「Pattern Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

To quickly change the width of a spray pattern and the thickness of a coating material without bringing about complexity of a system and the like, thereby suppressing the generation of defects in coating and improving accuracy in coating and the like.例文帳に追加

装置の複雑化等を招くことなく、スプレーパターンの幅や塗料の厚さを素早く変更することができ、ひいては塗装不良の発生抑制や塗装精度の向上等を図る。 - 特許庁

To provide an image information detecting apparatus that is insensitive to accuracy in detecting position of a pattern for arrangement error of a component or arrangement error of the image information detecting apparatus itself.例文帳に追加

構成素子の配置誤差や画像情報検出装置自体の配置誤差に対して、パターンの検出位置精度が鈍感となる画像情報検出装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a photomask manufacturing method and a charged particle beam lithography system, which suppress a reduction in pattern dimensional accuracy by absorption of an amine compound of a resist film in blanks.例文帳に追加

ブランクスにおけるレジスト膜のアミン性化合物の吸着によるパターン寸法精度の低下を抑えることが可能なフォトマスクの製造方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photoelectric composite substrate capable of constituting an optical waveguide by forming a core layer on a wiring substrate equipped with a connection pad with sufficient pattern accuracy.例文帳に追加

接続パッドを備えた配線基板の上にコア層を十分なパターン精度で形成して光導波路を構成できる光電気複合基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern forming method capable of increasing symmetry of the shape of a sidewall and improving processing accuracy when etching a target etching film, in SWP.例文帳に追加

ＳＷＰにおいて、側壁部の形状の対称性を高め、被エッチング膜をエッチングするときの加工精度を向上させることができるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The electron gun, when used for a multi-column electron beam exposure device, actualizes lower energy and higher vacuum, resulting in a smaller-size and lower-power high voltage power supply circuit and a higher-accuracy exposure pattern.例文帳に追加

本電子銃をマルチコラム電子ビーム露光装置に用いると、低エネルギー化と高真空度化、高圧電源回路の小型化・低電力化ができ、露光パターンの高精度化ができる。 - 特許庁

To provide a technology for correcting map coordinates wherein, by dividing an area in a dividing pattern matching the correction amount of each reference point, the accuracy of coordinate value is kept high after correction transformation.例文帳に追加

個々の基準点の補正量に合致した区分パターンにて領域を区分することで、補正変換後の座標値の精度を高く保つ地図の座標補正技術を提供する。 - 特許庁

Hereby, accurate distance data can be determined by setting the size of the image pattern capable of acquiring the number of reference extreme values as the size capable of acquiring desired distance measurement accuracy.例文帳に追加

従って、基準極値数を得ることができる画像パターンのサイズを、所望の測距精度を得ることができるサイズに設定しておくことで精度のよい距離データを求めることができる。 - 特許庁

The fitness accuracy of the future pattern to a channel can be enhanced, by computing a channel prediction term, having adaptability, from past and present channel estimates.例文帳に追加

過去のチャネル評価と現在のチャネル評価とからチャネル予測項を適応性をもって計算することにより、チャネルに対する将来の送信パターンの適合精度を向上させることができる。 - 特許庁

The controller 201 moves the ink jet head unit 103 on the basis of the positional deviation correction value calculated by using the nozzle hole position information, thereby lessening the degradation in the accuracy at the time of pattern formation.例文帳に追加

制御部２０１は、当該ノズル孔位置情報を用いて算出した位置ズレ補正値を基に、インクジェットヘッドユニット１０３を移動させ、パターン形成時の精度の低下を軽減する。 - 特許庁

To provide dot spacers for a touch panel capable of forming a high- density and high-accuracy dot pattern with satisfactory adhesion and each having a shape excellent in finger-touch durability.例文帳に追加

高密度で高精度のドットパターンを密着性良く形成でき、かつ対指触耐久性に優れた形状を有するタッチパネル用ドットスペーサー及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

To relatively easily obtain a predetermined fine and high integration transfer pattern with high accuracy by increasing a focus margin in photolithography and significantly reducing influences of process fluctuation on dimensional variation.例文帳に追加

フォトリソグラフィーにおけるフォーカスマージンを大きくし、プロセス揺らぎの寸法変動への影響を大幅に緩和して、比較的容易に精度良く所期の微細且つ高集積の転写パターンを得る。 - 特許庁

A template 3 premanufactured to have unevenness with high accuracy by the lithography employing an electron beam is pressed onto a resist film 2 coated on a substrate to transfer a resist pattern.例文帳に追加

基板上に塗布したレジスト膜２に、予め電子ビームを用いたリソグラフィー技術により高い精度の凹凸を持つように製作された型板３を押し付けて、レジストパターンを転写する。 - 特許庁

To divide a second electrode without using a barrier by the length narrower than a conventional one, even if one with the same pattern accuracy is used as a photoresist.例文帳に追加

隔壁を用いずに第２電極を分割でき、かつフォトレジストとして同じパターン精度のものを用いても、第２電極の分割間隔を従来に比べて狭くすることを可能にする。 - 特許庁

To provide a flat display panel which can easily respond to the pitch change of the pattern to be formed while aiming to improve a throughput and accuracy as well as controllability, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

スループットや精度および制御性の向上を図りながら、形成すべきパターンのピッチ変化に容易に対応することのできるフラットディスプレイパネルおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ceramic circuit board for high frequency which ranges from a microwave band to a millimeter wave band, in which a conductive pattern can be designed easily and which has high dimensional accuracy.例文帳に追加

マイクロ波からミリ波帯に及ぶ高周波用のセラミック回路基板であって、導体パターンの設計が容易であるとともに、高い寸法精度を有するセラミック回路基板の提供。 - 特許庁

According to this method, a pattern can be formed with higher accuracy because diffusion into the shadow of mask from the edge of the holes of mask will not be generated, unlike the case of existing evaporation method.例文帳に追加

この方法によれば、従来の蒸着法のようにマスクの孔のエッジの部分からマスクの影へ回り込みが生じることがないため、パターンを精度よく形成することができる。 - 特許庁

To provide an inspection method capable of rapidly discriminating whether a press contact state of a terminal and an electrode pattern is defective or non-defective with high accuracy and an inspection apparatus used for such inspection.例文帳に追加

端子と電極パターンとの圧着状態の良否を、短時間かつ高精度で、判別することができる検査方法、および、かかる検査に用いられる検査装置を提供すること。 - 特許庁

To improve the dimensional accuracy of a pattern formed on a board by suppressing the reflection of a dimensional error on the board being an object to be exposed during the production of a projection mask.例文帳に追加

投影マスク製造時の寸法誤差が被露光対象である基板上に反映されてしまうことを抑止して、基板上に形成するパターンの寸法精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing ceramics multilayer wiring board, with which a conductive layer for wiring having higher pattern accuracy can be formed on the surface or within the board, in simultaneous baking with an insulating base material.例文帳に追加

パターン精度の高い配線用導体層を絶縁基体との同時焼成にて表面または内部に形成できるセラミック多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a printed wiring board used in various electronic apparatus in which the circuit pattern and solder resist can be formed with extremely excellent alignment accuracy.例文帳に追加

各種電子機器に用いられるプリント配線板において、その回路パターンとソルダレジストを極めて優れた合致精度により形成する製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a proximity exposure apparatus which can prevent the deterioration of the accuracy of an exposure pattern transferred to a substrate by exposure by preventing the deviation of a mask sucked and held by a mask holding frame.例文帳に追加

マスク保持枠に吸着保持されているマスクのずれを防止し、基板に露光転写される露光パターンの精度悪化を防止することができる近接露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a double-sided printed wiring board which is superior in flexibility and dimensional accuracy where a fine pattern can be formed, and conduction between terminals can be prevented from occurring.例文帳に追加

微細なパターンの形成が可能で屈曲性が高く寸法精度が高くかつ端子間の電気的導通を防止することができる両面プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid immersion exposure system which exposes a substrate with proper pattern transfer accuracy, when exposure treatment is conducted between a projection lens system and the substrate with a liquid filled up.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液体を満たした状態で露光処理を行う際、良好なパターン転写精度で基板を露光できる液浸露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method for an electro-optical device which enhances inspection accuracy in its inspection, even when an inspection object region having a repetitive pattern is detected with high magnification.例文帳に追加

電気光学装置の検査において繰り返しパターンを有する検査対象領域が高倍率で検出される場合でも検査精度を上げることのできる検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat treatment method wherein a substrate with a resist film formed thereon is so heat-treated as to realize a circuit pattern excellent in geometric accuracy, and to provide a heat treatment apparatus.例文帳に追加

形状精度に優れた回路パターンが得られるようにレジスト塗布膜が形成された基板を熱的に処理する熱的処理方法および熱的処理装置を提供する。 - 特許庁

The face identifying part 102 utilizes a partial space stretched in a space defined by nonlinear transformation with efficient learning to identify a face pattern with high accuracy.例文帳に追加

この顔識別部１０２においては、非線形変換で定義される空間内に効率良い学習により張られた部分空間を利用して、顔パターンの識別を高精度に行う。 - 特許庁

To provide a variable beam pattern exposure system free from the problem of mismatching in respective units without requiring much processing of a computer and without deteriorating accuracy.例文帳に追加

計算機の多大な処理を必要とせず、また精度を劣化させずに、上記の単位の不整合の問題のない可変成型ビーム型パターン描画装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To increase a speed in recognizing a pattern to be recognized of an optional size and inclination, and reduce an effect on recognition accuracy of a region which is failed to extract.例文帳に追加

任意の大きさ及び傾きの認識対象パターンの認識を高速に行うことができ、抽出し損なった領域の認識精度に対する影響を減少させること。 - 特許庁

To obtain a printed circuit, etc., capable of securing the level difference accuracy of a conductor pattern to a non-conductor part, improving size stability, and preventing degradation in flatness.例文帳に追加

非導体部に対する導体パターンの段差精度の確保することができ、更には寸法安定性の向上並びに平面度の悪化の防止を図れるプリント回路板等を得る。 - 特許庁

To provide a printing apparatus for a can capable of performing easily and highly accurately a printing plate replacing operation when a picture pattern of a can body is changed and having a high registering accuracy.例文帳に追加

缶胴の図柄変更時における版の交換作業を容易にかつ精度よく行うことができるとともに、高い見当精度を有する缶の印刷装置を提供する。 - 特許庁

To provide a height measurement method and a charged particle beam lithography apparatus in which drawing accuracy can be enhanced by reducing the height measurement error caused by a pattern formed on a specimen.例文帳に追加

試料に形成されたパターンに起因する高さ測定誤差を低減して、描画精度の向上を図ることのできる高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a high-quality phase shift mask with high reliability, suppressing generation of haze on the surface without degrading control of pattern dimensions and a phase difference with higher accuracy.例文帳に追加

より高精度なパターン寸法及び位相差の制御を損なうことなく、表面におけるヘイズの発生を十分に抑止し、信頼性の高い高品質の位相シフトマスクを実現する。 - 特許庁

To provide a method for forming a semiconductor conductive layer for forming a resist pattern in good accuracy in which acid generated from a chemical amplification resist film is not consumed by a metal brought into contact with the acid.例文帳に追加

化学増幅型レジスト膜から発生する酸が接触する金属によって消費されず、レジストパターンを精度良く形成する半導体導電層の形成法を提供する。 - 特許庁

To improve a degree of transfer accuracy when a pattern is transferred to a planar object of transfer using a transfer sheet, by improving release properties between the transfer sheet and the object of transfer.例文帳に追加

転写シートを用いて平板状の被転写物にパターンを転写する際、転写シートと被転写物の間の剥離性を改善することにより、その転写精度を高める。 - 特許庁

To provide a shadow mask frame assembly equipped with heat dissipation and cooling functions for improving position accuracy of a pattern of an organic electroluminescence element by suppressing thermal expansion of a shadow mask.例文帳に追加

シャドウマスクの熱膨脹を抑制して有機電界発光素子のパターンの位置正確度を向上させるための放熱及び冷却機能を具備したシャドウマスクフレーム組立体を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning exposure device, an exposure method, and a device manufacturing method capable of improving the shape accuracy of a pattern formed on a substrate using a variable molding mask.例文帳に追加

可変成形マスクを用いて基板上に形成されるパターンの形状の精度を高めることができる走査型露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a synchronization detector that can detect a frame synchronization pattern with high accuracy and reduce the scale of the hardware by relaxing an arithmetic speed being a requirement in complex correlation processing.例文帳に追加

複素相関処理に要求される演算速度を緩和することによって、高精度なフレーム同期パターンの検出を行うことができると共にハードウェア規模の縮小を図ること。 - 特許庁

To provide a radiation curing composition having excellent pattern accuracy and to provide an optical waveguide and a method for manufacturing an optical waveguide by using the above radiation curing composition.例文帳に追加

優れたパターン精度を有する放射線硬化性組成物、およびこのような放射線硬化性組成物を用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To enhance the uniformity of the etching rate within the wafer surface in etching from the rear side of a stencil mask (back etching) and to obtain a stencil mask having high accuracy of the pattern position.例文帳に追加

本発明は、ステンシルマスクの裏面からのエッチング（バックエッチング）時のエッチングレートのウエハ面内均一性を向上させ、パターン位置精度の高いステンシルマスクを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for processing a molding die for a diffraction optical element wherein high accuracy of relative positioning between a positioning mark and a diffraction pattern can be attained and thus processing work load can be reduced.例文帳に追加

位置合わせ用マークと回折パターンとの相対位置関係の精度が高く、これらの加工手間を低減できる回折光学素子成形金型の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wafer scale semiconductor package which can form a pattern of an adhesive layer with a high positional and thickness accuracy and can increase the productivity.例文帳に追加

接着剤層のパターンを位置精度及び厚み精度を高く形成することができると共に生産性を高く得ることができるウェハースケール半導体パッケージの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a novel photopolymerizable polysilane compound which has both photosensitivity and high transparency, and enables pattern formation of high accuracy having a high refractive index and good stability.例文帳に追加

感光性を有するとともに高透明性を有し、高屈折率かつ熱安定性が良好な高精度のパターン形成を可能とする新規な光重合性ポリシラン化合物を提供すること。 - 特許庁

To provide an alkali-developable resin composition having excellent sensitivity, resolution, adhesion, alkali resistance or the like, and forming a fine pattern in good accuracy; and to provide an alkali-developable photosensitive resin composition.例文帳に追加

感度、解像度、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物、及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To improve accuracy of a track pattern for an 8-millimeter tape and compatibility between devices in a streamer device for selectively using 4 and 8 millimeter tapes.例文帳に追加

４ミリテープと８ミリテープを選択的に使用可能なストリーマ装置において、８ミリテープへのトラックパターンの精度の向上を図り、装置間のコンパチビリティを改善することを目的とする。 - 特許庁