「Pattern Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image processing method, apparatus and program in which superior detection accuracy can be obtained in the same detection processing for a dot pattern of an arbitrary color by accurately reproducing the dot pattern by performing appropriate monochromatic processing on a read dot pattern including a plurality of color components.例文帳に追加

読み込んだ複数の色成分を有するドットパターンに対して、適切な単色化処理を行うことにより、ドットパターンを正確に再現し、任意のカラーのドットパターンに対して、同一の検出処理で、良好な検出精度を得ることができる画像処理の方法、装置、およびプログラムを提供する。 - 特許庁

By providing a control system adapted to align the other of the pattern support and the substrate table, so that the positioning error of one of the pattern support and the substrate table is compensated by the positioning of the other, a positioning accuracy of the pattern forming apparatus and the substrate is achieved.例文帳に追加

パターン支持と基板テーブルの一方の位置決め誤差が他方の位置決めによって補償されるようにパターン支持と基板テーブルの他方を位置合せするように適合される制御系を提供することにより、パターン形成装置と基板の位置合せ精度が達成される。 - 特許庁

To provide a two-dimensional code generation detecting system, a two-dimensional code generator and a pattern position detector improving accuracy in detecting a predetermined pattern of a two-dimensional code and detecting the position of the predetermined pattern at high speed while suppressing power consumption.例文帳に追加

２次元コードの所定パターンの検出精度を向上させるとともに、消費電力を抑制しつつ高速に当該所定パターンの位置を検出することができる２次元コード生成検出システム、２次元コード生成装置及びパターン位置検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation device capable of simplifying a device configuration, of reducing the number of processes for pattern formation, and of rapidly and inexpensively forming a high-positional-accuracy and high-definition pattern comparable to that of a photolithographic technique; and a manufacturing method of a masking plate.例文帳に追加

この発明は、装置構成を簡略化でき、パターン形成の工程数を少なくでき、フォトリソグラフィー技術と同程度の高い位置精度で高精細なパターンを短時間で安価に形成できるパターン形成装置、およびマスキング版の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a forming technique for a conductor pattern by which the conductor pattern having a high accuracy of a printed wiring board can be formed surely at a low cost in a short time, and the obtained conductor pattern has excellent adhesive properties with a base material and reliability such as insulating properties between circuits.例文帳に追加

プリント配線板の高精細な導体パターンを短時間かつ安価に、しかも確実に形成でき、さらに得られた導体パターンは基材との密着性や回路間の絶縁性等の信頼性に優れたものである、導体パターンの形成技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a forming method of a resist pattern, a manufacturing method of a semiconductor device and a forming device for the resist pattern, which are capable of forming a fine pattern by comparatively simple and inexpensive equipment, and further, excellent in a dimensional accuracy and productivity and the less production of a substandard article.例文帳に追加

比較的に簡易且つ低コストの設備で微細パターンを形成することができ、しかも、寸法精度に優れて規格外れが少ない生産性に優れたレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびレジストパターンの形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a patterning method in which a first drawing pattern and a second drawing pattern are aligned with high accuracy when patterns are drawn as overlapped to form a pattern by using a plurality of patterning steps by use of a photolithographic process on the same substrate.例文帳に追加

同一基板上にフォトリソグラフィー法を用いた複数のパターニング工程を用いてパターンを形成するために重ね合わせ描画する場合、１回目の描画パターンと２回目の描画パターンとが高い精度で位置合わせされて形成されるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To produce a phase shifting mask capable of achieving high transfer pattern dimensions, to provide a phase shifting mask which enables production of a high performance large-scale integrated circuit by achieving higher transfer accuracy and to provide a pattern forming method using the phase shifting mask and a solid-state device produced by the pattern forming method.例文帳に追加

高い転写パタン寸法を実現できる位相シフトマスクが製造でき、さらに高い転写精度を実現することで高性能な大規模集積回路の製造が可能となる位相シフトマスク、該位相シフトマスクを用いたパタン形成法、該パタン形成法による固体素子を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern correction method in which a difference between patterns is reduced in the amount of dimensional change due to light exposure differing depending on each pattern shape, dimensional change depending on the pattern shape is suppressed even with varied light exposure, and transfer accuracy is improved, and to provide a photomask.例文帳に追加

パターンの形状ごとに異なっていた露光量に対する寸法変化量のパターン間差を小さくし、露光量を変動させても、パターン形状に依存した寸法変化が抑制され、転写精度を向上させるマスクパターンの補正方法およびフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a connection member in which pitch accuracy between through-holes formed between pattern body parts is improved, and connection reliability between a mating member is enhanced by improving accuracy in the pitch dimension between the pattern body parts in the vicinity of positions of forming the through-holes, and also to provide a method of manufacturing the connection member.例文帳に追加

パターン本体部間に形成される貫通孔間のピッチ精度を向上するとともに、貫通孔の形成位置付近におけるパターン本体部間のピッチ寸法精度を向上して、相手側部材との間における接続信頼性を向上する接続部材および接続部材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for confirming pattern position accuracy by a proximity exposure device for manufacture of a color filter, to provide a data value with high pattern position accuracy at the end of exposure by using the proximity exposure device using the same method, and to provide the data value which is reliable.例文帳に追加

カラーフィルタの製造において、プロキシミティ露光装置により、パターン位置精度を確認する方法を提供することであり、当該方法を用いたプロキシミティ露光装置を用いることにより、露光終了時にパターン位置精度の高いデータ値が提供され、且つ信頼性の高いデータ値が提供されることである。 - 特許庁

The movement passage of the moving body is divided with every movement pattern, and an arranging position of the position corrector is calculated so as not to exceed a detecting error set in the respective places of the movement passage from position detecting accuracy of autonomous navigation determined with every movement pattern and position detecting accuracy of the arranging position corrector, and a calculation result is outputted.例文帳に追加

移動体の移動経路を移動パターンごとに分割し、移動パターンごとに求まる自律航法の位置検知精度と、配置する位置補正機の位置検知精度とから移動経路の各場所において設定する検知誤差を超えないように位置補正機の配置位置を算出し、算出結果を出力するようにする。 - 特許庁

Thereby, in the first region of the sector, a pattern including minute arc patterns having the same center angle along the concentric tracks can be formed with high accuracy, while in the second region, a pattern including minute arc patterns having the same length along the track direction can be formed with high accuracy.例文帳に追加

これにより、セクタ内の第１領域内に、同心円トラックに沿って中心角が同一の円弧状の微小パターンからなるパターンを精度よく形成するとともに、第２領域内に、トラック方向の長さが同一の円弧状の微小パターンからなるパターンを精度よく形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide a mask or the like capable of depositing a light emitting layer with high accuracy by keeping a prescribed distance between a substrate and a mask plate, bringing the mask plate into contact with the substrate with good accuracy, and reducing the positional shift of a mask pattern at use.例文帳に追加

基材とマスク板との距離を一定にし、基材とマスク板とを精度良く接合し、更に使用時のマスクパターンの位置ずれを少なくして、発光層を精度良く蒸着させることができるマスク等を提供する。 - 特許庁

To provide a stable manufacturing method by which a portion between resists or a portion between the resist and a lift-off material are prevented from being mixed so as not to deteriorate dimensional accuracy and pattern accuracy, and are dissolved easily in an organic solvent at the lift-off.例文帳に追加

レジスト間あるいはレジストとリフトオフ材料間が混ざり合って寸法精度やパターン精度が劣化することを防止すると共に、リフトオフ時に容易に有機溶剤に溶解し、安定した製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hologram recording apparatus which can perform multi-layer recording using a comparatively simple servo system because the hologram recording apparatus does not requires a servo pattern nor sticking positioning accuracy as a result, and requires not so severe positioning accuracy for a depth direction.例文帳に追加

サーボパターンが不要で貼り合わせ位置決め精度を必要とせず、且つ、厚み方向に対する位置決め精度をそれ程厳しくする必要がないため、比較的簡単なサーボ系を用いて多層記録することを可能にする。 - 特許庁

To easily find an illumination angle with high accuracy for detecting an image having a high contrast by diffracted light so as to detect the image of a defect in a periodical pattern of an inspection object, and to suppress variation in detection accuracy among workers.例文帳に追加

被検査物の周期性パターンの欠陥を画像検出するために、回折光によるコントラストの高い画像を検出する照明角度を容易に精度良く見出し、作業者間の検査精度のばらつきを抑えること。 - 特許庁

Providing a mark pattern which has 2-dimensional periodic structure in order to compensate deflection amount and the distortion during electron-ray scanning, scanning the electron ray so that the mark pattern, which has the periodic structure, may have an angle, making an interference-fringe pattern generate, and observing this interference-fringes pattern make distortion compensation, which has higher accuracy than before, enable.例文帳に追加

電子線走査時の偏向量および歪を補正するために２次元の周期構造を有するマークパターンを設け、この周期構造を有するマークパターンと角度を成すように電子線を走査し、干渉縞パターンを発生させ、この干渉縞パターンを観察することで、従来よりも高い精度での偏向歪補正を可能とする。 - 特許庁

When abnormality is found on a transfer belt, formation positions of a toner pattern and a position detection pattern are changed so that the toner pattern and the position detection pattern used for concentration detection and position detection are formed at the positions avoiding an abnormal region causing reduction in accuracy of the concentration detection and the position detection on the transfer belt.例文帳に追加

転写ベルト上に異常がある場合には、転写ベルト上における、濃度検出や位置検出の精度低下の原因となる異常領域を避けた位置に、これらの濃度検出や位置検出に用いるトナーパターンや位置検出パターンが形成されるように、これらのトナーパターンや位置検出パターンの形成位置を変更する。 - 特許庁

In addition, since both the two-layer resist pattern 5 and a soluble layer pattern 2A are removed by dissolution through one time operation by using a solvent which can dissolve both the patterns 5 and 2A, the first thin film pattern 17 having more minute size can be formed easily with high accuracy by performing smooth lift-off operation without causing any burrs in the first thin film pattern 17.例文帳に追加

また、２層レジストパターン５および可溶層パターン２Ａを共に溶解可能な溶剤を用いてこれらを１回の操作で溶解除去するので、第１の薄膜パターン１７にバリを発生させることなく円滑なリフトオフ操作を行うことができ、より微小な寸法を有する第１の薄膜パターン１７を高精度かつ容易に形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern forming body which can form patterns with high accuracy in manufacturing the pattern forming body, does not require a post treatment after exposure and eliminates the worry about the deterioration of the pattern forming body itself as a photocatalyst is not contained in the formed pattern forming body itself.例文帳に追加

本発明は、パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつ製造されたパターン形成体内に光触媒が含有されていないことから、パターン形成体自体の劣化の心配もないパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To satisfactorily maintain the connecting accuracy between complementarily divided areas even when, for example, a shot rotation in substrate pattern occurs and, in addition, to suppress the deterioration of yield as much as possible at the time of forming a pattern through complementary division.例文帳に追加

相補分割によるパターン形成を行う場合に、例えば下地ショット回転が発生しても、相補分割領域間でのつなぎ精度を良好に保つことができ、しかも収率悪化を極力抑制できるようにする。 - 特許庁

By the servo pattern recorder, a positioning accuracy after the seeking operation is judged on the basis of a gain adjusted PES according to the position (deviation) of the reproduction element 132 with respect to the track, thereby a propriety of the writing of servo pattern is decided.例文帳に追加

サーボパターン記録装置は、再生素子１３２のトラックに対する位置（ずれ）に応じてゲインを調整したＰＥＳに基づいて、シーク動作後の位置決め精度を判断し、これによりサーボパターンの書込みの可否を決定する。 - 特許庁

A shape of the focusing measuring precision is different between, when a projection pattern member 3 in the optical path is inserted and when the projection pattern 4 is inserted, and thus the sizes of the height detection accuracy and the height detection range are made to be different.例文帳に追加

光路中に投影パターン部材３が挿入されたときと投影パターン４が挿入されたときとでの合焦測度の形状が異なり、これにより、高さ検出精度と高さ検出範囲の大きさが異なる。 - 特許庁

To provide a means for pattern matching which obtains position selection accuracy sufficient for measurement and achieves high-speed processing even when size and shape change and similar patterns coexist in pattern matching for specifying a measuring position.例文帳に追加

測定位置を特定するためのパターンマッチングにおいて、大きさや形状が変動し、さらに類似のパターンが混在する場合でも、測定に十分な位置選択精度が得られ、なおかつ処理が高速なパターンマッチングの手段を提供する。 - 特許庁

To form a fine conductor pattern at high accuracy by fully suppressing gelation of a coat on a support in a conductor pattern forming process by the transfer method using a photosensitive conductor paste.例文帳に追加

感光性導体ペーストを用いた転写法による導体パターン形成方法において、感光性導体ペーストのゲル化並びに支持体上塗布物のゲル化を十分に抑制して、高精度に微細な導体パターンを形成すること。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which increases the profile controlling properties of a pattern which consists of drops by enhancing the irradiation strength and irradiation position accuracy of laser light to irradiate the drops that is dropped on a substrate, and to provide a drop discharge apparatus therefor.例文帳に追加

基板に着弾した液滴に照射するレーザ光の照射強度や照射位置精度を向上して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

This pattern can be used to create an optical phase standard for calibrating phase metrology equipment for attenuated phase masks or as a witness pattern on a product mask, to verify the phase accuracy of that mask.例文帳に追加

このパターンは、減衰位相マスク用の位相測定装置を較正するために、またはそのマスクの位相精度を確かめるための製品マスク上の証明パターンとして、光学位相標準を作るために使用することができる。 - 特許庁

To prepare a second template from a first template by an imprinting method and to accurately form an alignment mark without degrading an error in relative positional accuracy between a main pattern and a peripheral pattern of the second template.例文帳に追加

第１のテンプレートからインプリント法により第２のテンプレートを作製することができ、且つ第２のテンプレートにおけるメインパターンと周辺パターンとの間の相対的な位置精度誤差を劣化させることなく、アライメントマークを精度良く形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transmission type phase shift photomask which efficiently manufactures the high-quality photomask which is free of roughness in an etching surface, is improved in the overlap accuracy of a resist pattern and a light shielding layer pattern and has excellent resolution property.例文帳に追加

エッチング面に荒れがなく、レジストパターンと遮光層パターンの重ね合わせ精度が向上した、解像性に優れた高品質なフォトマスクを効率よく製造する透過型位相シフトフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device making the toner pattern detecting accuracy improved without giving adverse effects to the service life of pattern holding member such as a photoreceptor drum, a transfer belt and a cleaning blade for cleaning them.例文帳に追加

感光体ドラム４、転写ベルト２３等のパターン保持部材やそれらを清掃するクリーニングブレード５１、２９１等の寿命に悪影響を与えることなく、トナーパターン検出の精度を高くすることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

As shown in Fig. 4, dispersion in the size of the pattern due to the loading effect and the micro-loading effect produced in the etching process can be reduced and the linearity accuracy of an LS pattern can be improved as compared with the conventional method.例文帳に追加

これにより、図４に示すように、エッチング工程で発生するローディング効果及びマイクロローディング効果によるパターンのパターン寸法ばらつきを低減し、ＬＳパターンのリニアリティー精度を従来よりも向上させることができる。 - 特許庁

Since the infrared ray imaging apparatus can properly eliminate the fixed pattern noise component caused by temperature unevenness of the internal shutter 5, the imaging apparatus can correct the fixed pattern noise with the accuracy nearly the same as that of a case when a large sized external shutter at the outside of the apparatus is in use.例文帳に追加

内部シャッタ５の温度むらに起因する固定パターンノイズ成分を的確に除去できるので、装置外部の大型の外部シャッタを使用した場合と略同等の精度で固定パターンノイズの補正が可能となる。 - 特許庁

To provide a device for producing a nanoimprint sheet which can transfer an uneven pattern on the outer peripheral surface of a roll to a resin sheet with high accuracy, and particularly enables the production of a nanoimprint sheet having a pitch of an uneven pattern in submicron regions with high productivity.例文帳に追加

ロールの外周面の凹凸パターンを高い精度で樹脂シートに転写でき、特に凹凸パターンのピッチがサブミクロン領域のナノインプリントシートを高い生産性で製造できるナノインプリントシートの製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an SEM system for length measurement capable of high-accuracy and precise OPC (optical proximity correction) evaluation which is important from now on with advancement in a finer semiconductor design pattern, and to provide an evaluation system for a circuit pattern feature and a method therefor.例文帳に追加

半導体設計パターンの微細化に伴い今後重要となる高精度かつ詳細なＯＰＣ評価が可能とした測長ＳＥＭシステム並びに回路パターン形状の評価システム及びその方法を提供することにある。 - 特許庁

To decrease a variation in wiring capacitance caused by a dummy pattern used for a flattening process of an LSI layout pattern, and not to degrade the extraction accuracy of a parasitic element in a design process.例文帳に追加

ＬＳＩレイアウトパターンの平坦化処理に用いるダミーパターンによって生じる配線容量変動を低減すると共に、設計工程における寄生素子抽出精度を可能な限り落とすことがないようにすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern formation method enhancing a shape control property of a pattern comprising a liquid drop by enhancing an irradiation strength and an irradiation position accuracy of a laser light irradiation on the liquid drop deposited on a substrate, and a liquid drop delivery apparatus.例文帳に追加

基板に着弾した液滴に照射するレーザ光の照射強度や照射位置精度を向上して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To perform selection of an iron core material that can minimize a total motor iron loss over all time zones of a pattern with accuracy, with efficiency and with ease in the case that such a pattern that temporally passes through many operation points as motor operation points is obtained.例文帳に追加

モータ動作点として多数の動作点を時間的に経回るパターンとなる場合において、パターン全時間帯に亘るモータ鉄損の総和を最小とし得る鉄心材料の選定を精度良く効率的且つ簡便に行なう。 - 特許庁

To provide a development method capable of securing desired lithography likelihood and suppressing a dimensional difference between pattern categories as well as controlling a pattern dimension with high accuracy even when the sensitivity of a photosensitive film varies, and to provide a method for manufacturing a photomask.例文帳に追加

感光膜の感度にばらつきがあったとしても、所望のリソグラフィ尤度を確保し、パターンカテゴリ間の寸法差を抑えるとともに、パターン寸法を高精度に制御可能な現像方法、及びフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Since simulation is carried out by using the data as the dimension data of the auxiliary pattern prepared by adding a bias to the design dimension of the auxiliary pattern, simulation can be performed with high accuracy and a fitting error can be minimized.例文帳に追加

補助パターンの設計寸法にバイアス値が加えられたデータを補助パターンの寸法のデータとして用いてシミュレーションを行うため、高い精度でシミュレーションを行うことができ、フィッティング誤差を極めて小さくすることが可能となる。 - 特許庁

To provide a photomask blank which does not cause accumulation of charges on the blank coated with a resist when a pattern is drawn with electron beams using a high acceleration voltage electron beam drawing machine, and to provide a photomask with excellent pattern position accuracy.例文帳に追加

高加速電圧の電子ビーム描画機を用いて電子ビーム描画する際レジストコートしたブランクス上で電荷のチャージアップをおこさないフォトマスク用ブランクス及びパターン位置精度の優れたフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an exposure method by which a mask pattern can be formed with high resolution on the objective surface in a mirror surface state to be processed and automatic inspection of the mask pattern with high accuracy is made possible, and to provide a method for manufacturing a transfer molding die.例文帳に追加

鏡面状態にある被加工面に対し高い解像度でマスクパターンを形成でき、自動かつ高精度なマスクパターン検査を可能とする露光方法及び転写成形用型の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To perform independent servo writing for improving the positioning accuracy of a write head by constantly securing the aligning accuracy of a read head in a disk device having a disk in which servo information is written, and a servo pattern writing method for a disk.例文帳に追加

サーボ情報が書き込まれたディスクを有するディスク装置およびディスクへのサーボパターン書き込み方法において、リードヘッドの位置合わせ精度を常に確保することにより、ライトヘッドの位置決め精度を向上する自立サーボライトを可能とすること。 - 特許庁

To provide a method by which problem (deterioration of dimensional accuracy) caused by halation and interference due to light reflected from a substrate is solved and a a fine high accuracy pattern is formed even on a substrate having a high reflectance, a substrate with a transparent film or the like.例文帳に追加

基板からの反射光によるハレーションや干渉現象による問題（寸法精度劣化）を解決し、反射率の高い基板，透明膜が介在する基板等においても微細で高精度のパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a droplet discharge head and a droplet discharge apparatus in which processing accuracy of a pattern formed from droplets is improved by suppressing the wetting and spreading of the droplets.例文帳に追加

液滴の濡れ広がりを抑えることによって液滴からなるパターンの加工精度を向上させた液滴吐出ヘッド、及び液滴吐出装置を提供することである。 - 特許庁