「ar」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The flame retardant containing an organic phosphorus compound contains a P-P bond to be represented by formula (1) or formula (2) (wherein Ar^1 to Ar^4 are each an aryl group which may has a substituent), and the flame retardant resin composition comprises this flame retardant.例文帳に追加

下記一般式（１）又は（２）で示されるＰ−Ｐ結合を含む有機リン化合物を含む難燃剤及びこれを含む難燃樹脂組成物。 - 特許庁

The arylsilane compound is represented by formula, (Ar)mSi(OR)n.例文帳に追加

アリールシラン化合物は式（Ａｒ）ｍＳｉ（ＯＲ）ｎで表されるものである。 - 特許庁

clocks are realized on many platforms using timers from the CPUs (TSC on i386, AR. ITC on Itanium). 例文帳に追加

クロックは、CPU からのタイマ(i386 上の TSC、Itanium 上の AR.ITC) を用いて実現されている。 - JM

To provide a method of forming silicon nitride containing hydrogen less than 13 atomic %, using gaseous chemical substances argon(Ar), nitrogen (N2) and silane(SiH4).例文帳に追加

ガス状化学物質であるアルゴン（Ar）、窒素（N_2）、およびシラン（SiH_4）を使用して、水素含量が13原子パーセント未満の窒化珪素を形成する方法を提供する。 - 特許庁

For example, the refrigerant is prepared by mixing the liquid nitrogen with an organic compound such as an alcohol, an oxide such as CO2 or NO, a rare gas such as Ar, further a hydrocarbon, or the like.例文帳に追加

例えば、液体窒素にアルコールなどの有機化合物、CO_2、NOなどの酸化物、Arなどの希ガス等の他、炭化水素などを混合した冷媒とする。 - 特許庁

Wherein, Ar^1 and Ar^2 stand for a phenyl group which may be substituted with one or more phenyl groups; and R^1 to R^11 are H, an alkyl group or the like.例文帳に追加

Ａｒ^１、Ａｒ^２は１以上のフェニル基で置換されていてもよいフェニル基を、Ｒ^１〜Ｒ^１１は水素又はアルキル基などを表わす。 - 特許庁

In etching the SiOC based low permittivity film using a C_4F_8/Ar/ N_2 based mixture gas, flow rate ratio of Ar is set at 80% or above.例文帳に追加

Ｃ_４Ｆ_８／Ａｒ／Ｎ_２系混合ガスを用いてＳｉＯＣ系低誘電率膜をエッチングする場合、Ａｒの流量比を８０％以上とする。 - 特許庁

In this case, Ar denotes an arylene group or a divalent heterocyclic group.例文帳に追加

−Ａｒ− （１）〔ここで、Ａｒは、アリーレン基または２価の複素環基を示す。 - 特許庁

The passivation film is formed of a polymer containing fluorine having a repetitious unit expressed by an expression (1): -(X_2C-Ar-CX_2)-, where X represents hydrogen or fluorine and Ar represents a bivalent aromatic ring that may have been substituted with fluorine.例文帳に追加

下記式（１）で示される繰り返し単位を有するフッ素含有重合体からなることを特徴とするパッシベーション膜である。 - 特許庁

In the formula (I), Q is an atom of C or N, Ar^1 to Ar^3 are each an aromatic hydrocarbon group, Ar^4 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group, and J^1 is a direct bond, an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group.例文帳に追加

（ＱはＣまたはＮ原子。Ａｒ^１〜Ａｒ^３は芳香族炭化水素基。Ａｒ^４は、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基。Ｊ^１は、直接結合、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基。） - 特許庁

When a total sum of the divalent aromatic groups Ar^1, Ar^2 and Ar^3 included in the formulae (1) to (3) be 100 mol%, a 2,6-naphthalenediyl group occupies 40 mol% or more among these aromatic groups.例文帳に追加

（１）−Ｏ−Ａｒ^1 −ＣＯ−（２）−ＣＯ−Ａｒ^2 −ＣＯ−（３）−Ｏ−Ａｒ^3 −Ｏ−（式中、Ａｒ^1 は、２，６−ナフタレンジイル基、１，４−フェニレン基および４，４’−ビフェニレン基からなる群から選ばれる１種以上の基を表す。 - 特許庁

The sugar lactone-azobenzene compound is represented by formula (1): G-NH-X-CO-NH-Ar-N=N-Ar (in the formula, G represents a sugar lactone residue; X represents a methylene group that may contain one substituent; and Ar represents a phenyl group that may contain a substituent).例文帳に追加

糖ラクトン−アゾベンゼン化合物として下式（１）で示される化合物を用いる：（式中、Ｇは糖ラクトン残基、Ｘは１つの置換基を有していてもよいメチレン基、Ａｒは置換基を有していてもよいフェニル基を意味する）。 - 特許庁

If a plasma etching of a first step of using a mixture gas of CHF_3/Ar/N_2 is completed in a state of erasing a plasma, an Ar gas is fed from an Ar gas supply source 46 into a processing envelop 10 as a purging gas.例文帳に追加

ＣＨＦ_３／Ａｒ／Ｎ_２の混合ガスを用いる第１ステップのプラズマエッチングが終了したなら、プラズマを消した状態でＡｒガス供給源４６よりＡｒガスをパージングガスとして処理容器１０内に送り込む。 - 特許庁

Each or Ar^1, Ar^2 and Ar^3 is a 5-14C cyclic group; each of L^1 and L^2 is a single bond or a connecting group having divalency; p represents an integer of any one of 0 to 2.例文帳に追加

Ａｒ^1、Ａｒ^2およびＡｒ^3はそれぞれ独立して炭素数５〜１４の環状基を表し、Ｌ^1およびＬ^2はそれぞれ独立して、単結合または二価の連結基を表し、ｐは０〜２のいずれかの整数を表す。 - 特許庁

Further, the repeating unit of the block containing the halogen atoms in the block copolymer is expressed by general formula [1]: -[Ar^1-X-Ar^2-X]- (X is O or S; and Ar^1 and Ar^2 are each an aromatic bivalent radical expressed by formula [2], [3] or [4]).例文帳に追加

（２） ハロゲン原子を含むブロックの繰り返し単位が、下記一般式［１］−［Ａｒ^１−Ｘ−Ａｒ^２−Ｘ］− ［１］（式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を表し、Ａｒ^１、Ａｒ^２は互に独立に下式［２］、［３］または ［４］で示される２価の芳香族基を表す。）で示されることを特徴とする（１）のブロック共重合体。 - 特許庁

Subsequently, purge gas Ar is introduced, and second process gas WF_6 is introduced.例文帳に追加

続いて、パージガスＡｒを導入し、次に、第２のプロセスガスＷＦ_６導入する。 - 特許庁

To provide a user device and a method which provide augmented reality (AR).例文帳に追加

拡張現実（ＡＲ）サービスを提供するユーザ装置及び方法を提供する。 - 特許庁

Next, Au is etched by Ar gas and Ti is etched by CF4 gas.例文帳に追加

次に、Ａｒガスを用いてＡｕを、ＣＦ４ ガスを用いてＴｉをエッチングする。 - 特許庁

A mixed gas of SF_6, CHF_3 and Ar is employed for the etchant gas here.例文帳に追加

このときのエッチングガスには、ＳＦ_6、ＣＨＦ_3及びＡｒの混合ガスを用いる。 - 特許庁

The gas not reacting with the source gas is Ar, He or N2.例文帳に追加

前記原料ガスと反応しないガスとしてＡｒ、Ｈｅ、もしくはＮ_2を用いた。 - 特許庁

At the time of diagnosing equipment, variate data is actually measured to form AR models.例文帳に追加

機器を診断するとき、実際に変量データを計測し、ＡＲモデルを立てる。 - 特許庁

The method for producing a biaryl compound represented by formula (2): Ar-Ar (wherein Ar represents an aromatic group that may have a substituent), comprises a step wherein a compound represented by formula (1) Ar-Cl (wherein Ar is as defined above), is coupled in the presence of an amine compound that has at least two tertiary amino groups in each molecule, a copper metal and a copper salt.例文帳に追加

分子内に少なくとも２つの三級アミノ基を含むアミン化合物、金属銅及び銅塩の存在下、式（１） Ａｒ−Ｃｌ （１）（式（１）中、Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族基を表す。）で示されるアリールクロライド化合物をカップリングさせる工程を含むことを特徴とする式（２） Ａｒ−Ａｒ （２）（式（２）中、Ａｒは前記と同義である。）で示されるビアリール化合物の製造方法。 - 特許庁

In the formula, A represents oxygen or sulfur; Ar^1, Ar^2 and Ar^4 each represent an aryl group; and R^1 to R^7 each independently represent hydrogen, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms.例文帳に追加

式中、Ａは、酸素又は硫黄を表し、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^４は、アリール基を表し、Ｒ^１〜Ｒ^７は、それぞれ独立に、水素、炭素数１〜４のアルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数６〜１３のアリール基を表す。 - 特許庁

Also, when there is no free record in the table for recording the AR data, the AR data of the old utilization time is the deletion object, however, when the corresponding key information is excluded from deletion, the AR data is also excluded from the deletion object.例文帳に追加

また、ＡＲデータを記録するテーブルに空きレコードがない場合、利用日時が古いＡＲデータを削除対象とするが、対応するキー情報が削除除外となっている場合には、当該ＡＲデータも削除対象から除外する。 - 特許庁

Processing gas consisting of a gaseous mixture of N2, H2 and Ar, whose flow rate ratio (Ar/(N2+H2+Ar)) is 0.7-0.8, is introduced to the inside the processing chamber 102, and a pressure atmosphere inside the processing chamber 102 is set to 5 mTorr-15 mTorr.例文帳に追加

処理室１０２内に流量比（Ａｒ／（Ｎ_2＋Ｈ_2＋Ａｒ））が０．７〜０．８のＮ_2とＨ_2とＡｒの混合ガスから成る処理ガスを導入し，処理室１０２内の圧力雰囲気を５ｍＴｏｒｒ〜１５ｍＴｏｒｒに設定する。 - 特許庁

In the formula (1), R^1 and R^2 each independently represent an organic group; Ar^1 and Ar^2 each independently represent aryl; Ar^3 represents arylene; and m and n each represent an integer satisfying 0≤m≤5, 0≤n≤5 and 1≤m+n.例文帳に追加

式（１）において、Ｒ^1及びＲ^2はそれぞれ独立に有機基を表わし、Ａｒ^1及びＡｒ^2はそれぞれ独立にアリール基を表わし、Ａｒ^3はアリーレン基を表わし、ｍ及びｎはそれぞれ０≦ｍ≦５、０≦ｎ≦５、１≦ｍ＋ｎを満たす整数を表わす。 - 特許庁

After a Cu thin film is formed, supply of Cl_2 gas 21 is stopped as well as Ar gas 22 is supplied through a gas nozzle 18 to generate Ar^* so as to substitute Ar^* for Cl^* remaining after the film of a Cu component is formed on a substrate 3.例文帳に追加

Ｃｕの薄膜を形成した後、Ｃｌ_2 ガス２１の供給を停止すると共に、ガスノズル１８からＡｒガス２２を供給してＡｒ^*を発生させ、基板３にＣｕ成分が成膜された後に残留するＣｌ^*とＡｒ^*とが置換される。 - 特許庁

The bent portion 123b is connected to the first portion 123a and bent in the directions separating from the rocking axis line AR and along the rocking axis line AR.例文帳に追加

屈曲部分１２３ｂは、第１部分１２３ａに接続され、揺動軸線ＡＲから離間する方向及び揺動軸線ＡＲに沿う方向に屈曲する。 - 特許庁

The surface of the absorber film 14 has been irradiated with an Ar ion beam.例文帳に追加

前記吸収体膜１４の表面にはＡｒイオンビームが照射されている。 - 特許庁

Then the MAP 10 uses an adjacent relation discrimination section 16 to reference the prefix storage table 14 for discriminating the AR 2 to be adjacent to the AR 3.例文帳に追加

そして、ＭＡＰ１０は、隣接関係判定部１６により、このプレフィクス格納テーブル１４を参照して、ＡＲ２がＡＲ３に隣接しているものと判定する。 - 特許庁

Firstly, an H2S/H2 gas, an Ar gas containing the vapor of a raw material for Cu 71, and another Ar gas containing the vapor of a raw material for In 81 are introduced to the mixer 2.例文帳に追加

先ず、この混合器２内に、（Ｈ_2 Ｓ／Ｈ_2 ）ガス、Ｃｕ原料７１の蒸気を含むＡｒガス、Ｉｎ原料８１の蒸気を含むＡｒガスを導入する。 - 特許庁

Further, Ar represents a 6-13C arylene group which may have a substituent.例文帳に追加

また、Ａｒは、置換基を有していてもよい炭素数６〜１３のアリーレン基を表す。 - 特許庁

AR MEASUREMENT METHOD OF LPP OF DVD-R/-RW DISK AND INSTRUMENT THEREFOR例文帳に追加

ＤＶＤ−Ｒ／−ＲＷディスクのＬＰＰのＡＲ測定方法とその計測器 - 特許庁

In the method for dispersing the fine oxides in the molten steel, Mg is added to the molten steel and then gaseous CO_2 or gaseous mixture of Ar and CO_2 is fed to the molten steel.例文帳に追加

溶鋼中にMgを添加した後にCO_2ガス、もしくはAr+ CO_2の混合ガスを溶鋼に供給することを特徴とする溶鋼中の微細酸化物分散方法。 - 特許庁

While a corner part C where the antireflective film AR is not formed is provided on the top surface of the Faraday rotator 224b, the antireflective film AR is formed over the entire rear surface.例文帳に追加

ファラデー回転子２２４ｂの表面には反射防止膜ＡＲを形成しないコーナ部Ｃを設ける一方、裏面にはその全面に反射防止膜ＡＲを形成する。 - 特許庁

The area ratio AR of the region above the reference line as the border and the area of the region below the reference line is calculated from the areas At and Ab thus calculated.例文帳に追加

こうして算出された面積Ａｔと面積Ａｂとから、基準線を境にした上側の領域の面積と下側の領域の面積との面積比ARを算出する。 - 特許庁

BROADCAST AR ADVERTISING SERVICE SYSTEM BASED ON MEDIA ID MATCHING, AND METHOD OF THE SAME例文帳に追加

メディアＩＤ整合に基づいた放送ＡＲ広告サービスシステム及びその方法 - 特許庁

As the etching gas at this time, a mixture gas of SF_6, CHF_3 and Ar is used.例文帳に追加

このときのエッチングガスには、ＳＦ_６、ＣＨＦ_３及びＡｒの混合ガスを用いる。 - 特許庁

The information on resolution relating to photographed images is calculated on the basis of two sheets of images of the photographing ranges AR, AR', associated with the photographed image data and stored.例文帳に追加

撮影範囲ＡＲ，ＡＲ’の２枚の画像から、撮影画像に関する解像度情報が算出され、撮影された画像データと関連付けられて記憶される。 - 特許庁

In the figure, a part 201 is a game state management part and manages the state of the AR game (information regarding the rendering of a virtual body 102, the score of a player 101, the number of rounds of the AR game, etc.).例文帳に追加

２０１はゲーム状態管理部で、ＡＲゲームの状態（仮想物体１０２の描画に関する情報、プレーヤ１０１のスコア、ＡＲゲームラウンド数等）を管理する。 - 特許庁

When a bend occurs in the first area (Ar(1)), a film in a peripheral zone (Z) around the cut line (9) is subjected to tension, and occurrence of any bend at the cut line (9) can be suppressed.例文帳に追加

第１領域(Ar(1))に屈曲が生じると、カットライン(9)の周囲の周辺ゾーン(Z)のフィルムに張りが出るためカットライン(9)で屈曲が生じるのを抑制することができる。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR MEASURING AR VALUE OF OPTICAL DISK, AND OPTICAL DISK例文帳に追加

光ディスクのＡＲ値測定装置及びＡＲ値測定方法並びに光ディスク - 特許庁

The charge transport segment comprises the moiety Ar-Het-Ar in which Ars are the same or different aromatic units, and Het is a heteroaromatic ring.例文帳に追加

電荷輸送セグメントはＡｒ−Ｈｅｔ−Ａｒ部分を有し、Ａｒは互いに同一または異なる芳香族単位であり、Ｈｅｔは複素芳香族環である。 - 特許庁

Also, the time integration of an acceleration reduction portion (Ar-Am) in the period during which the target acceleration Ar exceeds the acceleration upper limit Am is calculated as an acceleration shortage amount Q.例文帳に追加

また、目標加速度Ａｒが加速度上限Ａｍを超える期間の加速度減少分（Ａｒ−Ａｍ）の時間積分を、加速不足量Ｑとして算出する。 - 特許庁

To provide an AR measuring instrument for an optical recording medium having a prepit, by which an AR value is properly set by eliminating influence due to depoditions as much as possible.例文帳に追加

付着物による影響をできるだけ排除してＡＲ値を適切に設定することができるプリピットを有する光記録媒体のＡＲ測定装置を提供する。 - 特許庁