「drying processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The interface IF, via which the substrate is delivered between the removing unit 5, in which the organic substances are removed from the substrate, and the drying unit 9, in which the substrate subjected to the removing processing is dried, is held between the drying unit 9 and the removing unit 5.例文帳に追加

そして、除去処理が行われた基板の乾燥処理を行う乾燥処理部９と除去処理部５との間に挟み込まれるようにして、除去処理部５と乾燥処理部９との間で基板の受け渡しを行うインターフェイスＩＦが設けられている。 - 特許庁

The sheet is obtained by subjecting a quilting laminated fabric having a fibrous activated carbon cloth sandwiched by a base material (protective layers for the adsorbent) excellent in air permeability and flexibility to immersion treatment in a water dispersion-base binder resin processing bath (by dipping and nipping) and then to drying and fixing treatment (by drying and curing).例文帳に追加

通気性、柔軟性に優れた基材（吸着材保護層）で繊維状活性炭布を挟み込んだキルティング積層布帛を水分散系のバインダー樹脂加工浴により浸漬処理（ディップ・ニップ）し、乾燥・固着処理（ドライ・キュア）を施して得られる - 特許庁

This fibrous activated carbon sheet is obtained by immersing (dipping/nipping) a quilting laminated cloth obtained by sandwiching a fibrous activated carbon cloth between substrates (adsorbing material protecting layers) excellent in air permeability and flexibility, in an aqueous dispersion type binder resin processing bath and applying drying/fixing treatment (drying/curing treatment) to the impregnated laminated cloth.例文帳に追加

通気性、柔軟性に優れた基材（吸着材保護層）で繊維状活性炭布を挟み込んだキルティング積層布帛を水分散系のバインダー樹脂加工浴により浸漬処理（ディップ・ニップ）し、乾燥・固着処理（ドライ・キュア）を施して得られる。 - 特許庁

In the case of the special photosensitive material, such as transparent photographic paper, which is lower in the conveyance speed during drying than the conveyance speed during development processing, such material is dried by performing the intermittent feeding to temporarily stop the photosensitive material within the drying section 20 by actuating the clutch brake 67e.例文帳に追加

現像処理時の搬送速度に比べて乾燥時の搬送速度が低い透明印画紙などの特殊感光材料の場合に、クラッチブレーキ６７ｅを作動させて、乾燥部２０内で感光材料を一時停止させる間欠送りを行い乾燥する。 - 特許庁

The ink jet printer comprises a section for ejecting ink to a recording medium, a section for drying ink ejected from the ink ejecting section to the recording medium, and a section for processing the recording medium to enhance glossiness after ink is dried at the drying section.例文帳に追加

記録媒体にインクを吐出するインク吐出部と、インク吐出部より記録媒体に吐出されたインクを乾燥させる乾燥部と、乾燥部によりインクが乾燥された記録媒体に対して光沢向上処理を行う処理部とを備えるインクジェットプリンタである。 - 特許庁

To improve the throughput of a photographic processing device by shortening standby time without increasing power consumption in a photographic printing and developing machine (photographic processing device) equipped with a drying part 12 which dries photographic paper processed with processing solution while conveying it along a predetermined conveyance path.例文帳に追加

処理液によって処理された印画紙を、所定の搬送路に沿って搬送しながら乾燥させる乾燥部１２を備えた写真焼付現像機（写真処理装置）において、消費電力を増大させることなく待機時間を短縮して、写真処理装置の処理能力を向上させる。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus that dry a substrate surface by removing a solvent from the substrate surface after replacing a processing liquid on the substrate surface with the solvent, drying performance therein being enhanced by preventing drops of water from sticking on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面上の処理液を溶剤で置換した後に当該溶剤を基板表面から除去して当該基板表面を乾燥させる基板処理方法および基板処理装置において、基板表面に水滴が付着するのを防止して乾燥性能を高める。 - 特許庁

To provide a food processing and cooking method and a food processing and cooking device capable of appropriately performing many types of processing including cooking, rice cooking, roasting, baking, drying, disinfection, thawing by combining appropriately three factors of steam, hot water and pressure.例文帳に追加

水蒸気、熱水、圧力の３要因などを適切に組み合わせことにより、食品の蒸煮、炊飯、蒸焼、焙煎、焼成、乾燥、殺菌、解凍にわたる幅広い種類の加工を適切に行うことができる食品加工調理方法及び食品加工調理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mail processing apparatus capable of curing or drying printing ink after used for printing a code based on address data on mail during feed or sterilizing the surface of the mail with good processing efficiency and energy efficiency, and a mail processing method using the same.例文帳に追加

搬送中の郵便物に宛名情報に基づくコード印字をした後の印字インキの硬化または乾燥、および郵便物表面の殺菌を処理効率およびエネルギー効率良く行うことができる郵便物処理装置および郵便物処理方法を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the ornamental article comprises the cutting process for cutting the vegetables and the fruits thin, the drying process for drying thin cut vegetables and fruits in this cutting process, the softening process for moistening and softening the dried cut vegetables and fruits after this drying process, and the processing process for processing the cut vegetables and fruits softened in this softening process into specified shapes such as flowers by using an adhesive.例文帳に追加

野菜や果物を薄く切断する切断工程と、この切断工程で薄く切断した切断野菜や果物を乾燥させる乾燥工程と、この乾燥工程後に乾燥された切断野菜や果物を湿らせて柔らかくする柔軟工程と、この柔軟工程で柔らかくした切断野菜や果物を接着剤を用いて所定の花等の形状に加工する加工工程とで装飾品の製造方法を構成している。 - 特許庁

To eliminate the need for an excess floor area for arranging a tray for discharge by changing the direction of the photographic paper which is emerged from a drying unit and has an emulsion surface in a state of facing a processing tank side so as to head toward the processing tank.例文帳に追加

乾燥ユニットから出て乳剤面が処理槽側に向く状態となった印画紙を、処理槽へ向わせるように方向転換することで、排出用のトレーを配置するための余分な設置面積を不要にする。 - 特許庁

A transporting roller 122a abutting on the photosensitive surface 1a of the photosensitive material 1 subjected to development processing of the photograph drying device 400, which subjects the photosensitive material 1 to drying processing while transporting the photosensitive material by using plural transporting roller pairs 12 arranged at prescribed intervals, has a roller surface member 506 made of a woven fabric material.例文帳に追加

所定の間隔で配置された複数の搬送ローラ対１２を用いて、現像処理された感光材料１を搬送しつつ乾燥処理する写真乾燥装置４００において、感光材料１の感光面１ａに当接する搬送ローラ１２２ａは織布材料製のローラ表面部材５０６を有することを特徴とする写真乾燥装置。 - 特許庁

A heating amount of a heating means 26 and an air supply amount of a blower 25 are supplied in a controlled state in a way that an increase value of the internal temperature of a drying processing part 21 is decided by a deciding means 29 such that the internal temperature of a drying processing part 21 does not exceed an upper limit value due to heated air heated by a heating means 26.例文帳に追加

加熱手段２６によって加熱された加熱空気２７により乾燥処理部２１の内部温度が上限値を超えないように乾燥処理部２１の内部温度の上昇値を判定手段２９で判定して加熱手段２６の加熱量と送風機２５の送風量を制御して供給するようにしている。 - 特許庁

In conveying a lifter 15 by a supply section 23 into a processing tank 1, the lifter 15 freely goes up and down between the processing station inside the processing tank 1 and the drying position over the processing tank 1 while upholding a substrate W, first and second control valves 35 and 41 are closed, and a third control valve 45 is opened by the controller 47.例文帳に追加

基板Ｗを支持しつつ、処理槽１内部の処理位置と処理槽１上方にある乾燥位置とにわたって昇降自在であるリフタ１５、供給部２３の近傍を通過させて処理槽１へ搬入させる際に、制御部４７により、第１制御弁３５，第２制御弁４１が閉、第３制御弁４５が開に切り替わる。 - 特許庁

The development processor 10 comprises: a loading part 12 for loading a cartridge P storing a film F; a developing part 14 for performing development processing on the film F; and a drying part 16 provided in the downstream side of the developing part 14 and for drying the film F from the developing part 14.例文帳に追加

現像処理装置１０は、フィルムＦを収納するパトローネＰが装填される装填部１２、フィルムＦに現像処理を施す現像部１４、および現像部１４の下流側に設けられ現像部１４からのフィルムＦを乾燥させる乾燥部１６を備える。 - 特許庁

To provide a method and a device for dry processing a fine structure capable of uniformly drying the fine structure in a short period of time by preventing the drying during a conveyance and further preventing a falling down of a pattern for a substrate having a large diameter on which surface a fine pattern is formed.例文帳に追加

本発明の目的は、搬送中の乾燥を防止し、更に、表面に微細なパターンを形成した大口径基板に対してパターン倒れがなく、短時間で均一に乾燥させることができる微細構造乾燥処理方法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁

The automatic apparatus comprises the etching process having a characteristic for using them (shown above) and the washing and drying process related to the etching treatment, indirectly integrating an action by ultrasonic vibration as the processing method in a holder separately prepared and making it operate, and the washing, drying related to the etching treatment.例文帳に追加

また、これらを使用する為の特徴を持つエッチング処理であり、この加工方法としての超音波振動による作動を、間接的別途用意したホルダーに組み、これに作動させたエッチングに関連する洗浄及び、乾燥方法と其のエッチング加工を設けた自動装置である。 - 特許庁

When a system controller 40 receives occurrence of jamming in the drying section 12, it stops carrying of the photosensitive material 15 from an exposure section 10 in the processing section 11 and driving of the drying section 12, and drives the switching guide 36 to switch the conveyance path 14 to the buffer section 35.例文帳に追加

システムコントローラ４０は、乾燥部１２でジャミングが発生したと特定した場合、露光部１０から現像処理部１１への感光材料１５の搬入、および乾燥部１２の駆動を停止させ、切替ガイド３６を駆動させて搬送経路１４をバッファ部３５に切り替える。 - 特許庁

As for a method for hardening the resin-coated carrier (material to be dried) in a multistage stationary drying furnace, a drying processing is performed under a condition where the relation of B≥A is satisfied as to the thickness A of each layer of the material to be dried in containers arranged at many stages and a distance B between one and the other containers.例文帳に追加

樹脂をコーティングしたキャリア（被乾燥物）を多段静置型乾燥炉にて硬化する方法において、多段に配置された収納容器中の被乾燥物層の厚みＡと他段との間隔Ｂとが、Ｂ≧Ａの関係を有する条件で乾燥処理する。 - 特許庁

In the drying method drying the substrate 4, cleaned by processing liquid by jetting the gas from an air knife 8 to the substrate while carrying it in a prescribed direction, the jetted amount of the gas from the air knife is controlled, corresponding to the relative position of the substrate and the air knife.例文帳に追加

処理液によって洗浄された基板４を所定方向に搬送しながら、この基板にエアーナイフ８から気体を噴射して乾燥する乾燥処理方法において、上記エアーナイフからの気体の噴射量を、上記基板と上記エアーナイフとの相対位置に応じて制御することにある。 - 特許庁

This unit includes a buffer section 35 for temporarily holding the photosensitive material 15 carried out of the processing section 11 when jamming of the photosensitive material 15 occurs in the drying section 11, and a switching guide 36 for switching a conveyance path 14 between the buffer section 35 and the drying section 12.例文帳に追加

乾燥部１２で感光材料１５のジャミングが発生した際に、現像処理部１１から搬出される感光材料１５を一時的に収容するバッファ部３５と、このバッファ部３５と乾燥部１２との間で搬送経路１４を切り替える切替ガイド３６とを設ける。 - 特許庁

In this manufacturing method, the polishing cloth is manufactured by heating and drying the substrate after impregnating the substrate in resin solution, and a pressurization processing of at least a surface side (a side to be a polishing surface) of the substrate is performed by using flat-plate shaped press members 2 and 3, for instance, after the heating and drying (process S10).例文帳に追加

その製造方法では、基材を、樹脂溶液に含浸した後、加熱乾燥して研磨布を製造するが、加熱乾燥後に、基材の少なくとも表面側（研磨面となる側）を、例えば、平板状のプレス部材２，３を用いて加圧処理（工程Ｓ１０）する。 - 特許庁

Since the occurrence of particles caused by being supplied to the drying tank while the fluid for drying is solidified is suppressed, this invention has the effect that stable and defectless substrate processing can be obtained resulting in enhancing the production amount or the yield.例文帳に追加

本発明によれば、乾燥用流体が凝固された状態で乾燥槽に提供されることによって引き起こされるパーティクルの発生が抑制されるから、安定的かつ不良のない基板処理が可能になって、生産量又は歩留まりが向上するという効果がある。 - 特許庁

The temperature of a steam discharge tube 15 disposed between a processing tank 8 and a condensation means 11 rises after the drying process is started to the steady condition, and after that, the temperature begins to lower as the drying degree of a processed object W is lowered, that is, as the quantity of the discharged steam is reduced.例文帳に追加

処理槽８と凝縮手段１１との間に配設された蒸気排出管１５の温度は、乾燥処理を開始すると定常状態まで上昇したのち、処理物Ｗの乾燥度の低下、即ち蒸気排出量の減少に伴って降下し始める。 - 特許庁

The CPU 50 monitors a result of the measurement by the load cell 20 in the drying processing, stops motions of the heater 22, the circulation fan 24 and the rotary drive section 18 on the basis of the result of the measurement, and displays completion of the processing on a display section 66.例文帳に追加

ＣＰＵ５０は、乾燥処理時に、ロードセル２０の計測結果を監視し、この計測結果に基づいてヒータ２２、循環ファン２４、および回転駆動部１８の動作を停止させ、かつ、表示部６６に処理完了の表示を行う。 - 特許庁

The exhaust regulator of tea processing machine is equipped with an exhaust regulation plate at the upper opening of a kneading/drying chamber of a fixed barrel type tea processing machine and slides the exhaust regulation plate by drive means to open and close the upper opening of the kneading chamber.例文帳に追加

本発明の製茶機械の排気調整装置は、固定胴型製茶機械の揉乾室の上部の開口に排気調整板を設け、駆動手段により該排気調整板をスライドして前記揉乾室の上部の開口を開閉する。 - 特許庁

To provide a laminate production method related to a laminated sheet for aiming an etching processing, a processing method therefor or the like and a washing, drying and etching process by setting a holder which indirectly incorporates an ultrasonic vibration, and an automatic apparatus to be used for this method.例文帳に追加

エッチング加工を目的とする積層シートに係関連するラミネート製造及び、其の加工方法等であり超音波振動を間接的に組み込んだホルダーを設け、洗浄加工及び乾燥、エッチング加工方法であり、また使用する自動装置。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus that dry a substrate surface by removing a solvent consisting principally of a fluorine-based solvent from the substrate surface, the drying performance being enhanced by preventing a drop of water from sticking on the substrate surface.例文帳に追加

フッ素系溶剤を主成分とする溶剤を基板表面から除去して当該基板表面を乾燥させる基板処理方法および基板処理装置において、基板表面に水滴が付着するのを防止して乾燥性能を高める。 - 特許庁

To provide a device for processing prevention of loss of a knot of a lumber capable of previously performing loss prevention treatment before a dead knot or live knot falls or chips away in a drying process of the lumber, and a method of processing knot loss prevention for lumber.例文帳に追加

木材の乾燥工程において死節又は生き節が脱落したり、欠け落ちたりする前にあらかじめ脱落防止処理を行うことが可能な木材の節脱落防止処理装置及び木材の節脱落防止処理方法を提供する。 - 特許庁

To reduce noise detected in the processing of a substrate and facilitate the error detection control for reducing the false error detection, when fragments of the substrate collide against a processing chamber in an apparatus for executing the drying of the substrate, etc.例文帳に追加

基板の乾燥等の処理を行う装置において基板の破片が処理室に衝突したことを検知する際に、基板の処理中におけるノイズ検出を低減し、かつエラー検出制御を容易とするとともにエラー誤検出を低減する。 - 特許庁

Since no ionic substance is present, even in any of the processing steps of chemical surface treatment, rinsing and cleaning operations, and drying operation, the surface of the substrate is prevented from being charged due to friction.例文帳に追加

薬液表面処理、リンス洗浄処理、乾燥処理のいずれの処理工程においても、イオン性物質が介在しているため、摩擦に起因した基板表面への帯電が防止される。 - 特許庁

The rinse liquid has a boiling point lower than that of the solvent of the resin liquid and the r.p.m. of the substrate at the time of drying the rinse liquid is set lower than that at the time EBR processing.例文帳に追加

リンス液を樹脂液の溶媒よりも低沸点のものにするとともに、リンス液の乾燥処理時の基板回転数をＥＢＲ処理時の基板の回転数よりも低くしている。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate with superior drying property by fixing recovery time, regardless of the fluctuations of processing capacity and also fixing the exposure time of an object to be processed, based on it.例文帳に追加

処理容量の変動にも拘わらず、リカバリータイムを一定とし、これを基準とする被処理物の暴露時間も一定として、乾燥性に優れる半導体基板を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method in which processing accuracy of a pattern is improved by improving the uniformity of drying state of a functional liquid body, and a droplet discharge apparatus.例文帳に追加

機能性液状体の乾燥状態の均一性を向上させることによりパターンの加工精度を向上させたパターン形成方法、及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

The waste liquid containing the fixing solution or the bleaching fixing solution is subjected to evaporation thickening by using heat of a processing part or a drying part as a heating source to a solidified state.例文帳に追加

定着液または漂白定着液を含む廃液を、処理部または乾燥部熱を加熱源として使用して蒸発濃縮し、蒸発濃縮は、固形化状態まで濃縮する。 - 特許庁

To prevent the accidental fracture in the washing and drying operation by detecting a pole-shaped projection projecting from a car body, such as an antenna, corner pole by the image processing, and further storing its position and height.例文帳に追加

画像処理により、アンテナ・コーナーポール等の車体より突出した棒状突起物を、検出し、さらに、位置高さを記憶し、洗浄および乾燥動作時の破損事故を防止する。 - 特許庁

After the temperature of the row bar 11 is dropped down, the organic solvent 23 from a jet nozzle 30 is stopped, the organic solvent 23 is condensed on the row bar 11 again to perform cleaning and drying processing.例文帳に追加

ローバ１１の温度が下がった後、噴射ノズル３０から有機溶剤２３を停止し、再びローバ１１上に有機溶剤２３を結露させ洗浄及び乾燥処理を実施する。 - 特許庁

The substrate processing equipment 1 drying out the substrate 90 is equipped with a chamber 10, a quartz tank 11, a nitrogen supply unit 12, an air-blowing mechanism 13, a hot water unit 20, and a substrate holding mechanism 40.例文帳に追加

基板９０の乾燥を行う基板処理装置１に、チャンバ１０、石英槽１１、窒素供給部１２、送風機構１３、温水ユニット２０、および基板保持機構４０を設ける。 - 特許庁

While the atmosphere shield plate 30 is brought closer to the substrate W and the substrate W is rotated, the processing liquid and gaseous nitrogen, etc., are supplied from the lower surface and the processings of washing and drying, etc., are performed.例文帳に追加

雰囲気遮断板３０を基板Ｗに近接させて基板Ｗを回転させつつ、その下面から処理液や窒素ガス等を供給して洗浄や乾燥等の処理を行う。 - 特許庁

To provide a compact flash drier of low running cost, capable of improving the degree of flexibility in selecting materials as dried objects and processing capacity, and performing the homogenous drying of high quality.例文帳に追加

乾燥できる材料の選定及び処理能力の自由度を高めると共に、均質で高品質な乾燥を可能としつつ、小型化で低ランニングコストとし得る気流乾燥機を提供する。 - 特許庁

The refuse solid fuel produced by crushing, drying and forming refuse and processing into a specified form is mixed with an iron oxide source and a binder in carbonaceous powder prepared by dry distillation and then formed.例文帳に追加

ごみの破砕、乾燥および成形を経て所定の形状に加工された、ごみ固形燃料を、乾留して得られる炭素質粉末に、酸化鉄源およびバインダーを混合して成形する。 - 特許庁

When a drying processing is performed, the front end part of the recording medium is fixed with at least either one of the two grippers (80-1 and 80-2) positioned at the central part in the width direction of the recording medium (14).例文帳に追加

乾燥処理時には、記録媒体(14)の幅方向の中央部に位置する２つのグリッパー(80-1,80-2)の少なくともいずれか一方を用いて記録媒体の先端部が固定される。 - 特許庁

Before the substrate W is exposed in the aligner, the substrate W is subjected to cleaning and drying processings in a cleaning unit in the cleaning/developing processing block 12.例文帳に追加

露光装置において基板Ｗに露光処理が行なわれる前に、洗浄／現像処理ブロック１２の洗浄処理ユニットにおいて基板Ｗの洗浄および乾燥処理が行われる。 - 特許庁

To provide resist for metal foil etching, which is heat drying type resist ink and can suppress the occurrence of a pinhole during etching processing using acid, and to provide a metal foil pattern forming method.例文帳に追加

熱乾燥型レジストインキであって、酸によるエッチング処理に際して、ピンホールの発生を少なくできる金属箔エッチング用レジストの提供、および金属箔パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To inhibit adhesion of particles and the like to a substrate to uniform a processing environment of the substrate by controlling a supply amount of a drying gas supplied from gas supply means.例文帳に追加

気体供給手段から供給される乾燥用気体の供給量を制御することにより、基板へのパーティクル等の付着を防止し、基板の処理環境を一様にできる - 特許庁