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drying processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 712件
The three impregnating-type processing sections 3 and the substrate drying section 4 are located squarewide around the substrate transfer section 5 placed at the center of the substrate processing equipment.例文帳に追加
3個の浸漬型処理部3と基板乾燥部4とは、基板処理装置の中央部に配置された基板搬送部5の周囲に方形を形成するように配置されている。 - 特許庁
To provide substrate processing apparatus and substrate processing method which can suppress the falling of a pattern formed on a substrate when washing and drying the substrate.例文帳に追加
基板を洗浄、乾燥する際の当該基板に設けられたパターンの倒れの発生を抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁
The particle processing zone (fluidized bed) 24 for drying or processing the particles 25 of the powder and granular material by passing a gas through the particles 25 in a treating vessel 21 is formed.例文帳に追加
処理容器21内の粉粒体粒子25にガス体を通気して該粒子を乾燥または加工するための粒子加工ゾーン(流動層)24を形成する。 - 特許庁
In the method for forming the thin film of the titanium-containing compound, a base material is coated with an aqueous solution of a water-soluble titanium compound, and subjected to drying processing, and then firing processing.例文帳に追加
本発明のチタン含有化合物の薄膜形成方法は水溶性チタン化合物の水溶液を基材にコーティングし、乾燥処理した後、焼成処理する。 - 特許庁
The substrate 3 is subjected to processing by spraying the processing liquid from processing liquid nozzles 5 and thereafter the air or gas, such as inert gas, containing the solvent mist of the processing liquid is ejected toward the substrate 3 from air knives 6, by which the processing liquid on the substrate 3 is removed and the drying and crystallizing of the processing liquid are prevented.例文帳に追加
基板3に処理液ノズル5から処理液を散布して処理を行った後、エアナイフ6から基板3に向けて処理液の溶媒ミストを含むエアや不活性ガスなどの気体を噴出することにより基板3上の処理液を除去し、処理液が乾燥して結晶化するのを防止するようにした。 - 特許庁
To provide a compact and inexpensive surface drying device of a simple structure having high heat utilizing efficiency, obtaining a high temperature even if a heating means is small, having high processing speed in drying, and having beautiful finish.例文帳に追加
簡単な構造で小型コンパクトで安価な、熱の利用効率が高く、加熱手段が小さくても高温が得られ、乾燥の処理スピードが速く、仕上がりがきれいである表面乾燥装置の提供。 - 特許庁
After the processing liquid is applied on the surface of a sheet of recording paper 12 at a processing liquid applying part 100, the processing liquid is dried at a processing liquid drying part 200, and thereafter, ink droplets are delivered on the surface of the recording paper 12 at a colored ink applying part 300 to form the image.例文帳に追加
処理液付与部100で記録用紙12の表面に処理液を付与した後、処理液乾燥部200で処理液を乾燥させ、その後、色インク付与部300で記録用紙12の表面にインク滴を吐出して画像を形成する。 - 特許庁
Each processing of developing, fixing, washing and drying the exposed X-ray film is performed by the automatic developing machine 1 while carrying the exposed X-ray film.例文帳に追加
自動現像機1は、撮影済みのX線フィルムを搬送しながら、現像、定着、水洗、乾燥の各処理を行う。 - 特許庁
To obtain a material for incense, capable of facilitating the processing thereof for forming a desired shape, and capable of maintaining the processed shape after drying.例文帳に追加
所望の形状への加工を容易として、この加工形状を乾燥後も保持できる薫香用材料を提供する。 - 特許庁
To provide a means for effectively drying an aqueous material such as organic waste discharged from a processing process of drink or food.例文帳に追加
飲料や食品の加工工程から排出される有機性廃棄物等の含水物の効果的な乾燥手段を提供する。 - 特許庁
To solve the bulge or decoloration of a pattern of a photoresist film due to moisture in a short drying time after development processing of a substrate.例文帳に追加
基板の現像処理後に、フォトレジスト膜のパターンの水分による膨張又は変色を、短い乾燥時間で解消する。 - 特許庁
Surrounding the carrying unit 7, the resist application processing unit CT and reduced-pressure drying units 53b and 55b are arranged.例文帳に追加
また、垂直搬送ユニット7の周囲にレジスト塗布処理ユニットCT及び減圧乾燥ユニット53b、55bが配設されている。 - 特許庁
In a forcible drying processing, a blower 34, a heater 35, and a dehumidifier 40 are operated with an exhaust air duct 45 closed.例文帳に追加
強制乾燥処理は排気ダクト45の閉鎖状態で送風器34とヒータ35と除湿器40を運転するものである。 - 特許庁
The pressure values in the chambers at the plurality of time points T1, T2, T3 are measured after starting the reduced-pressure drying processing.例文帳に追加
そして減圧乾燥処理を開始した後、複数の時点T1、T2、T3においてチャンバー内の圧力値を測定する。 - 特許庁
WAFER DRYING DEVICE, WAFER PROCESSING SYSTEM EQUIPPED THEREWITH, ELECTROOPTIC DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
基板乾燥装置、およびこれを備えた基板処理システム、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus for improving a throughput by devising a regeneration procedure of a drying solvent.例文帳に追加
乾燥溶剤の再生手順を工夫することにより、スループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
To prevent fine resist patterns from falling in a drying process after development processing in forming the resist patterns.例文帳に追加
レジストパターンを形成する際に、現像処理後の乾燥工程において、微細なレジストパターンが倒れるのを防止できるようにする。 - 特許庁
The method for malt processing comprises heating malt at 40°C or higher, cleaning malt with water at 10-100°C and drying the cleaned malt.例文帳に追加
さらに、本発明は、麦芽を10〜100℃の水で洗浄し、乾燥させることを含む麦芽の加工方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photographic development processing device capable of surely preventing the drying and crystallyzing of a processing liquid stuck to the surface of a transporting roller located at the uppermost part of each processing tank.例文帳に追加
各処理タンクの最上部に位置する搬送ローラーの表面に付着した処理液が乾燥して結晶化するのを確実に防止することができる写真現像処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide single wafer substrate processing equipment and a method for achieving high efficiency drying when a substrate is processed by single wafer processing while preventing condensation of organic solvent used in dry processing.例文帳に追加
枚葉式で基板を乾燥させる際、乾燥処理に用いる有機溶剤の蒸気の結露を防止しながら高効率な乾燥を実現する枚葉式の基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁
With this, because the control part 51 supplies the drying solvent from the first storage tank 11 to the solvent regenerating apparatus 3 to regeneration-process, no interruption of the processing in the drying process apparatus 1 of the substrate processing apparatus involved in the regeneration process is required to be able to improve the throughput of the substrate processing apparatus.例文帳に追加
これとともに、制御部51は、第1の貯留タンク11から溶剤再生装置3に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせるので、再生処理に伴って基板処理装置の乾燥処理装置1における処理を中断する必要がなく、基板処理装置のスループットを向上させることができる。 - 特許庁
To provide a cleaning and drying processing method, a cleaning and drying processing apparatus, and a recording medium that prevent a decrease in product yield by preventing water deposited on an upper end of a substrate to be processed from flowing on a surface of the substrate to be processed.例文帳に追加
被処理基板の上端部に付着した水が被処理基板表面を流れることを防止することにより、製品歩留まりの低下を防止することが可能な洗浄・乾燥処理方法、洗浄・乾燥処理装置、および記録媒体を提供する。 - 特許庁
The drying device 10 includes a first drying means 1 for heating and compressing the charged processed object while conveying it in a vacuum atmosphere, a second drying means 2 for heating the processed object discharged from the first drying means 1 while conveying it and a grinding/kneading means 3 for processing the conveyed processed object into the rolled shape.例文帳に追加
乾燥装置10は、投入された被処理物を真空雰囲気下で搬送しながら加熱及び圧搾する第一乾燥手段1と、第一乾燥手段1から排出された被処理物を搬送しながら加熱する第二乾燥手段2と、搬送される被処理物をロール状に加工する擂り揉み手段3と、を備えている。 - 特許庁
In the method for controlling the drying ability of a photographic processing device for having a drying section for drying the photosensitive material by blowing hot air thereto after the photosensitive material is processed with a liquid chemical, the quantity of the hot air to be blown to the photosensitive material to be dried is increased or decreased, by which the drying ability is increased or decreased.例文帳に追加
感光材料を薬液で処理した後に、感光材料に温風を吹き付けて乾燥処理する乾燥処理部を備えた写真処理装置における乾燥処理能力制御方法において、乾燥すべき感光材料に吹き付ける温風の風量を増減することによって、 乾燥処理能力を増減させるようにした。 - 特許庁
This vacuum drying system 1 comprises a vacuum drying container 11 storing the material to be dried 13, measuring means 21 to 23 measuring a variation in the state of gas inside the vacuum drying container 11, and a data processing means 25 calculating moisture evaporation amount from the material to be dried 13 by processing data measured by the measuring means 21 to 23.例文帳に追加
この真空乾燥システム1は、被乾燥物13を収容する真空乾燥容器11と、真空乾燥容器11内の気体の状態変化を計測する計測手段21〜23と、これらの計測手段21〜23による計測データを処理して、被乾燥物13からの水分蒸発量を算出するデータ処理手段25とを含み構成される。 - 特許庁
To provide a substrate drying method and a substrate drying device which are disposed by avoiding restriction in installing a tubular halogen heater while being longitudinally inclined, instantaneously light the same, reduce electric power by putting off the heater in changing variety, and shorten a time necessary for drying processing.例文帳に追加
管状ハロゲンヒータの長手方向を傾斜して設置する場合の制約を回避して設け、瞬時点灯を可能とし、品種の切り替え時には消灯して電力を低減し、乾燥処理に要する時間を短縮することが可能な基板乾燥方法、基板乾燥装置を提供する。 - 特許庁
The conveyance of the photosensitive materials 27c in a development processing section 19 and a drying section 20 are performed by rotational drive shafts 67a and 67b.例文帳に追加
現像処理部19と乾燥部20とにおける感光材料27cの搬送を回転駆動軸67a,67bにより行う。 - 特許庁
This method for processing shark fins comprises making transglutaminase act on undried peeled shark fins, and drying the shark fins followed by reconstitution with water and heat-treating.例文帳に追加
未乾燥の皮むきしたフカヒレに対してトランスグルタミナーゼを作用させた後、乾燥して水戻しを行い、さらに加熱処理を行う。 - 特許庁
The heat processing is carried out to corners according to the drying effect by superheated steam even when blood, etc., is remained in wastes.例文帳に追加
また、廃棄物に血液などが残留している場合でも、過熱蒸気による乾燥効果のため、隅々まで加熱処理が行なわれる。 - 特許庁
SUBSTRATE DRYING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM EQUIPPED WITH IT, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, ELECTRO-OPTICAL APPARATUS AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
基板乾燥装置、およびこれを備えた基板処理システム、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器 - 特許庁
This substrate processing apparatus comprises an incoming/ departure unit ID, a removing unit 5, an interface IF, and a drying unit 9 which are arranged adjacent to each other in one line.例文帳に追加
搬入搬出部ID、除去処理部5、インターフェイスIF、乾燥処理部9が一列に相互に隣接して並べられている。 - 特許庁
The method for processing kinji-sou comprises a process of heating kinji-sou, and a process of drying the heated kinji-sou under reduced pressure.例文帳に追加
金時草を加熱する工程の後、減圧乾燥工程を行うことを特徴とする金時草の加工方法を提供する。 - 特許庁
To provide an opening and closing tool which can shorten the coating operation time for processing a substrate material for interior finishing on construction and can prevent an adhesive from drying.例文帳に追加
建設内装下地材施工の塗布作業時間の短縮と、接着剤の乾燥を防ぐ開閉する工具を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus or the like excellently performing cleaning and drying a processed substrate while reducing an adverse effect on the processed substrate.例文帳に追加
被処理基板への影響を低減しつつ良好な洗浄、乾燥処理を実行可能な基板処理装置等を提供する。 - 特許庁
Processing methods are roughly divided into steam and dry methods called Ise hoshiki (a traditional steaming method) in which dried algae is rehydrated and then steamed and dried, and boiling and drying methods. 例文帳に追加
加工の方法は、主に伊勢方式と呼ばれる乾燥原藻を水戻しして蒸乾する蒸乾法と、煮乾法に大別される。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Consequently, members such as support pins are not abutted on the lower surface of the substrate 90, and the processing state on the surface of the substrate 90 can be uniformed in the vacuum drying processing.例文帳に追加
このため、基板90の下面に支持ピン等の部材が当接することはなく、減圧乾燥処理時における基板90表面の処理状態を均一化することができる。 - 特許庁
To provide substrate processing apparatus and substrate processing method which can prevent the occurrence of water marks when washing and drying a substrate and can also prevent the falling of a pattern formed on the substrate.例文帳に追加
基板を洗浄、乾燥する際のウォーターマークの発生と当該基板に設けられたパターンの倒れの発生を抑制する基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate processing device, substrate drying method, and substrate processing method, capable of suppressing the atmosphere around a substrate from sucked into the peripheral part of the substrate.例文帳に追加
基板の周囲の雰囲気が当該基板の周縁部に巻き込まれることを抑制することができる基板処理装置、基板乾燥方法および基板処理方法を提供する。 - 特許庁
A control part 51 supplies the drying solvent from one of a first storage tank 11 and a second storage tank 13 to a processing bath 5 to dry-process a substrate W in the processing bath 5.例文帳に追加
制御部51は、第1の貯留タンク11と第2の貯留タンク13の一方だけから処理槽5に乾燥溶剤を供給して、処理槽5にて基板Wを乾燥処理させる。 - 特許庁
The cellulosic fiber (product) processed by the flame retardant processing agent, is obtained by attaching or impregnating 2-30 wt.% flame retardant processing agent based on a cellulosic fiber to the fiber, then heat- treating at 100-250°C, washing with water and drying.例文帳に追加
また、難燃加工処理されたセルロース繊維は、上記難燃加工剤をセルロース繊維に付着及び/又は含浸させ、次いで該セルロース繊維を加熱、水洗することにより製造される。 - 特許庁
To provide a development processing device which allows the sure removal of water drops before drying processing is carried out even when these water drops remain at hangers for hanging down photographic sensitive materials.例文帳に追加
写真感光材料を吊下げるハンガーに水滴が残っている場合でも、乾燥処理が行われる前にこの水滴を確実に除去することの出来る現像処理装置を提供する。 - 特許庁
While the humidity of a processing space 162 exceeds a specified value, that is, while the processing space 162 is not set in a sufficiently low-humidity atmosphere, a drying process is not executed.例文帳に追加
処理空間162の湿度が規定湿度を超えている間、つまり処理空間162が十分に低湿度雰囲気となっていない間においては乾燥処理は実行されない。 - 特許庁
To provide a base plate processing apparatus and a base plate processing method in which gas can be supplied uniformly to a surface of the base plate to be transferred and a positive liquid dripping and drying treatment can be carried out.例文帳に追加
搬送される基板表面に均一に気体を供給でき、的確な液切り乾燥処理を行うことができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a docking type substrate transfer and processing system and a transfer and processing method using it wherein substrate transfer and processing efficiency is improved by connecting a substrate processing line and a cleaning and drying line in a docking manner.例文帳に追加
基板の処理ラインと洗浄及び乾燥ラインとを基板移送部材によってドッキング方式で連結することによって、基板の移送及び処理効率を向上させる、ドッキング型基板移送及び処理システムと、それを利用した移送及び処理方法を提供する。 - 特許庁
This photographic processing device has a development processing section 4, a drying processing section 5 which discharges the photographic paper processed in the development processing section 4 to any discharge port including a discharge port for sorting and a sorter 6 for sorting the photographic paper discharged from the discharge port for sorting.例文帳に追加
現像処理部4と、現像処理部4で処理された印画紙を仕分け用排出口を含むいずれかの排出口から排出する乾燥処理部5と、仕分け用排出口から排出された印画紙を仕分けするソータ6とを備えている。 - 特許庁
To decrease patterning defects by preventing the drying and crystallizing of a processing liquid when separating and removing the processing liquid sticking to a substrate by an air knife and preventing the increase of the concentration of the cyclically used processing liquid by the waste gas of a processing chamber.例文帳に追加
基板に付着した処理液をエアナイフで分離除去する際に処理液が乾燥して結晶化するのを防止するとともに、処理室の排気によって循環使用している処理液の濃度が上昇するのを防止し、パターニング不良を低減する。 - 特許庁
Migration resistance of water is decreased, speed of dehydration or drying is increased, a dehydrate ratio is improved and a processing cost is reduced by adding an ultrasonic action to a dehydrating or drying process of the hydrous granule.例文帳に追加
含水粒状物に脱水又は乾燥工程に超音波作用を付加することにより、水の移動抵抗の低減を図り、脱水又は乾燥の速度を速め、脱水率アップと処理コスト低減を実現する。 - 特許庁
The cleaning device for cleaning the peripheral surface of the pressure cylinder is applied as a means for cleaning the gripper, and the heater for applying the drying processing to the medium is applied as a means for drying the gripper after supplying the cleaning liquid.例文帳に追加
グリッパーを洗浄する手段として圧胴の周面を洗浄する洗浄装置が適用され、洗浄液供給後のグリッパーを乾燥させる手段として媒体に乾燥処理を施すヒータが適用される。 - 特許庁
To provide a substrate drying method and a substrate drying device, eliminating rinse liquid remaining on the surface of a substrate in a short time, thereby contributing to improvement in productivity of substrate processing.例文帳に追加
基板表面に残留しているリンス液を短時間で排除することができ、これにより、基板処理の生産性の向上に寄与することができる基板乾燥方法および基板乾燥装置を提供する。 - 特許庁
The temperature of the heating roller of the post stage is lowered for the easily-drying laundry and the temperature of the heating rollers in a plurality of stages of the post stage is raised in processing the hardly-drying laundry such as two ply sheets.例文帳に追加
乾燥の速い洗濯物については、後段の加熱ローラの温度を低くし、2枚重ねのシーツのような乾きにくい洗濯物を処理するときは、後段の複数段の加熱ローラの温度を高くする。 - 特許庁
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