「atomic gas」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

METHOD AND DEVICE FOR COOLING NEUTRAL ATOMIC GAS例文帳に追加

中性原子気体の冷却方法および冷却装置 - 特許庁

The gas having a small atomic number is used.例文帳に追加

小さい原子番号を有する気体を使用することができる。 - 特許庁

BUFFER GAS MIXING RATIO SETTING METHOD, FREQUENCY ADJUSTING METHOD OF ATOMIC OSCILLATOR, AND ATOMIC OSCILLATOR例文帳に追加

バッファーガス混合比設定方法、原子発振器の周波数調整方法、及び原子発振器 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING GAS CELL, GAS CELL, AND RUBIDIUM ATOMIC OSCILLATOR例文帳に追加

ガスセルの製造方法、ガスセル及びルビジウム原子発振器 - 特許庁

For spatially separating gas atoms, atomic gas may be diluted with an inert gas.例文帳に追加

空間的にガス原子を隔てるために、不活性ガスを用いて原子ガスが希釈されてもよい。 - 特許庁

To obtain a high quality film body by feeding an atomic gas obtained by a plasma cell to a reaction system in a high density and utilizing the activity of the atomic gas.例文帳に追加

プラズマセルで得た原子状ガスを高密度に反応系に供給し、前記原子状ガスの活性を利用して高品質の膜体を得る。 - 特許庁

To provide an improved gas delivery apparatus for atomic layer deposition.例文帳に追加

原子層堆積のための改良されたガス配送装置を提供する。 - 特許庁

A second reactant gas, when it is injected into the reaction chamber, flows over the atomic layer of the first reactant gas and forms an atomic layer on the atomic layer of the first reactant gas.例文帳に追加

第２の反応物ガスが、反応チャンバへ注入される際に、第１の反応物ガスの原子層上へ流入し、第１の反応物ガスの原子層上に原子層を形成する。 - 特許庁

The method of adsorption removal of atomic hydrogen includes a desorption step for desorbing atomic hydrogen adsorbed by an inconel by heating the inconel and an adsorption removal step for adsorbing and removing atomic hydrogen in an objective gas by exposing the inconel to the objective gas containing atomic hydrogen.例文帳に追加

原子状水素吸着除去方法は、インコネルを加熱することによりインコネルに吸着した原子状水素を脱離させる脱離工程と、インコネルを原子状水素を含む対象ガス中に暴露することにより対象ガス中の原子状水素を吸着除去する吸着除去工程とを含む。 - 特許庁

The gas barrier film comprises a transparent thin film layer containing 2 to 64 atomic % of an oxygen, 0.5 to 56 atomic % of a nitrogen, 0.5 to 55 atomic % of a silicon and 5 to 80 atomic % of an aluminum and formed on at least one surface of a plastic film.例文帳に追加

プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、酸素濃度２〜６４原子％、窒素濃度０．５〜５６原子％、珪素濃度０．５〜５５原子％、およびアルミニウム濃度５〜８０原子％からなる透明薄膜層が形成されたガスバリヤー性フィルムである。 - 特許庁

To easily measure atomic radical density in plasma with high accuracy and high sensitivity by making gas of specified pressure containing atoms in gas, into plasma in a micro hole of a negative electrode plate to generate atomic beams, and irradiating the atomic beams to raw material gas made into plasma.例文帳に追加

測定される反応性プラズマ中における機能ガス原子ラジカル密度に基づいてプロセス処理を高い再現性で、高精度及びリアルタイムに制御することができる原子状ラジカル測定方法及びその装置の提供。 - 特許庁

The catalyst layer 14 ionizes hydrogen gas into atomic hydrogen to store and release it.例文帳に追加

触媒層１４は水素ガスを原子状の水素に電離して吸蔵および放出する。 - 特許庁

Then, the catalyst layer 12 carries out solid-phase diffusion ionizing hydrogen gas into atomic hydrogen.例文帳に追加

そして、触媒層１２は水素ガスを原子状の水素に電離して固相拡散させる。 - 特許庁

To obtain an atomic light emission detector of small size for gas chromatography capable of stable plasma emission.例文帳に追加

小型で安定したプラズマ発光を可能とするガスクロマトグラフィ用原子発光検出器を得る。 - 特許庁

To provide an atomic oscillator which can suppress degradation of heating efficiency of a gas cell and can be miniaturized.例文帳に追加

ガスセルの加熱効率の低下を抑えられるとともに、小型化が可能な原子発振器を提供する。 - 特許庁

In the gas barrier film alternately having barrier layers which consist of much more inorganic substance at least, and organic layers much more at least on a plastic plate; at least one layer of the barrier layers is a gas barrier film formed by the atomic layer depositing method (the Atomic Layer Deposition: ALD method).例文帳に追加

プラスチック基板上に、少なくとも一層の無機物からなるバリア層と少なくとも一層の有機層とを交互に有するガスバリアフィルムであって、前記バリア層の少なくとも一層が原子層デポジッション法（Atomic Layer Deposition：ＡＬＤ法）によって形成されたことを特徴とするガスバリアフィルム。 - 特許庁

The atomic gas source 15 turns molecular nitrogen or oxygen into atomic nitrogen or oxygen with a magnetron head 37 and a microwave applicator 41 acting on a molecular gas source 33.例文帳に追加

原子ガスソース１５は、マクネトロンヘッド３７、マイクロ波アプリケータ４１により分子ガスソース３３に作用して窒素又は酸素を原子化する。 - 特許庁

As compared with a case where the gas dissociation accelerating part 6 does not exist, nitriding reaction proceeds at a lower temperature, since a nitrogen compound gas is dissociated at a lower temperature and atomic hydrogen and atomic nitrogen are formed.例文帳に追加

ガス解離促進部６が存在しない場合と比較して、より低温で窒素化合物ガスが解離し原子状水素と原子状窒素が生成するため、より低温で窒化反応が進行する。 - 特許庁

To provide an optical system of an atomic oscillator wherein the length of a gas cell is made flexible and a temperature distribution of the gas cell is made uniform.例文帳に追加

ガスセルの長さにフレキシビリティを持たすと共に、ガスセルの温度分布の均一化を実現した原子発振器の光学系を提供する。 - 特許庁

To provide an atomic layer deposition method for improving a film forming speed, while suppressing decrease in the reaction between a material gas and a reaction gas.例文帳に追加

原料ガスと反応ガスとの反応が低下するのを抑制しつつ、成膜速度を向上させることができる原子層堆積装置を提供する。 - 特許庁

To provide an arrangement for supplying a gas for atomic layer vapor deposition, wherein a single heater can heat both a container which holds a powder material and a carrier gas.例文帳に追加

一つのヒーターで、粉末原料を収容する容器とキャリアガスとを、共に加熱できる原子層蒸着用ガス供給装置を提供する。 - 特許庁

The apparatus for adsorption removal of atomic hydrogen is provided with an adsorption removal part comprising the inconel and a heating mechanism for heating the inconel and the inconel from which atomic hydrogen is desorbed is used to be exposed in the objective gas containing atomic hydrogen.例文帳に追加

原子状水素吸着除去装置は、インコネルとインコネルを加熱する加熱機構とからなる吸着除去部を備え、原子状水素を脱離した状態のインコネルを原子状水素を含む対象ガス中に暴露して用いる。 - 特許庁

Atomic hydrogen is generated by the catalytic cracking reaction between a heated high fusing point catalyst and exfoliating gas including molecules having hydrogen atoms, and the generated atomic hydrogen and the resist are brought into contact with each other to exfoliate the resist in a gaseous phase manner.例文帳に追加

加熱された高融点触媒体と水素原子を有する分子を含む剥離ガスとの接触分解反応により原子状水素を生成し、生成した原子状水素とレジストとを接触させて、気相的にレジストを剥離する。 - 特許庁

In one embodiment, a portion of the molecular fluorine is decomposed by a plasma, atomic fluorine is formed, and the resulting mixture gas of atomic fluorine and molecular fluorine is supplied to the chamber whose interior is to be cleaned.例文帳に追加

一の実施形態では、フッ素分子の一部がプラズマで分解されてフッ素原子が生成され、生じたフッ素原子とフッ素分子との混合ガスが、内面を洗浄すべきチャンバに供給される。 - 特許庁

The gas barrier film 1 composed of a single atomic layer laminate by the atomic layer deposition method is manufactured on a base film 2 while continuously moving the long base film 2 by using, for example, an apparatus 10 shown in Fig. 1.例文帳に追加

例えば図１の装置１０を用い、長尺の基材フィルム２を連続して移動させながら、その基材フィルム２上に原子層堆積法による単原子層積層体からなるガスバリア膜１を作製する。 - 特許庁

In the surface reforming treatment, the package body 4 is stored in a decompressed treatment chamber 7 of a surface reforming device 5, and atomic hydrogen generated from hydrogen gas by an atomic hydrogen generator 20 is brought into contact with the resin surface of the insulating film in the packaging clearance.例文帳に追加

そして原子状水素の活性作用によって樹脂表面の化学結合を切断して、樹脂表面にカルボニル基などの親水性の反応基を生成させ、濡れ性を向上させる。 - 特許庁

To provide a frequency adjusting method of an atomic oscillator with which a center frequency of the atomic oscillator can be precisely adjusted by uniquely determining the temperature of a gas cell.例文帳に追加

ガスセルの温度を一義的に定めることで原子発振器の中心周波数を微小に調整することができる原子発振器の周波数調整方法を提供する。 - 特許庁

Nitrogen or oxygen gas activated into an atomic state is supplied from an atomic gas source 15 through a pipe 17 and an inlet 25 into a CVD chamber 13, where reaction gas is made to react on a wafer 32 placed on a heating mechanism 31 at a low temperatures of 600 to 650°C.例文帳に追加

加熱機構３１上に置かれたウエハ３２に反応ガスを６００℃〜６５０℃の低温で作用させるＣＶＤチャンバー１３に原子ガスソース１５からパイプ１７、入口２５を通じて窒素原子又は酸素原子状態に活性化したガスを供給する。 - 特許庁

The photocatalyst for cleaning exhaust gas comprises: a carrier consisting of a porous oxide having oxidizing points; and a photocatalyst particle deposited on the carrier in an atomic state.例文帳に追加

酸点を有する多孔質酸化物よりなる担体と、担体に原子レベルで担持された光触媒粒子と、からなる。 - 特許庁

To provide an atomic oscillator that obtains a high-precision reference frequency with low energy consumption by efficiently and uniformly heating a gas cell.例文帳に追加

ガスセルを効率よく均一に加熱することにより低消費エネルギーで高精度な基準周波数を得ることが可能な原子発振器を提供する。 - 特許庁

To realize an atomic absorption spectrophotometer capable of conducting automatically a proper action when a pressure value of combustion gas comes to a prescribed value or more.例文帳に追加

燃焼ガスの圧力値が所定以上の場合には、自動的に適切な処置を行うことができる原子吸光光度計を実現する。 - 特許庁

To provide an atomic layer deposition apparatus that improves use efficiency of a liquid raw material to stably supply a raw material gas pulsatively.例文帳に追加

液体原料の利用効率を向上させ、原料ガスを安定してパルス的に供給することができる原子層堆積装置を提供する。 - 特許庁

To provide an atomic oscillator using a gas cell capable of suppressing deterioration in detection accuracy of optical information.例文帳に追加

光情報の検出精度の劣化を抑えることができるガスセルを用いた原子発振器を提供する。 - 特許庁

To provide a gas cell atomic oscillator which improves frequency stability and also makes a device small in size.例文帳に追加

周波数安定度が向上するとともに装置の小型化も図れるガスセル型原子発振器を提供する。 - 特許庁

To provide a heating device which can be easily manufactured while being made compact in size, and to provide a gas cell unit and an atomic oscillator.例文帳に追加

小型化を図りつつ、容易に製造することができる加熱装置、ガスセルユニットおよび原子発振器を提供すること。 - 特許庁

To provide an atomic layer deposition method by which a gas which does not contribute to deposition of a thin film is sufficiently trapped in an exhaust trap.例文帳に追加

薄膜の形成に寄与しなかったガスを排気トラップにおいて十分にトラップすることができる原子層堆積方法を提供する。 - 特許庁

To provide a flame atomic absorption analyzer provided with a safety device of high reliability and a simple operation for preventing backfire in changing over supporting gas.例文帳に追加

助燃ガス切り換え時の逆火防止のために信頼性が高く操作の簡単な安全装置を備えたフレーム原子吸光分析装置を提供する。 - 特許庁

A measurement part 5 quantifies the atomic mercury contained in the sample gas 10 which passes through the second reduction filter 4.例文帳に追加

測定部５は、第２の還元フィルタ４を通過した試料ガス１０中に含まれる原子状水銀を定量する。 - 特許庁

This atomic-layer deposition apparatus has a gas supply pipe 8 which is formed into a double pipe structure consisting of an inner pipe 81 and an outer pipe 82 which are concentric.例文帳に追加

ガス供給管８を、同心状の内側管８１および外側管８２からなる二重管構造に形成する。 - 特許庁

To provide a high speed atomic beam source device preventing flow of gas into a gap between an anode and a cathode, and provide a working device having it.例文帳に追加

アノードとカソードとの間の間隙にガスを流入せしめない高速原子線源装置およびこれを具備する加工装置を提供する。 - 特許庁

In the case of making raw material gas into plasma to form a thin film, to etch, and the like, atomic beams are irradiated to the raw material gas made into plasma, and atomic radical density in plasma is measured from the difference of atomic beam intensity before and after penetrating plasma to control plasma.例文帳に追加

原料ガスをプラズマ化して被処理体に原料ガス成分の薄膜を成膜したり、被処理体をエッチング処理する際に、プラズマ化した原料ガスに対して原子光発生装置から原子光を照射し、プラズマ透過前の基準原子光の強度とプラズマを透過した原子光線の強度に基づいてプラズマ中における原子状ラジカル密度を測定する。 - 特許庁

To provide a method and a device for cooling neutral atomic gas in which the number of atoms becoming Bose-Einstein condensation is dramatically increased, by realizing high cooling efficiency for the neutral atomic gas having magnetic moment.例文帳に追加

磁気モーメントを有する中性原子気体に対して高い冷却効率を実現し、ボース・アインシュタイン凝縮に到る原子数を飛躍的に増大させることを可能とする中性原子気体の冷却方法および冷却装置を提供する。 - 特許庁

Meanwhile, the generation of defects which can not be restored by heat treatment is prevented by performing the surface treatment process continuously in the same chamber using a plasma gas including a halogen having an atomic weight not less than Cl and a rare gas having an atomic weight not less than Ar after the gate oxide film exposure time.例文帳に追加

一方、ゲート酸化膜露出時点以降は、引き続き同じチャンバ内でＣｌ以上の原子量を持つハロゲンとＡｒ以上の原子量を持つ希ガスを含むプラズマガスを用いて表面処理工程を行なうこととしたことにより、熱処理では回復できない欠陥の発生を抑制したこと。 - 特許庁

A method is constituted by sputtering a first gate electrode film 4 adjacent to a gate insulation film 3 with use of an inert gas having an atomic number larger than Ar as discharge gas and sputtering a second gate electrode film 5 on the first gate electrode film 4 with an Ar gas or Ar gas mixed with the inert gas having a larger atomic number than Ar 50% or less.例文帳に追加

ゲート絶縁膜３に接する第１のゲート電極膜４をＡｒよりも大きな原子数の不活性ガスを放電ガスに用いてスパッタリングし、第１のゲート電極膜４上の第２のゲート電極膜５をＡｒガス又はＡｒにＡｒよりも大きな原子数の不活性ガスを５０％以下の割合で混合したガスを放電ガスに用いてスパッタリング成膜する。 - 特許庁

A gas (Ar gas) having an atomic weight lower than that of an ion emitted from a target material 6 (Cr) is introduced into a furnace 1, and the Ar gas is ionized with a filament electron source 2.例文帳に追加

ターゲット材６（Ｃｒ）より放出されるイオンよりも低原子量のガス（Ａｒガス）を炉１内に導入し、フィラメント電子源２でＡｒガスをイオン化し、基材４にバイアス電圧を印加する。 - 特許庁