1153万例文収録!

「cu-s」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定


セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

cu-sの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 84



例文

After the operation response, the CU transmits the initialization direction to the S machine.例文帳に追加

CUはこの動作応答を待って、初期化指示をS台へ送信する。 - 特許庁

The above steel sheet contains suitable amounts of C, N, Ti, Nb, Mo, Cu, Ni, B, Mg, Si, Mn and S.例文帳に追加

以上の鋼板が、C,N,Ti,Nb,Mo,Cu,Ni,B,Mg,Si,Mn,Sの好適量を含有する。 - 特許庁

To provide a Cu(Ga AND/OR In)Se_2 thin film layer, a Cu(InGa)(S, Se)_2 thin film layer, a solar battery, a method for forming a Cu(Ga AND/OR In)Se_2 thin film layer, and a method for forming a Cu(InGa)(S, Se)_2 thin film layer.例文帳に追加

Cu(Ga及び(又は)In)Se_2薄膜層、Cu(InGa)(S,Se)_2 薄膜層、太陽電池、Cu(Ga及び(又は)In)Se_2薄膜層の形成方法及びCu(InGa)(S、Se)_2薄膜層の形成方法を提供 - 特許庁

As a material of the recording layer, a sulfide of Cu, S, GeS or the like is used.例文帳に追加

記録層の材料としてはCuS,GeS等の硫化物を用いる。 - 特許庁

例文

Cu(Ga AND/OR In)Se2 THIN FILM LAYER, Cu(InGa)(S, Se)2 THIN FILM LAYER, SOLAR BATTERY AND METHOD FOR FORMING Cu(Ga AND/OR In)Se2 THIN FILM LAYER例文帳に追加

Cu(Ga及び(又は)In)Se2薄膜層、Cu(InGa)(S、Se)2薄膜層、太陽電池、Cu(Ga及び(又は)In)Se2薄膜層の形成方法 - 特許庁


例文

A CU (card unit) connected to an S machine (slot machine) using awarded points, stores the awarded points usable in a game on the S machine.例文帳に追加

持点式のS台(スロットマシン)と接続されるCU(カードユニット)は、S台で遊技に使用可能とされる持点を記憶する。 - 特許庁

A CU (card unit) connected with an S game machine (slot machine) using the point allocation system stores allocated points usable for a game of the S game machine.例文帳に追加

持点式のS台(スロットマシン)と接続されるCU(カードユニット)は、S台で遊技に使用可能とされる持点を記憶する。 - 特許庁

The sensitivity factor(s) (k-factor) was experimentally evaluated using a single-phase homogeneous dilute Cu-Ti sample of known composition. 例文帳に追加

感度因子(k因子)が、知られている組成の単一相で一様な低濃度Cu-Ti試料を使って実験的に評価された(数値として求められた)。 - 科学技術論文動詞集

As the solid solution elements other than N, He, Li, B, C, O, Ne, Mg, P, S, Ar, V, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Zr, Nb, Mo, Sn, Hf, Ta and W can be cited.例文帳に追加

N以外の固溶元素としては、He,Li,B,C,O,Ne,Mg,P,S,Ar,V,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Zr,Nb,Mo,Sn,Hf,Ta,及びWがある。 - 特許庁

例文

A compound semiconductor which is a sulfide which contains Cu, Zn, Ge and S and whose Cu/Ge ratio (atomic ratio) is less than 2.00, or a compound semiconductor which is a sulfide which contains Cu, Zn, Ge, Sn and S and whose Cu/(Sn+Ge) ratio (atomic ratio) is less than 2.00, is used as a light-absorbing layer of the photoelectric element.例文帳に追加

Cu、Zn、Ge及びSを含む硫化物であり、Cu/Ge比(原子比)が2.00未満である化合物半導体若しくはCu、Zn、Ge、Sn及びSを含む硫化物であり、Cu/(Sn+Ge)比(原子比)が2.00未満である化合物半導体を光電素子の光吸収層とする。 - 特許庁

例文

As the solid solution elements other than N, He, Li, B, C, O, Ne, Mg, P, S, Ar, Ti, V, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Zr, Nb, Mo, Sn, Hf, Ta and W are given.例文帳に追加

N以外の固溶元素としては、He,Li,B,C,O,Ne,Mg,P,S,Ar,Ti,V,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Zr,Nb,Mo,Sn,Hf,Ta,及びWがある。 - 特許庁

The light absorption layer 16 is a sulfide compound semiconductor film including Cu, Zn, Sn and S.例文帳に追加

光吸収層16が、Cu、Zn、Sn及びSを含む硫化物系化合物半導体の膜である。 - 特許庁

Further, prescribed amounts of one or more kinds selected from Cr, Mo, Ni, Cu, Nb, Ti, B, S, Al and Mg are added to the above components.例文帳に追加

また上記成分に加え、Cr,Mo,Ni,Cu,Nb,Ti,B,S,Al,Mgの1種又は2種以上を所定量添加する。 - 特許庁

The high Mn-contained molten metal can further contain by mass% of one or more elements selected in the group composed of ≤1% Si, ≤0.5% P, ≤0.5% S, ≤20% Cr, ≤1% Cu, and ≤10% Ni in stead of a part of Mn and Fe.例文帳に追加

高Mn含有溶融金属が,Mnおよび鉄の一部に代えて,Siを1質量%以下,Pを0.5質量%以下,Sを0.5質量%以下,Crを20質量%以下,Cuを1質量%以下およびNiを10質量%以下からなる群から選ばれた一種以上をさらに含有してもよい。 - 特許庁

The steel contains (Mn, Mg, Cu) S whose grain size is 0.005 to 0.5 μm by 1.0×105 to 1.0×107 pieces per 1 mm2.例文帳に追加

粒子径が0.005〜0.5μmの(Mn, Mg,Cu)Sを1平方mmあたり1.0×10^5 〜1.0×10^7 個含む。 - 特許庁

(1) The chalcogenide-based compound semiconductor contains Cu, Zn, Sn, an element X_3(=S and/or Se), and O as essential elements.例文帳に追加

(1)カルコゲナイト系化合物半導体は、Cu、Zn、Sn、元素X_3(=S及び/又はSe)、及び、Oを必須元素として含む。 - 特許庁

When receiving a subtraction command of the allocated points due to wagon services or the like from the CU, the S game machine determines the presence or absence of the allocated points equivalent to the subtraction command to reply the acceptance response or the rejection response to the CU.例文帳に追加

S台は、ワゴンサービス等による持点の減算指示をCUから受けた場合には減算指示相当の持点の有無を判定し、承諾応答または拒否応答をCUに返信する。 - 特許庁

When opening the front door of the S game machine, the CU transmits a command for opening the front door to execute unlocking of the S game machine, receiving the command, after the elapse of the waiting time.例文帳に追加

CUは、S台の前面扉を開放させる場合、前面扉を開放させる指示を送信し、それを受けたS台において、ウエイト時間経過後にロック解除を行なう。 - 特許庁

The resistance welded tube excellent in grooving corrosion resistance can be manufactured by using, at the time of manufacturing the resistance welded tube, a hot rolled steel plate containing ≤0.010 wt.% S and ≥0.01 wt.% Cu and applying cooling to the weld heat-affected zone after after resistance welding at100°C/sec cooling rate from 1000°C down to 700°C.例文帳に追加

電縫鋼管を製造するに際し、S量を0.010wt%以下、Cu量を0.01wt%以上含む熱延鋼板を用い、電縫溶接後の溶接熱影響部を1000℃から700℃まで100℃/sec以下の冷却速度で冷却する耐溝状腐食性に優れる電縫鋼管の製造方法。 - 特許庁

A rolled web R comprises an adhesive sheet S which forms the inside of a closed loop-shaped notch Cu as a label L and a belt-shaped release sheet RL to one side of which the adhesive sheet S is bonded temporarily, and an adhesive sheet region located outside the notch Cu is made an unnecessary sheet E.例文帳に追加

原反Rは、閉ループ状の切り込みCuの内側をラベルLとして形成する接着シートSと、この接着シートSが一方の面に仮着された帯状の剥離シートRLとからなり、切り込みCuの外側に位置する接着シート領域が不要シートEとされる。 - 特許庁

Alternatively, the thin sheet includes 30-52 mass% Ni, 1-20 mass% Co, 0.01-0.1 mass% Cu, and 10-20 mass ppm S.例文帳に追加

また、Ni:30〜52mass%、Co:1〜20mass%、Cu:0.01〜0.1mass%、S:10〜20mass ppmを含有する。 - 特許庁

A core material covered with Cu plating is laminated by a PET film (step S 105), and the PET film is drilled by laser (step S107).例文帳に追加

Cuメッキで覆われたコア材にPETフィルムをラミネートし(ステップS105)、レーザによるPETフィルムの穴あけ処理を行なう(ステップS107)。 - 特許庁

Information of the number of addition according to winning or the like and the number of subtraction according to the setting of the number of bets is transmitted from the S game machine to the CU for every 200 ms.例文帳に追加

S台からCUに対して、入賞等に応じた加算数および賭数設定に応じた減算数の情報を200ms毎に送信する。 - 特許庁

Information on a number added according to a prize or the like and number reduced according to the setting of a bet number is transmitted every 200 ms from the S machine to the CU.例文帳に追加

S台からCUに対して、入賞等に応じた加算数および賭数設定に応じた減算数の情報を200ms毎に送信する。 - 特許庁

The oxygen-free copper compound is suitably a compound of Cu and at least one kind of element selected from Sn, Sb, S and Se.例文帳に追加

酸素非含有銅化合物は、Cuと、Sn、Sb、S及びSeから選択される少なくとも1種の元素との化合物であることが好適である。 - 特許庁

As the multi-exciton generator, a compound semiconductor containing at least one or more kinds of elements selected from Cu, In, Ga, Se, S, Te, Zn and Cd is used.例文帳に追加

多励起子発生剤は、Cu、In、Ga、Se、S、Te、Zn、及びCdから選ばれる1種以上の元素を含む化合物半導体が用いられる。 - 特許庁

By the pinning action of the fine (Cu, Mn) S grains, the growth of γ grains in HAZ in superhigh heat input welding is suppressed, and its HAZ toughness is improved.例文帳に追加

微細な(Cu,Mn)S粒子のピン止め作用により超大入熱溶接HAZのγ粒成長を抑制し、HAZ靭性を向上させる。 - 特許庁

The metallic strip S containing any of Fe, In, Ti and Cu as an essential component into the aqueous electrolyte L containing a hydrofluoric acid and sulfuric acid.例文帳に追加

弗酸と硫酸とを含有する水系電解液Lに、Fe、Ni、Ti及びCuのいずれかを主成分として含有する金属帯材Sを浸漬する。 - 特許庁

The martensitic stainless steel with excellent strength stability after cold working has a composition containing Cr and Ni or further containing C, Si, Mn, P, S, Al, N, Mo, Cu, Ti, V, Nb and Ca and also has a structure in which retained austenite is made to <1% by volume fraction.例文帳に追加

CrおよびNi、または更に、C、Si、Mn、P、S、Al、N、Mo、Cu、Ti、V、Nb、Caを含有し、かつ組織中の残留オーステナイトが体積分率で1%未満であることを特徴とする冷間加工後の強度安定性に優れたマルテンサイトステンレス鋼。 - 特許庁

Further, the matrix part comprising a matrix phase and the hard particles preferably has a composition comprising one or more kinds of elements selected from Ni, Cr, Mo, Cu, Co, V, Mn, W, C, Si and S by 10.0 to 40.0% in total, and the balance substantially Fe.例文帳に追加

なお、基地相と前記硬質粒子を含む基地部を、Ni、Cr、Mo、Cu、Co、V、Mn、W、C、Si、Sのうちから選ばれた1種または2種以上を合計で10.0〜40.0%含有し、残部が実質的にFeからなる組成とすることが好ましい。 - 特許庁

As a preferable alloy composition, the one comprising, by mass, 0.4 to 4.8% Ni and 0.1 to 1.2% Si, or further comprising 0.01 to 0.3% Mg, and in which the total of the above elements and an element(s) other than Cu is 0 to 3%, and the balance Cu can be exemplified.例文帳に追加

好ましい合金組成としては、質量%で、Ni:0.4〜4.8%、Si:0.1〜1.2%であり、あるいは更にMg:0.01〜0.3%であり、上記元素とCuを除く元素の合計が0〜3%、残部Cuからなる組成が挙げられる。 - 特許庁

The high-strength and high-conductivity copper alloy has a composition containing, by mass, 7 to 20% Fe, C and S by ≤0.004% in total, and the balance substantially Cu with inevitable impurities, and is composed of a second phase including70% Fe, and a Cu mother phase.例文帳に追加

質量率でFeを7%以上20%以下含有し、C及びSの総量が0.004%以下、残部Cu及び不可避的不純物から実質的になり、Feを70%以上含む第二相とCu母相からなる。 - 特許庁

The ionization layer 3 contains Cu (copper) and Zr (zirconium) as metal elements together with an ion conductive material such as S (sulfur), Se (selenium), and Te (tellurium) (a chalcogenide element).例文帳に追加

イオン化層3は、S(硫黄),Se(セレン)およびTe(テルル)(カルコゲナイド元素)などのイオン伝導材料と共に、金属元素としてCu(銅)およびZr(ジルコニウム)を含有している。 - 特許庁

By the pinning action of the fine (Mn, Mg, Cu) S grains, the growth of γ grains in superhigh heat input welding HAZ(heat affected zone) is suppressed, and its HAZ toughness is improved.例文帳に追加

微細(Mn, Mg,Cu)S粒子のピン止め作用により超大入熱溶接HAZのγ粒成長を抑制し、HAZ靭性を向上させる。 - 特許庁

The thick steel plate may include a specified amount of C, Mn, Cu, Ni, P, S, Al and N, or further Cr, Mo, Nb, V, Ti, B, Ca, Mg and REM, in addition to Si.例文帳に追加

Siのほかに、C、Mn、Cu、Ni、P、S、Al、N、あるいはさらに、Cr、Mo、Nb、V、Ti、B、Ca、Mg、REMの含有量を規定してもよい。 - 特許庁

The ornament comprises one or a plurality of first phases essentially consisting of Pt and one or a plurality of second phases comprising Cu in the surface, and in the surfaces of both the phases, the arithmetic average surface roughness of the first phase(s) is higher than that of the second phase(s).例文帳に追加

Ptを主成分とする1または複数の第1相と、Cuを含む1または複数の第2相と、を表面に有し、両相の表面において第1相は第2相よりも算術平均表面粗さが大きいこと。 - 特許庁

A rolled web R comprises an adhesive sheet S in which the inside of each of a plurality of closed loop-shaped notches Cu is formed as the label L and a belt-shaped release sheet RL to one side of which the adhesive sheet S is bonded temporarily, and an adhesive sheet S region located outside each label L is made an unnecessary sheet E.例文帳に追加

原反Rは、複数の閉ループ状の切り込みCuの内側をラベルLとしてそれぞれ形成する接着シートSと、この接着シートSが一方の面に仮着された帯状の剥離シートRLとからなり、各ラベルLの外側に位置する接着シートS領域が不要シートEとされる。 - 特許庁

The sputtering target contains, by atomic%, 20 to 40% Ga, 0.05 to 2% Na and 0.025 to 1.0% S, and the balance comprising Cu and inevitable impurities.例文帳に追加

Ga:20〜40at%を含有し、 さらに、Na:0.05〜2at%およびS:0.025〜1.0at%を含有し、残部がCu及び不可避不純物からなる成分組成を有する。 - 特許庁

The photoelectric element includes a sulfide system compound semiconductor that contains Cu, Zn, Sn, and S and that does not contain a substance having Na and O and that uses this sulfide system compound semiconductor as a light-absorbing layer.例文帳に追加

Cu、Zn、Sn、及びSを含み、Na及びOを含む物質を含まない硫化物系化合物半導体、及びこれを光吸収層として用いた光電素子。 - 特許庁

The contact material for a vacuum valve is provided with an electrically conductive component composed of Cu in 55 to 75 volume%, and an arc resistant component(s) and an auxiliary component of 25 to 45 volume% in total.例文帳に追加

真空バルブ用接点材料は、55〜75体積%のCuからなる導電成分と、25〜45体積%の検量の耐弧成分および補助成分とを備えている。 - 特許庁

The thin sheet of the low thermal expansion alloy superior in rust resistance for electronic components includes 30-52 mass% Ni, 0.01-0.1 mass% Cu, and 10-20 mass ppm S.例文帳に追加

耐発銹性に優れた電子部品用低熱膨張性合金薄板は、Ni:30〜52mass%、Cu:0.01〜0.1mass%、S:10〜20mass ppmを含有する。 - 特許庁

The austenitic stainless steel has a chemical composition comprising, by mass, ≤0.10% C, ≤1.0%例文帳に追加

質量%で、C:0.10%以下、Si:1.0%以下、Mn:3.0〜8.0%、P:0.10%以下、S:0.010%以下、Ni:2.0〜5.0%、Cr:16.0〜20.0%、Mo:0.40%以下、Cu:1.0〜3.0%、N:0.10〜0.30%を含有し、残部がFeおよび不可避的不純物からなる化学組成を有し、以下の数式を満足することを特徴とするオーステナイト系ステンレス鋼である。 - 特許庁

Ti-48/14×N-48/36×S≥6×C (1) and 900-325×C+33×Si+287×P+80×Al-92×(Mn+Mo+Cu)-46×(Cr+Ni)>0 (2).例文帳に追加

Ti−48/14×N−48/36×S≧6×C … (1) 900−325×C+33×Si+287×P+80×Al−92×(Mn+Mo+Cu)−46×(Cr+Ni)>0 … (2) - 特許庁

The surface of a steel sheet containing, by mass, ≤0.25% C, 0.1 to 3.0% Si, 0.5 to 5.0% Mn and 0.005 to 3.0% Al is first subjected to the treatment of preplating containing at least one kind of component selected from the group consisting of Fe, Ni, C, S, Cu and Co.例文帳に追加

mass%で、C≦0.25%、Si:0.1〜3.0%、Mn:0.5〜5.0%、Al:0.005〜3.0%を含有する鋼板表面に、まず、Fe,Ni,C,S、Cu、Coからなる群から選ばれた少なくとも1種の成分を含む前めっき処理を施す。 - 特許庁

It is the high strength differential case that is formed by forging the non thermally refined steel to contain the specified quantity of C, Si, Mn, P, S, Cu, Ni, Cr, Mo and V and satisfy the carbon equivalent Ceq in a regular range.例文帳に追加

C、Si、Mn、P、S、Cu、Ni、Cr、Mo及びVを所定量含有し、炭素当量Ceqが一定範囲を満足する非調質鋼を鍛造して成る高強度デファレンシャルケースである。 - 特許庁

To provide a production method of electrolytic iron which can produce iron of high purity which is low in the contents of cobalt (Co), copper (Cu), sulfur (S) and nickel (Ni) without drastically changing equipment and production processes.例文帳に追加

設備や製造工程を大きく変更することなく、コバルト(Co)、銅(Cu)、硫黄(S)、ニッケル(Ni)の含有量が少ない高純度の鉄を製造可能とする電解鉄の製造方法を提供する。 - 特許庁

The bearing cap 2 is formed of the alloy with a composition of 1.5 to 2.5 wt.%, 0.5 to 0.7 wt.% Cu, 0.15 to 0.35 wt.%, and S which is formed by lowering the added amount of C and newly adding S, and combined with an aluminum alloy cylinder head 1.例文帳に追加

Cの添加量を従来よりも低下させ、さらに新たにSを添加したFe−1.5〜2.5wt%Cu−0.5〜0.7wt%C−0.15〜0.35wt%Sの組成の合金でベアリングキャップ2を形成し、これをアルミニウム合金製のシリンダヘッド1などと組み合わせるようにした。 - 特許庁

The Cu plating titanium copper contains 1.5 to 4.5% (% is a ratio by mass, hereafter the same) Ti and consists of the balance Cu and inevitable impurities and is subjected to copper plating on its surface, in which the impurities are S30 ppm, P≤10 ppm and O100 ppm.例文帳に追加

Tiを1.5〜4.5%(%は質量割合、以下同じ)含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなり、表面に銅めっきを施したチタン銅において、銅めっき層中の不純物が、S≦30ppm、P≦10ppm、O≦100ppmであることを特徴とするCuめっきチタン銅。 - 特許庁

The solder ball also contains one or more of 0.01-0.1 wt.% Cu, 0.01-0.1 wt.% S, 0.1-1 wt.% Ge, and 0.1-1 wt.% Si in addition to the above-mentioned elements.例文帳に追加

上記に加え、0.01〜0.1重量%のCu、0.01〜0.1重量%のS、0.1〜1重量%のGe、0.1〜1重量%のSiの1種又は2種以上を含有する760μm以下のはんだボール。 - 特許庁

例文

M1 is at least one of Ni, Co, Mn, Fe and Cu, M2 is at least one of metal elements except M1 and semimetal elements, and X is at least one of O, S, N and P, wherein 0≤a<3.6, 0≤b<1 and 1≤c≤2.例文帳に追加

M1はNi,Co,Mn,Fe,Cuの少なくとも1種、M2はM1以外の金属元素および半金属元素の少なくとも1種、XはO,S,N,Pの少なくとも1種であり、0≦a<3.6、0≦b<1、1≦c≦2である。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
  
科学技術論文動詞集
Copyright(C)1996-2026 JEOL Ltd., All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS