「drying processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A drying chamber D for passing a work W while drying continuously utilizing microwave is disposed on the prestage of a processing chamber 2 for vacuum processing a long sheet-like material.例文帳に追加

長尺シート状材料が真空処理の行われる処理室２に入る前段に、マイクロ波を利用してワークＷを連続的に乾燥させつつ通過走行させる乾燥室Ｄを設置する。 - 特許庁

To ensure a drying processing in a short time by effectually sucking and discharging water in a closed container to eliminate the need of wasteful energy for drying when a vacuum section processing is executed.例文帳に追加

真空吸引処理を実施する場合、密閉容器内の水分を効率良く吸引排出し、乾燥のためのエネルギの無駄を無くし短期間で乾燥処理を可能とすることを課題とする。 - 特許庁

To provide a substrate processing equipment capable of stabilizing the atmosphere of drying processing and preventing the variation in a functional layer.例文帳に追加

乾燥処理の雰囲気を安定化し、機能層のばらつきを防止することができる基板処理装置及び制御装置を提供すること。 - 特許庁

A print control apparatus allocates printing processing and ink-drying processing and controls so that each of them is differentiated, based on the printing job a printer 1 receives.例文帳に追加

プリンタ１が受け付けた印刷ジョブに基づき、印刷処理とインク乾燥処理とを割り当て、それぞれ区別可能に管理する。 - 特許庁

Two heaters 76 and 77 are provided to the drier equipment 22, which performs drying processing of a light sensitive recording material, which is finished with development/fixing processing.例文帳に追加

現像・定着処理済みの感光記録材料の乾燥処理を行う乾燥装置２２に、２本のヒータ７６，７７を設ける。 - 特許庁

To provide a developing processing method which hardly produces pattern deterioration in final drying in developing processing for developing an exposure pattern.例文帳に追加

露光パターンを現像する現像処理において最終の乾燥時にパターン倒れが発生し難い現像処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method, capable of uniformly and rapidly drying the surface of a substrate to be processed.例文帳に追加

被処理基板の表面を均一にかつ迅速に乾燥させることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The substrate is heated continuously until the HFE liquid is all removed from the substrate surface Wf through drying processing (removal processing).例文帳に追加

この基板加熱は、乾燥処理（除去処理）によってＨＦＥ液が基板表面Ｗｆから全部除去されるまで継続される。 - 特許庁

To provide a cassette for an immersion processor not generating drying irregularities on a substrate in an immersion processing, the immersion processor and an immersion processing method.例文帳に追加

浸漬処理の際、基板に乾燥ムラの発生しない浸漬処理装置用カセット、浸漬処理装置及び浸漬処理方法を提供する。 - 特許庁

In the case of performing washing processing and drying processing, the substrate W is rotated in a state horizontally held by the spin chuck 11.例文帳に追加

基板Ｗは、洗浄処理および乾燥処理を行う場合に、スピンチャック１１により水平に保持された状態で回転される。 - 特許庁

The post-processor executing both of the drying processing and the sorting processing of developed photographic papers is arranged on the main body 34 of the photograph processing machine housing the developing processor.例文帳に追加

現像処理装置を収納した写真処理機の本体３４上に、現像処理後の印画紙を乾燥処理するとともに仕分け処理する後処理装置を設ける。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for centrifugal dewatering container which does not require hot air drying processing and inversion processing of a container, permits the feeding and extrusion of the container at the same time and can perform centrifugal dewatering processing efficiently and economically.例文帳に追加

熱風乾燥処理および容器の反転処理が不要で、容器の送込みと押出しを同時にでき、効率的で経済的に遠心脱水処理を行う。 - 特許庁

To provide a reduced pressure drying device, which performs drying processing on a coating film formed on a substrate to be processed, reduces within-wafer nonuniformity of the coating film after the drying processing, and improves uniformity of the remaining film thickness and line width of the coating film in a wiring pattern forming process.例文帳に追加

被処理基板に形成された塗布膜に乾燥処理を施す減圧乾燥装置において、乾燥処理後の塗布膜の面内均一性を向上し、配線パターン形成過程における前記塗布膜の残膜厚及び線幅の均一性を向上する。 - 特許庁

To perform a good drying processing at all times by properly removing foreign matters attached to the heating faces of heating plates.例文帳に追加

熱盤の加熱面に付着する異物を適確に除去して、常に良好な乾燥処理を行う。 - 特許庁

To improve the processing efficiency of a washing machine capable of automatically washing, spinning and drying.例文帳に追加

洗濯と脱水と乾燥を自動的に行うことのできる洗濯機の処理能率を向上させること。 - 特許庁

Thereafter, the cut substance to be processed is introduced into a drying oven or a carbonization furnace to be subjected to indirect thermal processing.例文帳に追加

その後、前記の切断された被加工物を乾燥炉や炭化炉に導入して間接加熱加工する。 - 特許庁

To provide a washing processing device capable of automatically washing and drying a leader.例文帳に追加

リーダを自動的に洗浄および乾燥処理することができる洗浄処理装置を提供することである。 - 特許庁

To improve the efficiency of vacuum-drying processing and shorten the processing time just after coating in a spinless coating method using slit nozzles, and to enhance the uniformity of quality of a coated resist film after vacuum-drying processing.例文帳に追加

スリットノズルを使用するスピンレス塗布法において塗布処理直後に行われる減圧乾燥処理の効率性の向上および処理時間の短縮化を実現するとともに、減圧乾燥処理後のレジスト塗布膜の膜質均一性を向上させる。 - 特許庁

The photographic processing apparatus includes a slide mechanism 90 which moves the drying processing section 60 in a predetermined direction and a connecting gear 104 which is arranged on the most upstream side of the drying processing section 60 and connects a first drive transmitting mechanism 102 and a second drive transmitting mechanism 105.例文帳に追加

乾燥処理部６０を所定の方向に移動させるスライド機構９０と、乾燥処理部６０の最上流側に第１駆動伝達機構１０２と第２駆動伝達機構１０５とを連接する連接ギア１０４と、を備えている。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method that can prevent a processing liquid from being left on a lift pin after drying a substrate, and thereby can prevent the processing liquid from being attached to the rear surface of the substrate after the liquid processing.例文帳に追加

基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止し、このことにより液処理後の基板の裏面に処理液が付着することを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁

Next, the washing failure work 2' is transferred to the washing and drying device 40 by the polished processing work transfer device 30 without carrying out polishing processing.例文帳に追加

次いで、洗浄不良ワーク２’を研磨加工しないで研磨加工済ワーク移送装置３０により洗浄乾燥装置４０に移送する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of efficiently drying the entire surfaces of a plurality of substrates lifted from a processing liquid in a short time.例文帳に追加

処理液から引き上げられる複数の基板の全面を短時間で効率的に乾燥させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A substrate 12 for a liquid crystal is held by a substrate chuck 13 and is subjected to a processing using a processing liquid, pure wafer rinsing, and spin drying in the same spin cup 22.例文帳に追加

液晶用の基板12を基板チャック13で保持し、同一のスピンカップ22内で、薬液処理、純水リンス、およびスピン乾燥処理を行う。 - 特許庁

To provide a spin processing apparatus capable of effectually and securely drying processing for upper and lower surfaces of a substrate.例文帳に追加

この発明は基板の上下両面を効率よく確実に乾燥処理できるようにしたスピン処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment which can enhance drying efficiency of a substrate by lowering the temperature of processing solution through decompression.例文帳に追加

減圧して処理液の温度を低下させることにより、基板の乾燥効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

During the remaining heat drying processing, moisture evaporated from the clothes with remaining heat is discharged outside the water receiving tank 10 by outer air flow, so that the drying of the clothes is accelerated.例文帳に追加

この余熱乾燥処理時には衣類から余熱で蒸発した水分が外気流によって水受槽１０の外部に排出されるので、衣類の乾燥が促進される。 - 特許庁

To provide a processing device capable of permitting uniform drying process of the whole of surface of a plate upon drying process by injecting gas against a rotating substrate.例文帳に追加

この発明は回転される基板に気体を噴射して乾燥処理する際に、板面全体を均一に乾燥処理できるようにした処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photographic processor that removes an influence of heat due to drying air from a drying processing unit to suppress deterioration in colorimetry precision and can automatically complete setup operation.例文帳に追加

乾燥処理部からの乾燥風による熱の影響を排除し、測色精度の悪化を抑えて、自動でセットアップ作業を完了可能な写真処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate drying apparatus capable of smoothly flowing down solvent steam between substrates to prevent variation in drying by exhausting an air from a processing tank.例文帳に追加

処理槽内から排気を行うことにより、各基板間に溶剤蒸気を円滑に流下させて乾燥ムラを防止することができる基板乾燥装置を提供する。 - 特許庁

To provide drying technology capable of quickly and economically drying and processing a large amount of dried objects and improving deodorizing and sterilizing effects.例文帳に追加

大量の乾燥処理対象物を迅速且つ経済的に乾燥、処理可能にすると共に、消臭、殺菌効果を高めた乾燥技術を実現化し提供する。 - 特許庁

Under a state where drying gas is ejected, a control section 47 elevates a lifter 15 from processing position to drying position and opens a QDR valve 19 to drain pure water in a processing tank 1 rapidly.例文帳に追加

乾燥用気体を噴射させた状態で、制御部４７は、リフタ１５を処理位置から乾燥位置へと上昇させるとともに、ＱＤＲ弁１９を開放して、処理槽１内の純水を急速排水する。 - 特許庁

To provide a reduced-pressure drying device capable of realizing the drying operation of high efficiency while miniaturizing a device for drying a raw material, as a pre-processing for carbonizing the raw material such as a sludge cake, a reduced-pressure drying method, and a carbonization treatment device comprising the same.例文帳に追加

汚泥ケーキ等の原料を炭化する前工程として、この原料を乾燥させるため装置の小型化を図りながらも高効率な乾燥動作を実現する減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法並びにこの減圧乾燥装置を備えた炭化処理装置を提供する。 - 特許庁

To suppress the quantity of consumption of an organic solvent in a substrate processing method and a substrate processing apparatus for: supplying an unused organic solvent on the surface of a substrate before drying the surface of the substrate; adjusting the surface of the substrate to a surface state suitable to drying; and drying the surface of the substrate.例文帳に追加

基板表面を乾燥させる前に該基板表面に未使用の有機溶剤を供給して基板表面を乾燥に適した表面状態に調整した後に基板表面を乾燥させる基板処理方法および装置において、有機溶剤の消費量を抑制する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device that can prevent a coating film formed through drying processing from having unevenness in film thickness without increasing the device cost, and to provide a substrate processing method.例文帳に追加

装置コストを増大させることがなく、乾燥処理により形成される塗布膜の膜厚のムラの発生を防止できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photographic processing apparatus in which a conveyance path for photosensitive material can easily be maintained and so on even when a drying processing section is arranged above a development processing section.例文帳に追加

現像処理部の上部に乾燥処理部が配置されていても、感光材料の搬送経路におけるメンテナンス等を容易に行うことが可能な写真処理装置を提供する。 - 特許庁

The processing apparatus is provided with a fixed unit 14 having a developing apparatus 17 and a drying unit 15 having a drying apparatus 19, and the drying unit 15 can be installed in a position different from the fixed unit 14.例文帳に追加

現像処理装置１７を有する固定ユニット１４と、乾燥装置１９を有する乾燥ユニット１５とを備え、前記乾燥ユニット１５は、前記固定ユニット１４に対して異なる位置に設置可能であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a coating film drying method, and its drying equipment for shortening drying processing time required for a manufacturing method in the method for manufacturing a cloudiness preventing sheet by applying a cloudiness preventing agent to a polystyrene resin sheet.例文帳に追加

ポリスチレン樹脂製シートに防曇剤を塗布し、防曇性シートを製造する方法において、その製造方法に必要な乾燥処理時間を短縮できる塗膜の乾燥方法及びその乾燥設備を提供すること。 - 特許庁

The purpose is attained by the control serum by freezing or freezing-drying a dialyzing processing unapplied serum.例文帳に追加

上記課題は、透析処理をしない血清を凍結もしくは凍結乾燥した管理血清により達成される。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus having a spin drying portion capable of reducing the chemical change of a substrate.例文帳に追加

基板の化学的変化を低減することができるスピン乾燥部を備える基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a garbage processing unit that improves drying performance and reduces a cost.例文帳に追加

乾燥性能の向上と低コスト化の向上をはかった生ごみ処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a thermal transfer processing part 30a, a special color ink is transferred on a printed matter dried in a drying part 20a.例文帳に追加

熱転写加工部３０ａでは、乾燥部２０ａで乾燥された印刷物に、特色インキが転写される。 - 特許庁

To provide a resist film drying system which can substantially reduce the processing time that is required for a single glass substrate.例文帳に追加

一枚のガラス基板に要する処理時間の短縮が大幅に可能なレジスト膜乾燥システムを提供する。 - 特許庁

The cleaner/dryer 400 comprises a cleaning/drying processing block 16, and a second interface block 17.例文帳に追加

洗浄／乾燥装置４００は、洗浄／乾燥処理ブロック１６および第２のインターフェースブロック１７を備える。 - 特許庁

To shorten the time required for the drying processing of a coating film formed by spin coating on a semiconductor substrate.例文帳に追加

スピンコートによって半導体基板上に形成された塗布膜の乾燥処理にかかる時間を短縮する。 - 特許庁

To efficiently perform drying, carbonization, and the like, in a kiln in a pyrolysis processing plant without increasing cost.例文帳に追加

熱分解加工施設におけるキルン内部での乾燥、炭化等をコストの増大を伴わずに効率よく行う。 - 特許庁