「drying processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive material processing device capable of effectively preventing hot air generated in a drying part from entering a processing solution tank.例文帳に追加

乾燥部で発生した温風の処理液槽への侵入を有効に防止することができる感光材料処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the laminate is dried, processing of heating, pressure-reducing and drying the laminate and processing of supplying dry gas to the laminate are carried out repeatedly a plurality of times.例文帳に追加

積層体を乾燥する際に、積層体を加熱減圧乾燥する処理、及び積層体に乾燥ガスを供給する処理を複数回繰返して行なう。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method which are capable of effectively cleaning the surface of a substrate without generating variety in drying.例文帳に追加

乾燥むらを発生させることなく基板の表面を効果的に洗浄することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The method for regenerating the base holder configured to continuously perform liquid honing of SUS beads as blasting, a high pressure jet cleaning means as fine powder removal processing, warm air drying as drying processing, and tacky adhesive roller processing as deposited material removal processing is used and the apparatus for regenerating the base holder is configured in such a manner that the processing in such processing means can be continuously performed.例文帳に追加

ブラスト処理としてＳＵＳビーズの液体ホーニング、微紛除去処理として、高圧ジェット洗浄手段、乾燥処理として温風乾燥、付着物除去処理として粘着ローラー処理を連続的に行うようにした基体ホルダーの再生方法を用い、またそのような処理手段を連続的に処理できるように構成した基体ホルダーの再生装置。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 500 comprises an indexer block 9, a processing block 10 for an antireflection film, a processing block 11 for a resist film, a development processing block 12, a processing block 13 for a resist cover film, a resist cover film removal block 14, a cleaning/drying processing block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 comprises: an indexer block 9; a processing block 10 for an antireflection film; a processing block 11 for a resist film; a development processing block 12; a processing block 13 for a resist cover film; a resist cover film removing block 14; a cleaning/drying processing block 15; and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate processor 500 comprises an indexer block 8, end-face cleaning processing block 9, anti-reflection film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック８、端面洗浄処理ブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

To provide a dehumidification type drying system capable of solving problems on the sticking of dried organic substances generated when a moisture content of a dried object becomes roughly 40% or smaller in drying the dried object in a processing tank, the unsmooth progression of drying processing, and the flying of floating substances in the air of the processing tank when a degree of dryness progresses.例文帳に追加

被乾燥物を処理槽内で乾燥する時、被乾燥物の水分量が略４０％以下となった時に発生する被乾燥物有機体が固着し、乾燥処理がスムーズに進まなくなる点や乾燥度が進んだ時に処理槽空気中に浮遊物が舞い上がる点を解決する除湿型乾燥システムを提供する。 - 特許庁

Pre-drying processing (processing of supplying a high-concentration IPA to a substrate surface Wf) is executed, so that the concentration of an IPA of a liquid film to be formed on the substrate surface Wf is always adjusted to a final value suitable for substrate drying.例文帳に追加

乾燥前処理（基板表面Ｗfに高濃度ＩＰＡを供給する処理）を行うことで基板表面Ｗfに形成される液膜のＩＰＡ濃度は常に最終的に基板乾燥に適した値に調整されている。 - 特許庁

To provide a photographic processor capable of producing an optimum temperature atmosphere for drying processing in a drying chamber in a short period of time while suppressing the capacity of a heater as much as possible, and stabilizing the driving processing for a photosensitive material.例文帳に追加

ヒータの容量を極力抑えた上で乾燥室内を短時間に乾燥処理に最適な温度雰囲気にすることができ、感光材料に対する乾燥処理の安定化を図ることができる写真処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording apparatus which improves the efficiency of drying processing after drawing, and suppresses effects on a drawing part caused by the drying processing to attain satisfactory ink hitting, and to provide a thermal insulation method.例文帳に追加

描画後の乾燥処理の効率向上を図るとともに、乾燥処理により発生する熱の描画部への影響を抑制して好ましいインク打滴を実現するインクジェット記録装置及び断熱処理方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises the removal of the water content of sludgy waste diatomaceous earth by evaporation to carry out drying processing by calcined limes for the drying processing having calcined lime (including burning dolomite) as a main component, and sterilizing to make the sludgy waste diatomaceous earth harmless by alkali.例文帳に追加

生石灰（焼成ドロマイトを含む）を主成分とする乾燥処理用生石灰類により、ヘドロ状廃珪藻土の含有水を蒸発除去して乾燥処理を図り、アルカリによるヘドロ状廃珪藻土の殺菌無害化を図る。 - 特許庁

The control part 5, when power generation operation of the stack 1 comes to a stop due to voltage fall, gives priority to a startup processing mode for flooding over that for drying up, and tries to restart the stack 1 in the startup processing mode for drying up.例文帳に追加

制御部５は、スタック１の発電運転が電圧低下で停止したとき、フラッディング用起動処理モードよりもドライアップ用起動処理モードを優先させ、ドライアップ用起動処理モードでスタック１の再起動を試みる。 - 特許庁

To provide a disk drying device which can dry a plurality of disks at the same time in a short period of time by batch processing and which can achieve a small device, and to provide a disk drying method.例文帳に追加

バッチ処理により複数枚のディスクを同時に短時間で乾燥することが可能で小型化な装置を実現できるディスク乾燥装置およびディスク乾燥方法を提供する。 - 特許庁

The embodiment that an iodine number of the drying oil is 150 or higher, the embodiment that the drying oil is a wood oil and the embodiment that the processing oil is a polymerized wood oil obtained by heating/treating the wood oil are preferable.例文帳に追加

該乾性油のヨウ素価が１５０以上である態様、該乾性油が桐油である態様、該加工油が桐油を加熱処理した重合桐油である態様などが好ましい。 - 特許庁

An upper receiver 10 provided with an inclined path and a lower receiver 20 having an evaporation path 21 are provided below a drying region in a processing tank 2 of an IPA drying apparatus.例文帳に追加

ＩＰＡ乾燥装置の処理槽２の乾燥領域の下方に、傾斜流路を設けた上方受け部１０と、蒸発用流路２１を有する下方受け部２０とを設ける。 - 特許庁

A printer 1 includes a drying apparatus 30 which, while the sheets P with ink ejected thereupon are successively laminated in the upper direction and are stocked into a sheet bundle shape, applies drying processing on these sheets P.例文帳に追加

プリンタ１は、インクが吐出された後のシートＰを順次上方向に積層してシート束状にストックしつつ、これらシートＰに乾燥処理を施す乾燥装置３０を含む。 - 特許庁

To provide a substrate drying apparatus for efficiently drying a substrate by limiting air flow blown from an air knife by a relatively easy method with no need of processing the apparatus itself.例文帳に追加

装置自体への加工を必要としない比較的簡易な方法により、エアナイフから吹付けられたエアの流れを規制して、効率的に基板を乾燥できる基板乾燥装置を提供する。 - 特許庁

A device main body is provided with a development processing part and a drying processing part, and a carrying means is provided with a plurality of sprockets, and a feed mechanism having a plurality of feed holes to be engaged with teeth of sprockets is provided on the film side, and development and drying processing are performed while carrying a film through the feed mechanism by the carrying means.例文帳に追加

装置本体に、現像処理部と乾燥処理部とを備え、搬送手段はスプロケットを複数備え、フィルム側にスプロケットの歯に噛み合う複数の送り孔を有する送り機構を設けて、送り機構を介してフィルムを搬送手段で搬送しながら現像・乾燥処理を行う。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method that use a low-surface-tension solvent such as IPA to dry a substrate surface getting wet with a processing liquid while disposing a blocking member opposite the substrate surface, the substrate processing device and the substrate processing method excellently drying the substrate surface.例文帳に追加

遮断部材を基板表面に対向して配置しながら処理液で濡れた基板表面をＩＰＡ液などの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁

The substrate processor 500 includes an indexer block 9, antireflective film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。 - 特許庁

To provide a washing and drying machine achieving a water discharge processing means capable of discharging water to the outside of the machine by one water discharge pipe.例文帳に追加

１つの排水管で機外に排水できる排水処理手段を実現した洗濯乾燥機を提供すること。 - 特許庁

After that, spinning dry processing is executed, thereby drying the wafer W while suppressing a water mark from occurring.例文帳に追加

その後、スピンドライ処理を実施することにより、ウォーターマークの発生を抑制しつつウエハＷを乾燥させることができる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus, etc. capable of drying a substrate to be processed while suppressing occurrence of substrate collapse or contamination.例文帳に追加

パターン倒れや汚染の発生を抑えつつ、被処理基板を乾燥することの可能な基板処理装置等を提供する。 - 特許庁

In a drying step, the fresh flower 10 taken out of the second processing liquid 2 is dried in the atmosphere at an ambient temperature.例文帳に追加

乾燥工程において、第２の処理液２中から取り出した生花１０を、大気中で常温乾燥させる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which can prevent insufficient drying even for a substrate having micro patterns.例文帳に追加

微細パターンが形成された基板であっても乾燥不良を防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To improve dispersibility of dried objects at a charging part into a rotating cylinder and to prevent reduction of drying processing capacity.例文帳に追加

回転筒内への装入部分における被乾燥物の分散性を高め、乾燥処理量の低減を防止する。 - 特許庁

To provide a method for processing lumber which is free from occurrence of a crack in a drying stage and excellent also in dimensional stability.例文帳に追加

乾燥段階でのひび割れの発生がなく寸法安定性も良好な木材の加工方法を提供する。 - 特許庁

An interface block 14 is constituted of a washing and drying processing block 14A and a carry-in/carry-out block 14B.例文帳に追加

洗浄乾燥処理ブロック１４Ａおよび搬入搬出ブロック１４Ｂにより、インターフェイスブロック１４が構成される。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment for cleaning and drying a substrate by supplying a plurality of kinds of chemicals or gases to the substrate.例文帳に追加

基板上に複数の薬液や気体を供給して基板を洗浄乾燥する基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device for cleaning and drying a substrate by supplying a plurality of chemical liquids or gases on the substrate.例文帳に追加

基板上に複数の薬液や気体を供給して、基板を洗浄・乾燥する基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a recording device and a coating device that suppress thickening of a processing liquid due to evaporation, volatilization, and drying or the like of the processing liquid at a coating part for applying the processing liquid to a recording medium.例文帳に追加

記録媒体に処理液を塗布する塗布部において、処理液の蒸発、揮発および乾燥等に起因する処理液の増粘を抑制することができる記録装置および塗布装置の提供。 - 特許庁

This constitution enables setting of a heating amount of the heating means 26 and an air supply amount of the blower 25 to obtain maximum drying efficiency according to a kind and a quantity of refuse without exceeding the upper limit value of the internal temperature of the drying processing part 21, and promotes drying efficiency, resulting in shortening of a drying time.例文帳に追加

これによって、生ごみの種類や量に応じて、乾燥処理部２１の内部温度の上限値を超えることなく最大の乾燥効率が得られる加熱手段２６の加熱量と送風機２５の送風量が設定でき、そして乾燥効率が促進されるので乾燥時間の短縮が図れる。 - 特許庁

In this case, the cleaning and drying treatment is performed to the substrate W after exposure processing at the cleaning/drying treatment section 80, and a sixth center robot CR6 takes the substrate out of the cleaning/drying treatment section 80 and carries the substrate W into the heat treatment section 151 for post-exposure baking in the cleaning/drying treatment block 15.例文帳に追加

まず、洗浄／乾燥処理部８０において露光処理後の基板Ｗに洗浄および乾燥処理が施された後、第６のセンターロボットＣＲ６は、基板Ｗを洗浄／乾燥処理部８０から取り出し、当該基板Ｗを洗浄／乾燥処理ブロック１５の露光後ベーク用熱処理部１５１に搬入する。 - 特許庁

To enable drying processing by making mutual containers carried from separate farmers mixedly exist, by easily identifying from which farmers the respective containers are carried, in a dehumidifying and drying system for dehumidifying and drying a drying object such as a farm produce and processed food in a green house 1 by blowing air.例文帳に追加

温室１内において農作物や加工食品等の被乾燥物を送風にて除湿・乾燥させる除湿乾燥システムに関して、各コンテナがどの農家から運ばれてきたものかを簡単に識別して、別々の農家から運ばれてきたコンテナ同士を混在させて乾燥処理できるようにする。 - 特許庁

To provide a drying processing method and a drying furnace in which both a drying carbonization and a high temperature processing for generated gas can be carried out within the same furnace and either vapor generated from items to be processed or bad odor and harmful components in the generated gas can be discharged into atmosphere as discharged gas of non-odor and non-toxic characteristic under a high temperature combustion.例文帳に追加

同一炉内で乾燥炭化と発生ガスの高温処理を可能にし、処理物から発生した蒸気やガス中の臭気および有害成分を高温燃焼により無臭無害の排気ガスとして大気中に排出させることのできる乾燥処理方法および乾燥炉を提供することにある。 - 特許庁

When the drying solvent of the first storage tank with the drying solvent supplied reaches the end of its usefulness, after the process of the substrate W finishes, the drying solvent is supplied from only the second storage tank 13 different from the first storage tank 11 to the processing bath 5 to process the successive substrate W in the processing bath 5.例文帳に追加

そして、乾燥溶剤を供給した第１の貯留タンク１５の乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板Ｗの処理が終了した後、第１の貯留タンク１５とは異なる第２の貯留タンク１３だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて次の基板Ｗを処理させる。 - 特許庁

To provide a drying apparatus which prevents strain from being generated on a medium and prevents wrinkles from generating at fixing processing when the edge part of the medium is fixed and the drying processing is applied, and to provide a liquid delivering apparatus and a medium fixing method.例文帳に追加

媒体の縁部を固定して乾燥処理を施す際に、当該媒体に生じる歪みが防止されるとともに、定着処理時におけるしわの発生が防止される乾燥装置及び液体吐出装置並びに媒体固定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for dry-finishing for laundry corresponding to the environment of discharging no circulation gas containing a solvent or the like into atmosphere during the drying finishing processing and solvent collecting processing of laundry inside a drying chamber.例文帳に追加

乾燥室内における洗濯物の乾燥仕上げ処理と溶剤回収処理中においては溶剤等を含む循環気体を一切大気中に出さない環境に対応した洗濯物の乾燥仕上げ方法とその装置を提供すること。 - 特許庁

A dry-molding process comprises skin-processing steps comprising drying the skin in the sun, cutting it, soaking it in water, and knitting or pressing the skin or raw material granule-processing steps comprising drying the skin in the sun, powdering it, adding the adhesive thereto, agitating it, and pressing or extruding the skin.例文帳に追加

乾式成形は、皮の天日乾燥、裁断、水に浸け込む工程、及び編んで又はプレスする皮加工法、又は天日乾燥して粉砕し粘着剤を添加して攪拌する及びプレス又は押し出す粒状原料加工法である。 - 特許庁

To provide a continuous type powder and grain drying device to realize reduction of an equipment cost and reduction of the size of equipment and to be high in processing efficiency, since, in a conventional batch type drying device, processing efficiency is worse and an equipment cost is increased and the size of equipment is increased.例文帳に追加

従来のバッチ式乾燥装置では、処理効率が悪く、設備コストの増大と設備の大型化を招くため、処理効率が高く、設備コストの削減と設備の小型化を実現した連続式の粉粒体乾燥装置を提供する。 - 特許庁

This photosensitive material processing unit is fabricated by arranging first and second sensors 33, 34 for sensing passage of a photosensitive material 15 at the photosensitive material 15 outlets of a processing section 11 and a drying section 12.例文帳に追加

現像処理部１１および乾燥部１２の感光材料１５の出口に、感光材料１５の通過有無を検出する第１、第２センサ３３、３４を配置する。 - 特許庁

To provide a liquid processing device which can prevent the processing liquid from being left on a lift pin after drying a substrate, and can process the lower surface of the substrate efficiently.例文帳に追加

基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止することができ、かつ、基板の下面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

To make it possible to perform development processing of special photosensitive materials for which development processing and drying are not possible at a prescribed conveyance speed in the same manner as for ordinary photosensitive materials.例文帳に追加

一定の搬送速度で現像処理と乾燥とが行えない特殊感光材料の現像処理も通常の感光材料と同じように処理可能にする。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which is capable of shortening a tact time when a substrate is subjected to a drying process after the substrate is processed with a processing solution.例文帳に追加

この発明は基板を処理液で処理してから乾燥処理する際のタクトタイムの短縮化を図ることができる基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁