「drying processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a drying device for sensitive materials which obviates the occurrence of problems, such as excessive drying and insufficient drying of the sensitive materials by setting the drying temperature of a drying device by taking the temperature and humidity of the environment where a photographic processing device is installed into consideration.例文帳に追加

写真処理装置が設置される環境の温度と湿度を考慮して乾燥装置の乾燥温度の設定を行なうことにより、感光材料の過剰乾燥、乾燥不足などの問題が起こることのない感光材料の乾燥装置の提供。 - 特許庁

To provide drying technology for a laminate film capable of surely drying an adhesive agent with small power consumption at a low processing temperature.例文帳に追加

小さな電力消費量で、しかも低い処理温度で、確実に接着剤を乾燥できるラミネートフィルムの乾燥技術を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus, capable of reducing a processing time while suppressing the occurrence of damage or drying failure.例文帳に追加

ダメージや乾燥不良の発生を抑制しつつ、処理時間を低減することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The bake part 6 performs heat-treatment to the substrate processed by the drying promotion processing part 3.例文帳に追加

ベーク部６は、乾燥促進処理部３での処理を終えた基板に加熱処理を施す。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of improving drying efficiency of a substrate.例文帳に追加

基板の乾燥効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A reduced pressure drying device 14 is provided with a conveying part 140 and a dry processing part 150.例文帳に追加

減圧乾燥装置１４に、搬送部１４０と乾燥処理部１５０とを設ける。 - 特許庁

To suppress generation of water marks in drying the processing liquid adhering to a substrate.例文帳に追加

基板に付着した処理液を乾燥させる際に、ウォーターマークの生成を抑制する。 - 特許庁

The koya-dofu is placed in an ammonia processing room after drying it, and then the room is filled with ammonia gas. 例文帳に追加

乾燥が終わった高野豆腐をアンモニア処理室にいれアンモニアガスを充満させる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In a rear surface processing section, a drying process is performed after a cleaning process is performed by supplying processing liquid to a substrate W.例文帳に追加

裏面処理部において、基板Ｗに処理液を供給して洗浄処理を行った後に乾燥処理を行う。 - 特許庁

To provide a dehumidifying/drying device for a powder and granular material, and a method of dehumidifying and drying the powder and granular material, efficiently performing dehumidifying/drying processing of the powder and granular material stored in a drying hopper with a simple constitution.例文帳に追加

簡易な構成により、乾燥ホッパ内に貯留された粉粒体材料の除湿乾燥処理を効率的に行い得る粉粒体材料の除湿乾燥装置、及び粉粒体材料の除湿乾燥方法を提供する。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a drying processing block 13 and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes an indexer block 9, a processing block 10 for reflection prevention films, a processing block 11 for resist films, a development/cleaning/drying block 12, a cleaning/drying block 13, and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像／洗浄／乾燥処理ブロック１２、洗浄／乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を含む。 - 特許庁

To surely prevent generation of dry spots and to achieve high quality in cleaning and drying in a cleaning/drying apparatus and a cleaning/drying method wherein a cleaning/drying target is placed in a vapor area of an organic solvent to perform cleaning and drying processing.例文帳に追加

本発明は被洗浄乾燥物を有機溶剤の蒸気エリア内に設置して洗浄及び乾燥処理を行う洗浄乾燥装置及び洗浄乾燥方法に関し、乾燥じみの発生を確実に防止し高い洗浄及び乾燥品質を実現することを課題とする。 - 特許庁

To provide a centrifugal drier capable of improving drying processing capacity of a processing object, while preventing damage of the processing object by reducing vibration.例文帳に追加

振動を低減して被処理物の損傷を防止できると共に、被処理物の乾燥処理能力を向上できる遠心乾燥装置を提供すること。 - 特許庁

An aggregation processing layer of a solid state with a uniform film thickness is formed by carrying out drying processing to prevent the processing liquid of a liquid state from being uneven.例文帳に追加

液状の処理液が不均一にならないように乾燥処理を施すことで、均一な膜厚を持つ固体状の凝集処理層が形成される。 - 特許庁

To provide a liquid processing method capable of cleanly drying a substrate surface after processing the substrate surface with a liquid, and to provide a liquid processing device.例文帳に追加

基板表面を液処理した後に、基板表面を清浄に乾燥させることが可能な液処理方法及び液処理装置を提供する。 - 特許庁

The substrate processing device has a carrying unit arranged so as to access a coating section and a drying section, and carries a substrate having finished a coating process in the drying section.例文帳に追加

塗布部および乾燥部に対してアクセス可能なように搬送ユニットを配置し、塗布工程が終わった基板を乾燥部に搬入する。 - 特許庁

To provide an apparatus for drying under reduced pressure, efficiently drying photosensitive material and simplifying a processing line for a substrate.例文帳に追加

感光材を効率的に乾燥させることができるとともに基板の処理ラインを簡単化することができる減圧乾燥装置を提供する。 - 特許庁

Finally, while the inside of sealed processing vessel 12 is evacuated to the predetermined pressure under atmospheric pressure, nitrogen is blown into the closed processing vessel 12 to complete the drying process (drying step S5).例文帳に追加

最後に、密閉処理容器１２内を大気圧未満の所定の圧力に減圧しながら、窒素を密閉処理容器１２内に吹き込んで乾燥を終了させる（乾燥工程 Ｓ５）。 - 特許庁

Surface dry processing for drying the garbage without agitating the garbage may be performed as long as a preset prescribed period of time prior to the above drying processing with intermittent agitation.例文帳に追加

また、前述した間欠的な攪拌による乾燥処理に先立って、予め設定した所定時間だけ生ゴミを攪拌しないで乾燥させる表面乾燥処理を行うようにしてもよい。 - 特許庁

To provide a coating forming apparatus where the throughput is not measured by the processing time of a vacuum drying apparatus even if the processing time of the vacuum drying apparatus becomes long, and to provide a coating manufacturing method.例文帳に追加

減圧乾燥装置の処理時間が長くなっても、その処理能力が減圧乾燥装置の処理時間に律せられない被膜形成装置、被膜形成方法を提供する。 - 特許庁

In the method for processing a substrate, including steps of: a liquid chemical processing step of processing a substrate W with a liquid chemical; and then a drying processing step of drying the substrate W, humidity around the substrate W is adjusted depending on type of the liquid chemical used in the liquid chemical processing step.例文帳に追加

薬液を用いて基板Ｗを処理する薬液処理工程を行った後，基板Ｗを乾燥させる乾燥処理工程を行う基板処理方法であって，前記薬液処理工程で使用される薬液の種類に応じて，基板Ｗの周囲の湿度を調節する。 - 特許庁

A substrate processing equipment is constituted of an indexer section 2, three impregnating-type processing sections 3 for processing a substrate W by impregnating it in a processing liquid including pure water, a substrate drying section 4 for drying the substrate W after processed in each impregnating-type processing section 3, and a substrate transfer section 5.例文帳に追加

基板処理装置は、インデクサ部２と、基板Ｗを純水を含む処理液中に浸漬することにより処理する３個の浸漬型処理部３と、各浸漬型処理部３において処理された基板Ｗを乾燥処理する基板乾燥部４と、基板搬送部５とを備える。 - 特許庁

When carried in the drying/thermal processing part 30, a substrate G having been subjected to a resist application process by an application process section 28 is sorted into either the first-tier drying/thermal processing section 30 (1) or the second-tier drying/thermal processing section 30 (2) by a sorting carry-in unit (TW) 46.例文帳に追加

塗布プロセス部２８でレジスト塗布処理の済んだ基板Ｇは、乾燥／熱的処理部３０に搬入されると、振分搬入ユニット（ＴＷ）４６により１階の乾燥／熱的処理部３０(1)または２階の乾燥／熱的処理部３０(2)のいずれか一方に振り分けられる。 - 特許庁

To provide a photographic processing apparatus, with which the curling state of a photographic sensitive material subjected to drying processing can be decided accurately.例文帳に追加

乾燥処理された写真感光材料のカール状態を正確に判断できる写真処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of drying and processing a substrate successfully without damaging a pattern on the substrate.例文帳に追加

基板上のパターンにダメージを与えることなく基板を良好に乾燥処理することができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum spray dryer carrying out heating and drying processing in a vacuum state, and having a structure with superior processing efficiency.例文帳に追加

真空状態で加熱乾燥処理を行うとともに、処理効率に優れた構造を有する真空スプレードライヤを提供する。 - 特許庁

The control part 5, when the stack 1 is not restarted at the startup processing mode for drying up, executes startup processing mode for flooding.例文帳に追加

制御部５は、ドライアップ用起動処理モードにおいてスタック１が再起動しないとき、フラッディング用起動処理モードを実行する。 - 特許庁

To provide a crude tea processing system and processing method capable of constantly, accurately and quickly correcting the line balance in a drying stage.例文帳に追加

乾燥工程におけるラインバランスを常時正確に且つ素早く修正し得る荒茶加工システム及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method which ensures a slight dimensional slippage as a processing method for a photosensitive material in which heat drum drying is carried out.例文帳に追加

ヒートドラム乾燥を行う感光材料の処理方法において、特に寸法ずれの小さい処理方法を提供する。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a drying/developing processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、乾燥／現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。 - 特許庁

To suppress the sticking of the mist of a processing liquid on a substrate, and to prevent leakage of the mist of the processing liquid to the outside of a processing apparatus, when processing or drying the substrate, while rotating it.例文帳に追加

基板を回転しながら基板の処理又は乾燥を行う際、処理液のミストが基板に付着するのを抑制し、かつ処理液のミストが装置の外へ漏れるのを防止する。 - 特許庁

To provide a photographic processing device which can efficiently impart a desired aroma to photographic paper by effectively utilizing a development processing section and drying processing section mounted on the photographic processing device.例文帳に追加

写真処理装置に搭載されている現像処理部並びに乾燥処理部を有効利用して、印画紙に効率良く所望の香りを付けることの出来る写真処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a horizontal rotary drying machine capable of increasing the processing amount of dried objects by further improving drying efficiency by efficiently drying the dried objects accumulated on a bottom section of a rotary cylinder.例文帳に追加

回転筒の底部に堆積した被乾燥物を効率良く乾燥させることで、乾燥効率をより向上して被乾燥物の処理量を高め得る横型回転式乾燥機を提供する。 - 特許庁

To provide a horizontal rotary drying machine capable of increasing the processing amount of dried objects by further improving drying efficiency by entirely drying the dried objects accumulated on a bottom section of a rotary cylinder.例文帳に追加

回転筒の底部に堆積した被乾燥物を全体的に乾燥させることで、乾燥効率をより向上して被乾燥物の処理量を高め得る横型回転式乾燥機を提供する。 - 特許庁

To make a reduction of an organic solvent consumption amount compatible with that of a drying processing time duration, and to reduce defects resulting from a drying process, in an organic solvent steam drying of an IPA or the like after cleaning a substrate.例文帳に追加

基板洗浄後のＩＰＡ等の有機溶剤蒸気乾燥において、有機溶剤使用量の削減と乾燥処理時間の削減を両立し、かつ乾燥工程に起因する欠陥を削減する。 - 特許庁

The abnormality processing device of this grain drying machine is constituted to display contents of inspection according to a lapse time of a drying operation by detecting abnormality of motors and sensors of an elevator, a fan and the like of the drying machine during a grain drying operation time.例文帳に追加

穀粒乾燥運転時間に中この乾燥機のエレベータ、又はフアン等のモータや、各センサの異常を検出して、この乾燥運転の経過時間に応じて点検内容を表示する穀粒乾燥機の異常処理装置の構成とする。 - 特許庁

In addition, a chamber wall 60 which forms a chamber 5 inside is heated in a drying processing part 3.例文帳に追加

また、乾燥処理部３においてチャンバー５を内部に形成するチャンバー壁６０を加熱する。 - 特許庁

The drying means perform dry processing by rotating the substrate to which the gas is supplied.例文帳に追加

乾燥手段は、気体が供給された基板を回転させることによって乾燥処理を行う。 - 特許庁

The IPA is supplied in two stages to a substrate W before execution of drying processing.例文帳に追加

そして、基板Ｗに乾燥処理の実行前に２段階のＩＰＡ供給を行っている。 - 特許庁

To cancel or change drying processing that is allocated based on a received printing job.例文帳に追加

受け付けた印刷ジョブに基づき割り当てられた乾燥処理をキャンセルまたは変更すること。 - 特許庁

The drying processing is carried out by dry overheated steam supplied by a steam supply unit 59.例文帳に追加

乾燥処理は、蒸気供給部５９が供給する乾き過熱蒸気により行われる。 - 特許庁

To prevent the clogging of a liquid jetting port due to a solid material of a processing liquid which is produced by drying.例文帳に追加

乾燥によって生じる処理液の固形物による液噴出口の詰まりを防止する。 - 特許庁

Time until the drying processing is performed after the wet barrel polishing is performed is set to be within five minutes.例文帳に追加

また、湿式バレル研磨を行った後、乾燥処理を行うまでの時間を５分以内とする。 - 特許庁

After cooling the obtained cheeses, the cheeses are subjected to freeze-drying after processing (cutting, shredding and pulverizing) and freezing.例文帳に追加

冷却後、得られたチーズ類を加工（切断、シュレッド、粉砕）し、凍結した後、凍結乾燥する。 - 特許庁