1016万例文収録!

「Step-growth」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Step-growthに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

Step-growthの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 260



例文

In this case, in a step of growing a second semiconductor layer structure on a substrate in an area where the first layer structure 11 is etched and removed, the diffusion of an excessive material from a first area R1 to a second area R2 is reduced, thus suppressing the growth speed of the layer structure or the change of a crystal composition.例文帳に追加

このとき、第1層構造11がエッチング除去された領域の基板10上に第2半導体層構造を成長する工程において、第1領域R1から第2領域R2への余分な原料の拡散が低減され、層構造の成長速度の増加や結晶組成の変化の発生が抑制される。 - 特許庁

When an SiC substrate 10 is cut from an SiC ingot, the main face of the SiC substrate 10 is off from a basal face, and the SiC substrate 10 is cut by setting an off-direction in plan view so that a direction of a dislocation column DSL is not substantially coincident with a direction of a step STP caused upon an epitaxial growth.例文帳に追加

SiC基板10をSiCインゴットから切り出す際に、SiC基板10の主面をbasal面からオフさせて、かつ、転位列DSLの方向とエピタキシャル成長の際に生じるステップSTPの方向とが実質的に一致しないように、平面視におけるオフ方向を設定して切り出す。 - 特許庁

The method for manufacturing the metal foil with the electric resistance layer includes a step of forming the electric resistance layer by vapor growth method while applying oxygen as an atmosphere gas, on the metal foil having a surface where the average roughness of ten points measured by an optical method is adjusted to 4.0 to 6.0 μm, using a sputtering target containing nickel, chromium, and silicon.例文帳に追加

光学的方法で測定した十点平均粗さが4.0〜6.0μmに調整した表面を有する金属箔上に、ニッケル、クロム、シリコンを含むスパッタリングターゲットを用いて、雰囲気気体として酸素を付与しながら気相成長法により電気抵抗層を形成させる工程を含む電気抵抗層付き金属箔の製造方法である。 - 特許庁

The method includes a step of administering a first amount or dose of a histone deacetylase (HDAC) inhibitor, such as PXD-101, and a second amount or dose of another chemotherapeutic agent, such as dexamethasone (DEX) or 5-fluorouracil, or an epidermal growth factor receptor (EGFR) inhibitor, such as Tarceva (R), wherein the first and second amounts or doses comprise a therapeutically effective amount.例文帳に追加

ヒストンデアセチラーゼ(HDAC)阻害剤、例えばPXD-101の第1の量もしくは用量および他の化学治療薬、例えばデキサメタゾン(DEX)もしくは5-フルオロウラシル、または上皮成長因子レセプター(EGFR)阻害剤、例えばTarceva(登録商標)の第2の量または用量を投与するステップを含んでなり、その場合、第1および第2の量または用量は治療上有効な量を含む上記方法。 - 特許庁

例文

To provide a silicon single crystal pulling-up apparatus capable of producing a silicon single crystal ingot having a prescribed shape and no defect by suppressing the occurrence of a flushed burr in a growth process for the crown part of single crystal ingot which is the most important step in the pulling-up process for silicon single crystal by a Czochralski method.例文帳に追加

本発明は、チョクラルスキー法によるシリコン単結晶の引上げ過程で最も重要とされる単結晶インゴットのクラウン部成長工程においてフラッシュアウトの発生を抑制し、所望形状で欠陥のないシリコン単結晶インゴットを製造することができるシリコン単結晶引上装置を提供する。 - 特許庁


例文

Since the flow is efficiently convected in straightening like this, after nitrogen is dissolved in the melt liquid near the gas/liquid interface, the melt liquid can be rapidly supplied in the whole growing vessel, and a step-flow growth occurs on the growing surface of the seed crystal substrate and a flat and smooth nitride single crystal of good quality is formed.例文帳に追加

このように、整流でかつ効率よく対流させることができるため、気液界面付近で窒素を融液に溶解させた後に、その融液を育成容器の全体にすみやかに供給することができ、種結晶基板の育成面にステップフロー成長がおこり、品質の良い平滑な窒化物単結晶が形成される。 - 特許庁

The method of manufacturing the III-V compound semiconductor layer containing N atoms includes a step of growing semiconductor crystals constituting the III-V compound semiconductor layer on a semiconductor substrate to form an epitaxial wafer 1 and an annealing step of heat-treating the semiconductor crystals at a temperature higher than its growth temperature while applying a load to the crystals by putting a weight 104 on the epitaxial wafer 1.例文帳に追加

N原子を含むIII−V族化合物半導体層を製造する方法であって、III−V族化合物半導体層を構成する半導体結晶を半導体基板上に成長させてエピタキシャルウェハ1を形成する工程と、エピタキシャルウェハ1上におもり104を載せることで該半導体結晶に対して荷重を付与しつつ、該半導体結晶に対しその成長温度より高い温度で熱処理を行うアニール工程とを備える。 - 特許庁

The method also includes a step (d) of forming a crystalline 3C-SiC film on the amorphous SiC film through epitaxial growth at the crystallization temperature of SiC or higher.例文帳に追加

(a)Si基板上にc−BP(立方晶リン化ホウ素)をバッファー層として成膜する工程、(b)SiCが結晶化する温度よりも低い温度でアモルファスSiC膜をバッファー層の上にエピタキシャル成長により成膜させる工程、(c)原料ガスの供給を停止して、c−BPの成膜温度以下でアニール処理をおこう工程、(d)SiCが結晶化する温度以上の高い温度で3C−SiC結晶膜をアモルファスSiC膜の上にエピタキシャル成長により成膜させる工程。 - 特許庁

The method for manufacturing a shaped substrate with curved surface includes the steps of providing a textured substrate with planar surface with one or more of first textured buffer layers, subjecting the substrate covered with the first buffer layers to a shaping step, and providing a second textured buffer layer onto the first buffer layers by epitaxial growth.例文帳に追加

曲がった面を備えた、形状を変化させた基板を作成する方法であって、一つまたは複数のバッファ層を備え、平面を備えたテクスチャ化された基板を供給するステップと、最初のバッファ層で被覆された該基板の形状を変化させるステップと、エピタキシャル成長によって、最初のバッファ上に、テクスチャ化された第2のバッファ層を供給するステップとを含む、形状を変化させた基板を作成する方法。 - 特許庁

例文

3. We reaffirm our commitment to coordinated policy action by all G20 members to achieve strong, sustainable and balanced growth. Our main priority actions include implementing medium term fiscal consolidation plans differentiated according to national circumstances in line with our Toronto commitment, pursuing appropriate monetary policy, enhancing exchange rate flexibility to better reflect underlying economic fundamentals and structural reforms, to sustain global demand, increase potential growth, foster job creation and contribute to global rebalancing. We discussed progress made since the Seoul Summit and stressed the need to reduce excessive imbalances and maintain current account imbalances at sustainable levels by strengthening multilateral cooperation. We agreed on a set of indicators that will allow us to focus, through an integrated two-step process, on those persistently large imbalances which require policy actions. To complete the work required for the first step, our aim is to agree, by our next meeting in April, on indicative guidelines against which each of these indicators will be assessed, recognizing the need to take into account national or regional circumstances, including large commodity producers. While not targets, these indicative guidelines will be used to assess the following indicators: (i) public debt and fiscal deficits; and private savings rate and private debt (ii) and the external imbalance composed of the trade balance and net investment income flows and transfers, taking due consideration of exchange rate, fiscal, monetary and other policies. We also adopted a timetable for developing the 2011 action plan that will implement our Framework for Strong, Sustainable and Balanced Growth and monitor the commitments already made. As agreed in Seoul, we call on the IMF to provide an assessment as part of the Mutual Assessment Process on progress towards external sustainability and consistency of policies at our October meeting. At that time, we will also review a report on the MAP including an action plan informed by the analysis on the root causes of persistently large imbalances based on the agreed guidelines. We will also review an assessment of progress made in meeting commitments made in Seoul. 例文帳に追加

3. 我々は、強固で持続可能かつ均衡ある成長を達成するための全ての G20 メンバーによる協調した政策措置へのコミットメントを再確認する。我々の主要な優先的政策措置は、トロントでのコミットメントに沿った、各国の状況によって差別化された中期財健全化計画の実施、適切な金融政策の実現、根底にある経済のファンダメンタルズをよりよく反映した、為替レートの柔軟性の向上及び世界需要を維持し、潜在成長を増大させ、雇用創出を助け、世界的なリバランスに貢献する構造改革を含む。我々は、ソウル・サミット以降の進捗を議論し、多角的協調を強化することにより、過度の不均衡を縮小し経常収支を持続可能な水準で維持することの必要性を強調した。我々は、統合された 2 段階のプロセスを通じて、政策措置を必要とするような継続した大規模な不均衡に焦点を当てることを可能にする一連の項目に合意した。第 1段階に必要な作業を完了するため、我々の目標は、大規模な一次産品生産者を含む、国及び地域の状況を考慮する必要性を認識しつつ、4 月の次回会合までに、これらの項目それぞれを評価する参考となるガイドラインに合意することである。これらの参考となるガイドラインは、目標となるものではないが、以下の項目を評価するのに使用される: (i)公的債務と財政赤字、民間貯蓄率と民間債務、(ii)為替・財政・金融・その他の政策を十分に考慮しつつ、貿易収支、投資所得及び対外移転のネットフローから構成される対外バランス。我々はまた、強固で持続可能かつ均衡ある成長のための枠組みを実施し、既に行ったコミットメントをモニターする 2011 年版の行動計画の策定へ向けた予定表を採択した。ソウルで合意したように、我々は、IMF に対し、相互評価プロセスの一部として、対外的な持続可能性と政策の一貫性確保に向けた進捗についての評価を 10 月の会合において提供することを求める。その際、我々はまた、合意されたガイドラインに基づく継続した大規模な不均衡の原因に関する分析によって情報を得て、行動計画を含む MAP に関する報告のレビューを行う。我々はまた、ソウルでのコミットメントを達成するためになされた進捗の評価をレビューする。 - 財務省

索引トップ用語の索引



  
Copyright(C) 財務省
※この記事は財務省ホームページの情報を転載しております。内容には仮訳のものも含まれており、今後内容に変更がある可能性がございます。
財務省は利用者が当ホームページの情報を用いて行う一切の行為について、何ら責任を負うものではありません。
  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS