「Vacuum deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The film deposition apparatus has a vacuum tank 3 in which a predetermined gas for film deposition is introduced and discharged from an exhaust port.例文帳に追加

本発明の成膜装置は、所定の成膜用ガスを導入して排気口から排出する真空槽３を有する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system where the control of a vapor deposition rate to the body to be vapor-deposited can be swiftly and correctly performed.例文帳に追加

被蒸着体への蒸着速度の制御を迅速に且つ正確に行なうことができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

In the deposition-preventive plate for a vacuum thin film deposition apparatus, a material having a thermal expansion coefficient of ≤10^-5/K and a heat resistant temperature of ≥1,000°C is used.例文帳に追加

熱膨張率が１０^-5／Ｋ以下で耐熱温度が１０００℃以上ある材料を使ったことを特徴とする真空薄膜形成装置用防着板。 - 特許庁

To provide a vapor deposition device where, in such a case that a vapor deposition material is vacuum-deposited on a substrate, a mask and the substrate can be tightly adhered in perfection.例文帳に追加

基板に蒸着材料を真空蒸着する場合に、マスクと基板とが完全に密着することができる蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The end face 10a of the rotary shaft 10 faces a vapor deposition source 15 inside a vacuum tank 13 having the vapor deposition source 15.例文帳に追加

蒸発源１５を備えた真空槽１３内において、回転軸１０の端面１０ａが蒸発源１５と対向するように配置する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition device preventing adhesion of a splash to a substrate while improving the efficiency of using a vapor deposition material.例文帳に追加

蒸着材料の利用効率を向上させつつ、基板へのスプラッシュの付着を阻止することができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

After the vacuum deposition of Al, Fe in a base material 2 is allowed to diffuse at 650-700°C in the deposition layer.例文帳に追加

Ａｌの真空蒸着後、６５０〜７００℃の温度範囲で、蒸着層中に母材２中のＦｅを拡散させる。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition source which can prevent the generation of clogging at the opening of a crucible and enables stable film deposition for a long time.例文帳に追加

坩堝開口の目詰まり発生を防ぎ、長時間安定した成膜を実現できる真空蒸着源を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition system, which enables a vapor deposition rate to be measured accurately and a film thickness to be controlled with higher accuracy.例文帳に追加

蒸着レートを正確に計測し、より高精度の膜厚制御を行うことを可能にする真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

In the deposition-preventive plate for vacuum thin film deposition device, a nonmetallic stock having flexibility and having a heat resistant temperature of ≥700°C is used.例文帳に追加

柔軟な可撓性を有し且耐熱温度が７００℃以上である非金属素材を使ったことを特徴とする真空薄膜形成装置用防着板。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system capable of correctly performing the control of a vapor deposition rate to the body to be vapor-deposited.例文帳に追加

被蒸着体への蒸着速度の制御を正確に行なうことができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To achieve a vacuum vapor-deposition device capable of deteriorating deposition precision by accumulation of a deposit in the vicinity of a nozzle of an evaporation source.例文帳に追加

蒸発源のノズル付近に蒸着物が堆積し、蒸着精度が低下することを防止することが出来る真空蒸着装置を実現する。 - 特許庁

To provide a film deposition method capable of enhancing the cooling efficiency of a body to be processed, and increasing the film deposition rate even in the vacuum where the heat is hardly transferred.例文帳に追加

熱が伝わりにくい真空中においても、被処理体の冷却効率を向上させ、成膜速度を向上させた成膜方法を提供する。 - 特許庁

Further, a plurality of the substrates conveyed at top-face conveyance are alternately vapor-deposited with the same vapor-deposition source in one vacuum vapor-deposition chamber.例文帳に追加

また、上面搬送されてきた複数の基板を一つの真空蒸着チャンバ内で同一の蒸着源で交互に蒸着する。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus capable of preventing any sputtering condition in a vacuum film deposition chamber from being fluctuated even when opening a gate valve between a supply chamber and the vacuum film deposition chamber, or a gate valve between the vacuum film deposition chamber and a delivery chamber.例文帳に追加

仕込み室と真空成膜室との間のゲートバルブ、若しくは、真空成膜室と取り出し室と間のゲートバルブを開放しても真空成膜室内のスパッタリング条件を変動させることがないスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

The pressure in the supply chamber 5 or the delivery chamber 6 is adjusted so that the pressure in the vacuum film deposition chamber 4 is not fluctuated when conveying the substrates by opening the gate valve between the supply chamber 5 and the vacuum film deposition chamber 4, or the gate valve between the vacuum film deposition chamber 4 and the delivery chamber 6.例文帳に追加

仕込み室５と真空成膜室４との間のゲートバルブ、若しくは、真空成膜室４と取り出し室６と間のゲートバルブを開放して基板を搬送する際、真空成膜室４の圧力を変動させないように、仕込み室５若しくは取り出し室６の圧力が調整される。 - 特許庁

The sheet surfaces are adjusted between the vacuum deposition chambers 110 and 120 so that the sheet surface of the fiber aggregate 10 coated with the metal in the vacuum deposition chamber 110 may be different from the sheet surface of the conductor-coated fiber assembly 12 coated with the metal in the vacuum deposition chamber 120.例文帳に追加

真空蒸着室１１０で金属被覆する繊維集合体１０のシート面と、真空蒸着室１２０で金属被覆する導電体被覆繊維集合体１２のシート面が異なるように、真空蒸着室１１０，１２０間でシート面を調整する。 - 特許庁

In a mask vapor deposition apparatus 10 for performing film deposition on an element substrate 2 in a vacuum chamber 11, particles in the vacuum chamber 11 are monitored by a particle monitor 17, and then a film deposition treatment is performed in the vacuum chamber 11 when the amount of the particles is lower than a predetermined value.例文帳に追加

真空チャンバ１１内で素子基板２に成膜を行うマスク蒸着装置１０において、パーティクルモニタ１７によって真空チャンバ１１内のパーティクルを監視し、パーティクル量が所定値未満のときには真空チャンバ１１内で成膜処理を行う。 - 特許庁

The vacuum film deposition system 15 equipped with: a film deposition unit 2 feeding the raw material of a film; a base material holder 3 for holding the base material to be subjected to film deposition; and a vacuum chamber provided with a vacuum chamber body 10 and a door 1 is composed as follows.例文帳に追加

膜の原料を供給する成膜ユニット２と、成膜される基材を保持するための基材保持具３と、真空チャンバ本体１０及び扉１を備える真空チャンバとを備える真空成膜装置１５を以下のように構成する。 - 特許庁

A stimulable luminescent phosphor layer is grown on a substrate by a vapor deposition method using a vacuum deposition apparatus having a vacuum chamber provided with the substrate in the interior, an opening opposite to the substrate, a boat for housing a raw material for the vacuum deposition and a heating apparatus for heating the boat.例文帳に追加

内部に基板を備えた真空チャンバーと、前記基板に対向する開口部を有し、蒸着原料を収容するボート、前記ボートを加熱する加熱装置とを備えた蒸着装置を用い、気相堆積法により前記基板上に輝尽性蛍光体層を成長させる。 - 特許庁

To provide a film deposition operating method where, as a vacuum flow rate control valve is used in opening/closing in which the number of operations is reduced for retaining a vacuum in a chamber, vacuum pressure control in the chamber can be performed at high frequency and high velocity for ALD (atomic layer deposition) film deposition.例文帳に追加

真空流量調整バルブをチェンバーの真空維持のために作動回数の少ない開閉で使用しながら、ＡＬＤ成膜のために、高頻度、高速でチェンバー内の真空圧力調整を行うことを可能にした成膜操作方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus capable of forming a uniform film on a long belt-like substrate without causing the thermal damage of a crucible and the substrate as well as capable of being simple in the structures of devices configured in the vacuum deposition apparatus, and to provide a vacuum deposition method.例文帳に追加

真空蒸着装置内に配設する機器の構成を簡単にできながら、ルツボおよび長尺帯状基材の熱による破損が生ずることなく、基材に均一な膜を形成できる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition system where a sheet-shaped flexible base material is repeatedly film-deposited in a vacuum, the film deposition face is not contacted with rollers or a sheet in the process of the film deposition, and the uniform film thickness and film composition, the excellent quality in the film deposition face and improved productivity can be realized.例文帳に追加

本発明は、シート状のフレキシブル基材を真空中で繰返し成膜し、成膜中に成膜面がローラもしくはシートに触れることがなく、かつ膜厚及び膜組成が均一な成膜面の品質に優れる、生産性を向上した真空成膜装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition apparatus capable of automatically carrying a base material holder between the inside and the outside of a vacuum film deposition chamber, and turning the base material holder in the film deposition chamber without complicating mechanisms and steps for setting the base material holder in the film deposition chamber.例文帳に追加

真空成膜室の内外間で基材ホルダが自動的に搬送されるとともに、基材ホルダを成膜室内にセットするための機構や工程を複雑にすることなく基材ホルダを成膜室内で回転駆動できる真空成膜装置を提供することである。 - 特許庁

The film deposition method includes: a film deposition stage where a film is deposited on the object for film deposition while generating plasma in a vacuum tank; and a cleaning stage where, in every film deposition stage for one time or a plurality of times, a cleaning gas is introduced into the vacuum tank, to perform cleaning.例文帳に追加

本願の成膜方法は、真空槽内にプラズマを発生させながら成膜対象物に膜を形成する成膜工程と、一回又は複数回の成膜工程毎に、真空槽内にクリーニングガスを導入してクリーニングを行うクリーニング工程を有する。 - 特許庁

As for the evaporation source container 1 for a vacuum deposition system where a sublimable vapor deposition material is stored and heated by a heating means so that the sublimable vapor deposition material is evaporated and is vacuum-deposited, the evaporation source container is provided with diaphragms 2 for dividing and storing the sublimable vapor deposition material.例文帳に追加

昇華性蒸着材料を収容して加熱手段で加熱することにより該昇華性蒸着材料を蒸発させ、真空蒸着する真空蒸着装置における蒸発源容器１であって、前記蒸発源容器に昇華性蒸着材料を仕切って収容するための仕切り板２を設ける。 - 特許庁

The deposition rate of the vapor deposition material can be controlled using the fact that the deposition rate is increased when pressure in the vacuum chamber 10 is lowered and the deposition rate is decreased when the pressure in the vacuum chamber 10 is raised.例文帳に追加

真空槽１０内部の圧力を小さくすれば蒸着物質の蒸着速度は速くなり、真空槽１０内部の圧力を大きくすれば蒸着物質の蒸着速度は遅くなるということを利用して蒸着速度を制御する。 - 特許庁

The vacuum film deposition apparatus 10 is provided with a vacuum chamber 12 with an object 13 for film deposition being arranged therein, a crucible 19 for storing a vapor deposition material 20, and a pressure gradient type plasma gun 11 for applying plasma beam 22 toward the vapor deposition material 20 in the crucible 19.例文帳に追加

真空成膜装置１０は、被成膜体１３が配置された真空チャンバー１２と、蒸着性材料２０を収納するるつぼ１９と、プラズマビーム２２をるつぼ１９内の蒸着性材料２０に向けて照射する圧力勾配型プラズマガン１１とを備えている。 - 特許庁

In a vacuum deposition device in which an element substrate is arranged on a vapor deposition mask, and evaporation sources 41, 42 are arranged at a lower part of the vapor deposition mask, a sheet shutter 60 is arranged to cover the evaporation source 41, 42, and vacuum deposition is carried out to the element substrate through an opening 61 of the sheet shutter 60.例文帳に追加

蒸着マスクの上に素子基板が配置され、蒸着マスクの下方に蒸発源４１、４２が配置された真空蒸着装置において、蒸発源４１、４２を覆って、シートシャッター６０を配置し、シートシャッター６０の開口部６１を通して素子基板に真空蒸着する。 - 特許庁

The precise experimental details for the vacuum deposition of a variety of materials have been collected by Holland, 1956. 例文帳に追加

様々な材料の真空蒸着に関する正確な実験の詳細が、1956年、Hollandにより集められた。 - 科学技術論文動詞集

NANOPARTICLE SUPPORT DEVICE EQUIPPED WITH SOURCE OF COAXIAL TYPE VACUUM ARC VAPOR DEPOSITION AND SUPPORTING METHOD OF NANOPARTICLE例文帳に追加

同軸型真空アーク蒸着源を備えたナノ粒子担持装置およびナノ粒子坦持方法 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus which prevents a substrate from coming off from a holder during conveyance.例文帳に追加

搬送中に基板がホルダから外れることを防止することができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ALLOY NANOPARTICLE, ALLOY THIN FILM PRODUCING METHOD, AND COAXIAL TYPE VACUUM ARC VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

合金ナノ粒子作製方法、合金薄膜作製方法及び同軸型真空アーク蒸着装置 - 特許庁

The deposition system has a crucible 2 arranged within a vacuum vessel 1, a cooling section 3, and an electron gun 4.例文帳に追加

真空容器１内に配置された坩堝２と、冷却部３と、電子銃４とを備える。 - 特許庁

VACUUM DEPOSITION MASK, ITS FIXING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC EL DISPLAY PANEL USING THE MASK例文帳に追加

真空蒸着マスクとその固定方法、該マスクを用いた有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR COATING SUBSTRATE WITH DIAMOND- LIKE CARBON(DLC) OR OTHER VACUUM DEPOSITION FILM例文帳に追加

ダイヤモンド様炭素（ＤＬＣ）又は他の真空蒸着被膜を基体に被覆する装置及び方法 - 特許庁

The information signal part is formed on a replica substrate by a vacuum deposition method or a sputtering method.例文帳に追加

レプリカ基板上に、真空蒸着法やスパッタリング法により情報信号部を形成する。 - 特許庁

Furthermore, the metal oxide film layers 6 and 7 are formed in a lot by a vacuum vapor deposition method.例文帳に追加

また、金属酸化物薄膜層６および７は真空蒸着法で一括に形成されている。 - 特許庁

The metal layer 2 is formed by vacuum vapor-deposition and comprises a plurality of copper particles.例文帳に追加

金属層２は、真空蒸着によって形成され、複数の銅粒子により構成される。 - 特許庁

To provide a vacuum arc vapor deposition system capable of forming a carbon based film with satisfactory productivity.例文帳に追加

炭素系膜を生産性良好に形成することができる真空アーク蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The thin film is formed by vacuum vapor deposition or sputtering to roughly control its thickness.例文帳に追加

薄膜は真空蒸着やスパッタリングで作製し、その厚さを大まかに設定する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING METALLIZED PLASTIC FILM BASE MATERIAL, AND VACUUM FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

金属化プラスチックフィルム基材の製造方法および真空成膜装置 - 特許庁

To provide a vacuum deposition device capable of preventing damage such as breakage and melting of members in the device.例文帳に追加

装置内の部材の破損、熔解などの損傷を防止できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The protective film 32 is formed on the upper layer of the underlying electrode film 31 by vacuum film deposition.例文帳に追加

保護膜３２は、真空成膜法による膜であって、下地電極膜３１の上層に形成されている。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition system capable of depositing a film having highly precise film thickness distribution and excellent in reproducibility.例文帳に追加

高精度な膜厚分布でかつ再現性のよい膜を成膜できる真空成膜装置を提供する。 - 特許庁