「Pattern Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a radiation-curable composition which gives cured articles having excellent pattern accuracy, even when exposure is relatively a little.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、及び該組成物を硬化させてなる硬化膜を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam aligner and a method for measuring exposure dimensions in which the dimensions of an exposure pattern on a sample can be measured with high accuracy.例文帳に追加

試料上の露光パターンの寸法測定の高精度化を図ることができる荷電粒子線露光装置及び露光寸法測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint mold having a three-dimensional structure pattern with high accuracy and different height to be formed, and a manufacturing method for the imprint mold.例文帳に追加

精度良く高さの異なる三次元構造パターンが形成されたインプリントモールド、およびインプリントモールド製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To improve use efficiency of light while keeping preferable exposure accuracy in a light irradiating device that irradiates an object with light in a lengthwise pattern to carry out exposure.例文帳に追加

縦長のパターンに光を照射して露光を行なう光照射装置において、良好な露光精度を維持しながら、光の利用効率を上げること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed circuit board, that can manufacture the printed circuit board with improved patterning accuracy of a conductor pattern which is formed on an insulation substrate.例文帳に追加

絶縁基板上に形成する導体パターンのパターニング精度の良いプリント基板を製造することのできるプリント基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To prevent the end point detection accuracy from lowering due to pattern arrangement or variation in thickness of an underlying film in polishing equipment employing an optical end point detection.例文帳に追加

光学式終点検出を用いた研磨において、パターン配置や下地膜厚ばらつき等に起因する、終点検出精度の低下を防止する。 - 特許庁

To form a uniform printing pattern at a high accuracy and at the same time set optionally the coating thickness of a printing material.例文帳に追加

高精度で均一な印刷パターンを形成できると共に印刷材料の塗布厚を任意に設定可能なパターン形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a curable composition for nanoimprint, excellent in all of light transmittance, composition viscosity, pattern accuracy, substrate adhesiveness, light resistance, and heat resistance.例文帳に追加

光線透過率、組成物の粘度、パターン精度、基板密着性、耐光性、耐熱性のいずれにも優れたナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To efficiently manufacture a magnetic recording medium that includes a recording layer having a pattern of projections and recesses and a sufficiently flat surface with high recording and reproduction accuracy.例文帳に追加

凹凸パターンで形成された記録層を有し、表面が充分に平坦で記録再生精度が良好な磁気記録媒体を効率的に製造する。 - 特許庁

To provide an intaglio for printing wherein a high-resolution transfer pattern is formed by printing in good accuracy at simpler steps and to provide a method for manufacturing it.例文帳に追加

より簡便な手順で、精度良好に高解像度の転写パターンが印刷形成された印刷用凹版およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam aligner in which pattern transfer accuracy can be enhanced by reducing a disturbance magnetic field having an adverse effect on the track of a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子線の軌道に悪影響を与える外乱磁場を低減し、パターン転写精度を向上できる荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

Thus, the accuracy of a correction vector field 22 calculated based on a differential between the intersection and a theoretical checker pattern intersection is also improved.例文帳に追加

これにより上記交点と理論的なチェッカーパターンの交点との差分に基づいて算出される補正用ベクトル場２２の精度も高いものとなる。 - 特許庁

To provide a technique for improving detection accuracy of a modification made to a conductive pattern disposed on a circuit block to be protected.例文帳に追加

保護対象の回路ブロックの上に配置された導電パターンに加えられた改変の検出精度を向上するための技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To appropriately define coordinates of respective spots in a nano electron beam diffraction pattern to calculate a lattice plane distance with sufficient accuracy.例文帳に追加

本発明の課題は、ナノ電子線回折パタンにおける各スポットの座標を適切に定義し、格子面距離を精度良く算出することを目的とする。 - 特許庁

The flexibility of deciding the accuracy of a database is provided to a radio communication service provider according to the update frequency of a trace pattern database.例文帳に追加

トレース・パターン・データベースが更新される頻度、それに従い無線通信サービス・プロバイダにデータベースの正確さを決定する柔軟性が供される利点が有る。 - 特許庁

To provide a photomask blank and a method for manufacturing a photomask in which sufficient process accuracy with low dependence of pattern density is obtained in an etching process.例文帳に追加

エッチング加工時にパターンの粗密依存性が低い十分な加工精度を得ることのできるフォトマスクブランクとフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve detection accuracy of a motion vector for an image containing a cyclic pattern, when detecting the motion vector for generating an interpolation frame.例文帳に追加

補間フレームを作成するための動きベクトルの検出において、周期的なパターンを含んでいる画像に対して、動きベクトルの検出精度を向上する。 - 特許庁

To form a high resolution and high accuracy chemically amplified resist film pattern having excellent dry etching resistance and small edge roughness in electron beam lithography.例文帳に追加

電子線リソグラフィにおいて、ドライエッチング耐性に優れ、エッジラフネスが小さい、化学増幅型高解像度・高精度レジスト膜パターンの形成を可能にする。 - 特許庁

Thus, high alignment accuracy can be maintained, even when exposure processing is applied to the lots in which plates of different pattern forming states are mixed.例文帳に追加

これにより、パターンの形成状態の異なるプレートが混在したロットを露光処理する場合においても、高い重ね精度を維持することが可能となる。 - 特許庁

To provide a method for molding a polymer having a minute uneven pattern of a high aspect ratio in high shape accuracy and a polymer molding molded by the method.例文帳に追加

基材上に、微細で且つ高アスペクト比の凹凸パターンを有するポリマーを高い形状精度で成形する方法及びそのポリマー成形体を提供する。 - 特許庁

To improve accuracy of shape control for a silicon substrate, in a method for manufacturing a mask having a silicon substrate with an opening pattern formed thereon.例文帳に追加

開口パターンが形成されたシリコン基板を有するマスクを製造する方法において、シリコン基板に対する形状制御の精度向上を図る。 - 特許庁

To produce a laminated structure wherein a two-dimensional pattern is formed on a substrate by fine projections with high dimensional accuracy.例文帳に追加

基板上に微細な突起によって二次元のパターンが形成された積層構造体を、高い寸法精度で製造することができる方法を提供する。 - 特許庁

If the flatness accuracy of the glass substrate 20 is proper, the photolithography apparatus 10 makes the glass substrate 20 exposed to exposure laser light LP and forms a circuit pattern.例文帳に追加

ガラス基板２０の平面精度が良好であれば、露光装置１０は、露光用レーザ光ＬＰによりガラス基板２０を露光させ、回路パターンを形成する。 - 特許庁

To provide an inexpensive and new patterning technique of an inorganic film effectively patterning a piezoelectric film or the like, excelling in accuracy of the shape of a pattern, and facilitating patterning.例文帳に追加

圧電膜等のパターニングに有効であり、パターン形状精度が良好で、パターニングが容易で低コストな新規な無機膜のパターニング技術を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic watermark detector capable of improving the detection accuracy of a watermark pattern embedded in video information by various electronic watermark systems.例文帳に追加

様々な電子透かし方式により、映像情報に埋め込まれた透かしパターンの検出精度を高めることができる電子透かし検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure apparatus which can improve throughput and the accuracy of a formation pattern during partial batch exposure.例文帳に追加

部分一括露光において、スループットの向上を図るとともに、形成パターンの精度を向上させることのできる電子ビーム露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask by which an etching bias in a photomask can be predicted with high accuracy corresponding to a pattern opening ratio.例文帳に追加

フォトマスクの製造方法に関し、フォトマスクに於けるエッチングバイアスの予測をパターン開口率に対応して行なうことで、高精度の予測を可能にしようとする。 - 特許庁

To improve accuracy of a circuit simulation in pattern design by faithfully reproducing a diode characteristic of a light emitting device formed of an organic material.例文帳に追加

有機材料で形成された発光素子のダイオード特性を忠実に再現することでパターン設計時における回路シミュレーションの精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a capacitance type coordinate detector constituted so that coordinate detection is performed with high accuracy even when bypasses are formed in an electrode pattern.例文帳に追加

電極パターンに迂回路を形成しても高い精度で座標検出を行えるようにした静電容量式の座標検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a metal mask in which an opening width can be made narrower compared with a conventional one even if manufactured using the same pattern accuracy as a photoresist.例文帳に追加

フォトレジストとして同じパターン精度のものを用いて製造しても、開口幅を従来に比べて狭くすることができるメタルマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a toner density sensor which can improve detection accuracy in pattern detection by making a spot shape on a radiating surface be a true circle.例文帳に追加

照射面のスポット形状を正円にすることにより、パターン検出の検出精度を向上することができるトナー濃度センサを提供する。 - 特許庁

To provide a measuring method of a regist pattern with high accuracy by controlling the volume shrinkage of a scanning electron microscope which is caused by electron irradiation.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡の電子線照射によるレジストパータンの体積収縮を抑制して、測定精度を向上し得る方法を提供する - 特許庁

To provide a multilayer ceramic package which can equally suppress the shrinkage during ceramic sintering and reduce degradation of internal circuit pattern accuracy caused by the dispersion of the shrinkage.例文帳に追加

セラミック焼結時の収縮を均等に抑制し、収縮のバラツキに起因する内部回路パターン精度の低下を低減する多層セラミックパッケージを得る。 - 特許庁

To provide a circuit simulation device for improving the accuracy of circuit simulation when designing a pattern by reproducing the diode characteristic of a light emitting element.例文帳に追加

発光素子のダイオード特性を再現してパターン設計時における回路シミュレーションの精度を向上させる回路シミュレーション装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing semiconductor integrated circuit which forms a gate electrode pattern of MOS transistor with respect to design value with high accuracy.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタのゲート電極パターンを設計値に対して高精度に形成することを可能にする半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve the accuracy of evaluation of the reproduced quality of test pattern data for deciding optimum laser power at the time of recording data even if high speed test writing is performed.例文帳に追加

高速試し書きの場合でも、データ記録時の最適なレーザパワーを決めるためのテストパターンデータの再生品質の評価を精度良くできるようにする。 - 特許庁

To correct a process model matching with each layout pattern set as the object of the simulation and to enhance the fitting accuracy of a simulation.例文帳に追加

シミュレーションの対象となる個々のレイアウトパターンに合わせてプロセスモデルを補正できるようにすると共に、シミュレーションのフィッティング精度を向上できるようにする。 - 特許庁

To provide an alkali developable photosensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, transparency, adhesiveness, alkali resistance or the like and capable of forming a fine pattern with high accuracy.例文帳に追加

感度、解像度、透明性、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device which is capable of controlling the line width of a resist pattern and the thickness of a resist film with high accuracy, taking an environment around a substrate into consideration.例文帳に追加

基板周囲の環境を考慮した、より精密な線幅制御及びレジスト膜厚制御を行うことができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for reliably and fast identifying and measuring an objective pattern with high accuracy out of drawn patterns without relying manpower.例文帳に追加

描画されたパターン中から確実かつ精度高くかつ高速かつ人手に頼ることなく対象パターンを特定し、測長などする方法を提供する。 - 特許庁

To identify even difference in an edge pattern caused by difference in positional relation between edges to improve identification accuracy of a person image, for example.例文帳に追加

エッジの位置関係の違いに起因するエッジパターンの違いをも識別できるようにすることで、例えば人物画像の識別精度を向上させること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor, by which the processing dimensional accuracy is improved, and also to provide a method for forming a mask pattern, and a Levenson type phase shift mask.例文帳に追加

加工寸法精度の向上を図ることが可能な半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a stencil reticle manufacturing method which is capable of ensuring a stitching margin through a comparatively easy method and improving a pattern connection accuracy and to provide others.例文帳に追加

比較的容易な方法でスティッチングマージンを確保してパターン接続精度を向上させることのできるステンシルレチクル作製方法等を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic suction device which can prevent the accuracy of an exposure pattern from lowering due to leakage current to a wafer dislocation due to thermal expansion of the wafer.例文帳に追加

ウエハへの漏れ電流やウエハの熱膨張ずれによって露光パターン精度が低下することを防止できる静電吸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a small electronic component with a conductor pattern, which is low direct current resistance and uniform in dimensional accuracy and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

導体パターンの直流抵抗値が小さく、かつ、導体パターンの寸法精度のばらつきが小さい小型の電子部品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁