phase shifting mask is suppressed and high alignment accuracy can be attained and to provide a method therefor and a pattern forming method.例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスクの導波路効果に起因するレジストパターンの位置ずれの発生を抑制し、高度の位置合わせ精度を達成することが可能な位相シフトマスクの作製装置及び作製方法並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁