「Vacuum deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

After an antireflection film is formed on a substrate surface by vacuum vapor deposition, oxygen or argon is introduced to carry out plasma treatment, and then a stain proof layer is formed by vacuum vapor deposition of a fluorine-containing organic silicon compound.例文帳に追加

真空蒸着によって基板表面に反射防止膜を形成後、酸素もしくはアルゴンを導入してプラズマ処理を行い、その後、フッ素含有有機ケイ素化合物を真空蒸着して防汚層を形成する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition method and a vacuum deposition apparatus that can easily obtain a thin film having desirable crystal structure and shape by simple processes and with less impurities.例文帳に追加

簡素な工程で、不純物が少なく、所望の結晶構造および形状の薄膜を容易に得ることのできる真空蒸着方法および装置を提供する。 - 特許庁

To efficiently remove impurities deteriorating film quality when the vacuum deposition of an organic layer or a metal electrode is conducted in a film forming chamber in the forming of an organic EL element by a vacuum deposition method.例文帳に追加

真空蒸着法で作成する、有機ＥＬ素子作成方法に関わり、成膜室で有機層や金属電極を真空蒸着する際、膜質を劣化させる不純物を効率よく取り除く。 - 特許庁

The holding apparatus is used for holding the optical element composed particularly of the crystalline material such as CaF_2 during the optical element is coated with at least one functional layer by the vacuum deposition in the vacuum deposition plant.例文帳に追加

本装置は、特にＣａＦ_２等の結晶材料からなるような光学エレメントを、該光学エレメントが真空被覆プラント内で特に少なくとも１つの機能層の真空蒸着により被覆される間に保持するために使用される。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition method by which a multilayer film can be deposited while changing film deposition areas without exchanging mask and releasing a vacuum chamber to the atmospheric air with a simple apparatus constitution.例文帳に追加

簡易な装置構成で、かつ、マスクの交換や真空チャンバの大気開放を行なうことなく、成膜領域を変更して多層膜を成膜できる真空蒸着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition method by which a lead-free solder alloy film having a proper reflection characteristics can be deposited on a substrate made of a resin, and to provide a vacuum film deposition apparatus.例文帳に追加

適正な反射特性を有する鉛フリー半田合金膜を樹脂製の基板に形成可能な真空成膜方法および真空成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system with masking, in which film deposition can be repeatedly performed by shifting the same mask with the same micropattern on by prealignment in air without an alignment operation in vacuum.例文帳に追加

本発明は、上記のような真空中でのアライメント作業をなくし、大気中でのプリアライメントのみで、同一マスクを用い、同一微細パターンをずらせながら、繰り返し成膜することができる真空マスク装置を提供する。 - 特許庁

A base material holder carrying mechanism to automatically carry a base material holder 60 between the inside and the outside of a vacuum film deposition apparatus 20 is provided inside and outside the vacuum film deposition apparatus 20.例文帳に追加

真空成膜装置２０内外間で基材ホルダ６０を自動的に搬送するための基材ホルダ搬送機構を、真空成膜装置２０の内外に設ける。 - 特許庁

The pipe carrying the aerosol is connected to a vacuum source 16 at first and the vacuum source 16 sucks the aerosol adjacent to the deposition chamber rapidly to avoid the delay of the deposition cycle.例文帳に追加

エーロゾルを運ぶ管は、最初に真空源１６に接続され、該真空源１６は、堆積チャンバ１５に近接するエーロゾルを迅速に吸引して堆積サイクル間の遅れを回避する。 - 特許庁

To provide an organometallic complex, which can form a thin membrane of an electroluminescence element by the vacuum deposition method although a thin membrane can not be formed by a vacuum deposition method or is difficult to be formed.例文帳に追加

真空蒸着法によって電界発光素子の薄膜を形成することができない、あるいは薄膜の形成が困難な有機金属錯体を、真空蒸着法によって薄膜形成できるようにした有機金属錯体を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition device and a vacuum deposition method capable of more stably depositing a depositional material on a target member while inhibiting degradation of the depositional material due to heating.例文帳に追加

加熱による蒸着材料の劣化を抑制しつつ、より安定に蒸着材料を対象部材に蒸着することのできる真空蒸着装置及び真空蒸着方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polyester film for a magnetic recording medium less liable to crease in vacuum deposition, capable of preventing creasing even in high-speed vacuum deposition and capable of enhancing the productivity of a magnetic recording tape.例文帳に追加

真空蒸着時に皺が発生しにくく、高速で蒸着しても皺発生を防止でき、磁気記録テープの生産性を向上させることのできる磁気記録媒体用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

In the vacuum film deposition apparatus, vent gas for releasing the vacuum is introduced by selecting any one of dry gas and the air around a place where the film deposition apparatus is installed.例文帳に追加

真空成膜装置において、真空解除のためのベントガスを導入するにあたり、乾燥ガスと成膜装置設置場所周辺の大気とのいずれかを選択して導入できるようにした。 - 特許庁

A vacuum film deposition apparatus body 12 is installed adjacent to and near the molding machine 11, and a transfer device 13 is installed between the molding machine 11 and the vacuum film deposition apparatus body 12.例文帳に追加

成形機11の傍に隣接して真空成膜装置本体12を設置し、成形機11と真空成膜装置本体12との間に移載装置13を設置する。 - 特許庁

To provide a film thickness measuring method capable of measuring the thickness of a deposited thin film over a wider range, and to provide a vacuum vapor deposition apparatus and a vacuum vapor deposition method for depositing a thin film of the uniform thickness.例文帳に追加

成膜した薄膜の膜厚を従来より広い範囲で測定できる膜厚測定方法と、均一な膜厚の薄膜を成膜する真空蒸着装置及び真空蒸着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for vacuum deposition suitably used for forming a fine thin film pattern by vacuum deposition and also to provide a method for depositing a thin film pattern and a method for manufacturing an EL (electroluminescence) element using the mask.例文帳に追加

微細な薄膜パターンを真空蒸着して形成するのに好適な真空蒸着用マスク、それを用いた薄膜パターンの形成方法及びＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The vacuum vapor deposition apparatus (vapor deposition apparatus) 1 has a vacuum chamber 2 in which a substrate holding wall 3, four evaporation devices 5a, 5b, 5c and 5d, a vapor chamber 6, and four crucible installation chambers (evaporation device installation sections) 12a, 12b, 12c and 12d are incorporated.例文帳に追加

真空蒸着装置（蒸着装置）１は真空室２を有し、真空室２内に、基板保持壁３と、４台の蒸発装置５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄと蒸気チャンバー６及び４個の坩堝設置室（蒸発装置設置部）１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄを内蔵している。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor-deposition apparatus which can form a film of high quality even if the film is formed repeatedly, and also can easily remove foreign matters deposited on a filter from the filter, and to provide a vacuum vapor-deposition method therefor.例文帳に追加

繰返し膜を形成する場合であっても、膜質が高い膜を形成することができるとともに、フィルタに付着した異物を容易に除去できる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system capable of reducing the difference in the angles of incidence of vapor deposition flows between the central part and the outer circumferential part of the substrate to be treated as possible without upsizing a vacuum chamber.例文帳に追加

本発明の目的は、真空チャンバを大型化することなく、被処理基板の中心部と外周部における蒸着流の入射角の差を極力小さくできる真空蒸着装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus and a vacuum deposition method wherein a substrate can be set in a state in which it is not deformed by its own weight, and the substrate can be vapor-deposited in a uniform film thickness.例文帳に追加

被蒸着体を自重で変形しない状態でセットすることができ、均一な膜厚で被蒸着体に蒸着を行なうことができる蒸着装置及び蒸着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus and a vacuum deposition method by which a film satisfactory in thickness distribution and excellent in film quality can be formed on a substrate, and the waste of a film material can be reduced.例文帳に追加

膜厚分布が良く、膜質が優れた膜を基板に形成することができ、しかも成膜材料の無駄を抑制できる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供する。 - 特許庁

The vacuum deposition apparatus is provided with: a vacuum tank 30; a substrate dome 22 in which a substrate is installed; a crucible in which a vapor deposition material is installed; and a monitor part 21 installed in the substrate dome 22.例文帳に追加

真空蒸着装置は、真空槽３０と、基板が設置された基板ドーム２２と、蒸着材料が設置された坩堝と、基板ドーム２２に設置されたモニター部２１と、を備える。 - 特許庁

Regarding the vacuum deposition system, a plurality of evaporation sources 2 and the body 3 to be vapor-deposited are arranged in a vacuum chamber 1, materials vaporized from the respective evaporation sources 2 are made to reach the surface of the body 3 to be vapor-deposited, and are subjected to vapor deposition.例文帳に追加

真空チャンバー１内に複数の蒸発源２と被蒸着体３とを配置し、各蒸発源２から気化した物質を被蒸着体３の表面に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着装置に関する。 - 特許庁

The boat 5 is equipped with a partition plate 9 for cutting raw material particles for the vacuum deposition produced by heating the boat and linearly flying from the surface of the raw material 11 for the vacuum deposition housed in the boat toward the substrate.例文帳に追加

前記ボート５は、該ボートの加熱により発生し、該ボート中に収容された蒸着原料１１の表面から前記基板に向けて直線的に飛行する蒸着原料粒子をカットする仕切板９を備える。 - 特許庁

A vacuum vapor deposition apparatus 1 comprises a vacuum chamber 101, a substrate holder 103, a film deposition source holder 113, a shielding mechanism 109, a first film thickness measuring mechanism 104, and a correction control unit 110.例文帳に追加

本発明に係る真空蒸着装置１は、真空チャンバ１０１と、基板ホルダ１０３と、成膜源ホルダ１１３と、遮蔽機構１０９と、第１膜厚測定機構１０４と、補正制御部１１０と、を備えている。 - 特許庁

In the case of achieving the vacuum treatment with a substrate 17 disposed in the anti-deposition container 31, no discharge is generated outside the anti- deposition chamber 31, and the vacuum treatment becomes consistent.例文帳に追加

従って、防着容器３１内に基板１７を配置して真空処理する際に、防着容器３１外には放電は発生せず、安定した真空処理を行うことができる。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition system which surely shields the ones required for shielding in accordance with a film deposition process among respective members provided inside a vacuum chamber, and whose compactness is not damaged as well.例文帳に追加

真空チャンバ内に設けられた各部材のうち成膜プロセスに応じて遮蔽する必要があるものを確実に遮蔽するとともに、装置のコンパクトさを損なうこともない真空成膜装置を提供することである。 - 特許庁

The organic thin film deposition system comprises a vapor deposition source for an organic material provided inside a vacuum tank 2, and a prescribed part in the vacuum tank 2 is provided with a peeling prevention treatment section 20 by thermal spraying .例文帳に追加

本発明の有機薄膜形成装置は、真空槽２内に設けられた有機材料用蒸着源を有し、真空槽２内の所定の部位に、溶射により表面処理された剥離防止処理部２０が設けられている。 - 特許庁

This inorganic film deposition method is a method for depositing the thin film onto the plastic film, and heat treatment is applied to the film before film deposition at ≤4.6×10^-2 Pa degree of vacuum at 80 to 120°C and then the thin film is deposited in vacuum.例文帳に追加

プラスチックフィルム上に薄膜を形成する方法において、成膜前のフィルムに4.6×10^-2Pa以下の真空度にて80〜120℃の温度で熱処理を行い、その後真空中にて薄膜を形成することを特徴とする無機膜成膜方法。 - 特許庁

A deposition preventive plate which can be impressed with a high frequency from the outside of a vacuum vessel is arranged at the inner wall of the vacuum vessel and when a deposition treatment is not performed, a plasma is generated by the disposition preventive plate, by which the depositions are removed.例文帳に追加

真空容器内壁に、前記真空容器の外部より高周波を印加することが可能な防着板を配置し、成膜処理を行っていない際には防着板でプラズマを発生させ、付着物を除去する。 - 特許庁

The vacuum deposition apparatus has a preventing means for preventing evaporated particles from depositing on a substrate to be treated held by a holder, in order to cope with vacuum deposition at 0.05 to 10 Pa.例文帳に追加

圧力０．０５〜１０Ｐａでの真空蒸着に対応して、前記保持部が保持した被処理基体に蒸発粒子が付着することを防止する防止手段を有することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

The thin film deposition apparatus for depositing a thin film on a substrate includes a film deposition vessel having a film deposition space for depositing the thin film on the substrate in a vacuum state, a gas introducing part for introducing gas to be used for thin film deposition into the film deposition space of the film deposition vessel, and a plasma electrode part for generating plasma by using the gas in the film deposition space.例文帳に追加

基板に薄膜を形成する薄膜形成装置は、減圧状態で基板に薄膜を形成する成膜空間を備える成膜容器と、前記成膜容器の前記成膜空間内に、薄膜形成に用いるガスを導入するガス導入部と、前記成膜空間において、前記ガスを用いてプラズマを生成させるプラズマ電極部を有する。 - 特許庁

This invention relates to a vacuum chamber, and is characterized by arranging a shadow mask-replacing chamber having a means for carrying in and out a shadow mask to a vacuum deposition chamber via two adjacent parts, adjacently to the vacuum deposition chamber and an air atmosphere part for depositing a deposition material in an evaporation source on a substrate in the vacuum chamber by positioning the substrate and the shadow mask.例文帳に追加

本発明は、真空チャンバであって、基板とシャドウマスクとの位置合せを行い、真空チャンバ内で蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する真空蒸着チャンバと大気雰囲気部とに隣接し、前記２つの隣接部を介して前記真空蒸着チャンバに前記シャドウマスクを搬入出する手段を有するシャドウマスク交換室を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

The vapor deposition metal film 3 is formed by vacuum vapor deposition, ion plating, EB vapor deposition or sputtering and the thickness thereof is preferably 10-200 mμm.例文帳に追加

前記蒸着金属膜が３真空蒸着、イオンプレーティング、ＥＢ蒸着あるいはスパッタリングで形成されていること、厚さが１０ｍμｍ以上、２００ｍμｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

Thin film deposition is performed by a sputtering method, and fluorine in the film is doped by introducing fluorine compound gas such as ethylene fluoride into a vacuum film deposition system while thin film deposition is carried out by sputtering.例文帳に追加

薄膜はスパッタリング法で被覆され、膜のなかのフッ素はスパッタリングで薄膜を被覆する際に、フッ化エチレンなどのフッ素化合物ガスを真空成膜装置に導入してドープする。 - 特許庁

The inorganic oxide layer is preferably manufactured by a vacuum deposition method, a spattering method, an ionization vapor deposition method, an ion beam method, or a chemical vapor phase deposition method.例文帳に追加

前記無機酸化物層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオンビーム法、または化学気相蒸着法により作製されるのが好ましい。 - 特許庁

A winding type film deposition system 1 performs deposition in vacuum on the deposited film 4 sent out from a deposition film roll 40 and winds up the deposited film 4 into a roll.例文帳に追加

本発明は、成膜用フィルムロール４０から繰り出された成膜用フィルム４上に真空中で成膜を行い、かつ、成膜された成膜用フィルム４をロール状に巻き取る巻取式成膜装置１である。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition machine capable of forming a uniform vapor flow of a vapor deposition material even in a large substrate, controlling the vapor distribution and unifying the vapor deposition.例文帳に追加

大型基板においても、蒸着材料の蒸気の均一な流れを形成し、蒸気分布を制御して、蒸着を均一化できる真空蒸着機を提供する。 - 特許庁

To provide a rolling up type vacuum deposition method by which the trouble of electrification in a film base material is eliminated on electron beam deposition, and stable film deposition free from damages can be performed.例文帳に追加

本発明は、電子ビーム蒸着を行うときにフィルム基材の帯電障害をなくし、損傷のない安定な成膜を可能とする巻取式真空蒸着方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a winding type vacuum deposition system where the trouble of electrifying in a film base material at the time of performing electron beam deposition is eliminated, and stable film deposition free from damage can be performed.例文帳に追加

本発明は、電子ビーム蒸着を行うときにフィルム基材の帯電障害をなくし、損傷のない安定な成膜を行うことが可能な巻取式真空蒸着装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

In a vapor deposition apparatus for performing vapor deposition on a plurality of substrates, dispersion in characteristics of a vapor deposition film caused by fluctuation in vacuum degree is suppressed and the yield is improved by optimizing timing of maintenance.例文帳に追加

多数の基板に蒸着を行う蒸着装置において、メンテナンスのタイミングを最適化することで、真空度の変動による蒸着膜の特性のばらつきを抑え、歩留まりの向上を図る。 - 特許庁

To provide a coaxial vacuum arc vapor deposition source capable of automatically feeding a vapor deposition material so as to prevent occurrence of the trigger discharge by consuming the vapor deposition material on a cathode electrode side.例文帳に追加

カソード電極側の蒸着材料が消耗することによってトリガ放電が発生しなくならないように、蒸着材料を自動的に供給可能な同軸型真空アーク蒸着源。 - 特許庁

To well reproducibly prevent peeling of deposition materials stuck to parts during a deposition step even when high-stress films etc., are deposited by a vacuum deposition system.例文帳に追加

真空成膜装置で高ストレス膜などを成膜する場合においても、成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を再現性よく防止する。 - 特許庁

This apparatus for film deposition is provided with a plurality of film deposition means (a pulse generator 11, an arc power source 12, a cathode gun 3) comprising a pulse arc vapor deposition source utilizing the cathodic vacuum arc system.例文帳に追加

カソ−ディックバキュームアーク方式を利用したパルスアーク蒸着ソースよりなる複数の成膜手段（パルス発生器１１，アーク電源１２，カソード銃３）を備えるように成膜装置を構成する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition method for forming homogeneous films on a plurality of substrates when vapor deposition is simultaneously performed to the plurality of substrates, and to provide a vapor deposition device.例文帳に追加

複数の基板に同時に蒸着するときに、複数の基板に均質な膜を成膜することができる真空蒸着方法及び蒸着装置を提供する。 - 特許庁