「form pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, plasma treatment 162 is applied to the surface pattern to form the mold release layer 163.例文帳に追加

そして、これをプラズマ処理１６２することで離型層１６３を形成する。 - 特許庁

To form a coil into a vertical shape while preventing coil pattern error and penetration.例文帳に追加

「コイルパターン飛び」や「しみこみ」を防止しつつ、コイルを垂直な形状に形成する。 - 特許庁

To form the image of a mask pattern accurately on a substrate by slit scan aligning system.例文帳に追加

スリットスキャン露光方式で、マスクのパターンの像を正確に基板上に形成する。 - 特許庁

First, a photomask 3 to be used for exposure is subjected to the correction of the mask pattern form according to the space between adjacent mask patterns and to the mask pattern form.例文帳に追加

まず、露光時に使用されるフォトマスク３が、隣接するマスクパターン間のスペースと前記マスクパターンの形状に応じて、前記マスクパターンの形状を補正する補正方法を行う。 - 特許庁

A pattern of drive waveform is dot-arranged on the drive waveform input form by a symbol.例文帳に追加

駆動波形入力フォーム上に駆動波形のパターンをシンボルにてドット配置する。 - 特許庁

the action of reserving accommodations on a form of transportations from one's own home by use of a character and pattern telephone access information network system 例文帳に追加

キャプテンシステムを使って家庭で乗り物などの座席を予約すること - EDR日英対訳辞書

The layer 13 is etched to form a prescribed wiring pattern 14.例文帳に追加

導電体層１３にエッチングを施して所定の配線パターン１４を形成する。 - 特許庁

To form pattern data suitable for the CP(Character Projection) aperture and an aperture block.例文帳に追加

所有するＣＰアパーチャおよびアパーチャブロックに適したパターンデータの作成を行う。 - 特許庁

To provide a business form processor capable of improving the identifying performance of the business form format even if the image data excluding an overall business form in the business form processor for extracting a ruled line pattern from the image data of a business form having a ruled line, and for identifying a business form format based on the extracted ruled line pattern.例文帳に追加

罫線を有する帳票のイメージデータから罫線パタンを抽出し、抽出した罫線パタンに基づいて帳票形式を識別する帳票処理装置において、帳票の全体が含まれないイメージデータであっても帳票形式の識別性能を向上し得る帳票処理装置を提供する。 - 特許庁

Namely, before and after variation stop (lottery end), the form of only a picture pattern for lottery display is made different, the form of only a picture pattern for decoration is made different or forms of both the picture pattern for lottery display and the picture pattern for decoration are made different.例文帳に追加

すなわち変動停止（抽選終了）の前後で、抽選表示用図柄のみの形態を異ならせたり、装飾用図柄のみの形態を異ならせたり、抽選表示用図柄と装飾用図柄について双方の形態を異ならせる。 - 特許庁

A first nitride-based III group compound semiconductor layer 31 is etched to form islands in a spotty pattern, a stripe pattern, or a lattice pattern to form steps, wherein the bottom parts are so formed as to expose the substrate by removing a part of the substrate.例文帳に追加

第１のIII族窒化物系化合物半導体層３１を点状、ストライプ状又は格子状等の島状態にエッチングして段差を設け、底部は、基板の一部をも削っす露出するよう形成する。 - 特許庁

To provide an image processing technique for suppressing deterioration of a specific form pattern (e.g., bar-code pattern) including digital information, when copying or scanning a printed output object with the specific form pattern printed.例文帳に追加

デジタル情報を含む特定形式パターン（バーコードパターン等）が印刷された印刷出力物をコピーないしスキャンするに際して、当該特定形式パターンの劣化を抑制することが可能な画像処理技術を提供する。 - 特許庁

The control section makes the seam forming means form seams of a pattern on the basis of sewing data of a pattern selected by the control panel.例文帳に追加

制御部は、操作パネルにより選択された模様の縫いデータに基づき、縫目形成手段に模様の縫目を形成させる。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which gives an insulating film having little deformation of a pattern when the composition is thermally cured to form the pattern.例文帳に追加

熱硬化してパターン形成する際にパターンの変形が少ない絶縁膜を与えるポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To form an arbitrary pattern by means of a projection aligner without requiring an expensive reticle in which a pattern can not be modified nor altered.例文帳に追加

高価でパタン修正や変更ができないレチクルを用いなくても、投影露光による任意パタンの形成を可能とする。 - 特許庁

The pattern N1 and sacrifice film G are used as a mask to etch the processing film F to form a pattern F1 on the processing film F (Fig.7(g)).例文帳に追加

パターンＮ１と犠牲膜Ｇをマスクとして被処理膜Ｆをエッチングし、被処理膜ＦにパターンＦ１を形成する（図７（ｇ））。 - 特許庁

The resist film 11 subjected to the pattern exposure is developed to form a resist pattern 15 consisting of the non-exposed part of the resist film 11.例文帳に追加

パターン露光されたレジスト膜１１を現像して、レジスト膜１１の未露光部１１ｂからなるレジストパターン１５を形成する。 - 特許庁

Then, the uppermost layer conductive film 13 is etched using the resist pattern 14 as a mask to form an uppermost layer conductive film pattern 15.例文帳に追加

次に、レジストパターン１４をマスクとして最上層導電膜１３をエッチングし、最上層導電膜パターン１５を形成する。 - 特許庁

A resist pattern 107 formed on the intermediate film 104-1 is used as a mask to form an intermediate film pattern 108.例文帳に追加

その後、中間膜１０４−１上に形成された、レジストパターン１０７をマスクにして、中間膜パターン１０８を形成する。 - 特許庁

The drum 30 is pressed to a molding die 33 having a pattern and rolled all over to form a pattern 34 with contrast of thickness in the polymer resist 32.例文帳に追加

ドラム30を、パターン付き成形型33にプレスし、全体に亘り転がして、高分子レジスト32内に厚さコントラストパターン34を形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a copper wiring pattern, which can easily form the copper wiring pattern having a satisfactory cross-sectional shape.例文帳に追加

良好な断面形状を有する銅配線パターンを容易に形成できる銅配線パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The intermediate film pattern 108 is used as a mask for the dry etching of the processed film 103 to form a processed film pattern 109.例文帳に追加

その後、中間膜パターン１０８をマスクに用い、被加工膜１０３をドライエッチングして、被加工膜パターン１０９を形成する。 - 特許庁

To provide a mask blank which can form a minute mold pattern with high pattern accuracy in manufacturing an imprint mold.例文帳に追加

インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができるマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming of a semiconductor circuit pattern that can form a desired circuit pattern while reducing a throughput.例文帳に追加

スループットを短縮し、所望の回路パターンを形成することが可能な半導体回路パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A pattern illumination source irradiates a surface to be inspected of a board with light from an oblique direction to form an inspection pattern on the surface to be inspected.例文帳に追加

パターン照明源は、基板の被検査面に斜め方向から光を照射して被検査面に検査パターンを形成させる。 - 特許庁

To form an appropriate light distribution pattern in a headlight for a vehicle using an actuator for formation or movement of the light distribution pattern.例文帳に追加

配光パターンの形成または移動にアクチュエータを用いる車両用前照灯において適切な配光パターンを形成する。 - 特許庁

To efficiently form a desired drawing pattern on a substrate while obtaining a pattern with high resolution without decreasing the throughput.例文帳に追加

スループットを下げることなく高解像度のパターン形成を実現しながら、任意の描画パターンを効率よく基板へ形成する。 - 特許庁

A smoothing device 3 smoothes the projection pattern, to form a peak on the projection pattern smoothed to the object.例文帳に追加

平滑化装置３は、対象物に対し平滑化した射影パターン上でピークを生成するよう射影パターンを平滑化する。 - 特許庁

The second substrate 220 has second pins 6 arranged to form a second arrangement pattern different from the first arrangement pattern.例文帳に追加

第２基板２２０は、第１配列パターンとは異なる第２配列パターンを形成するよう配置された第２ピン６を有する。 - 特許庁

To form a fine pattern without using an auxiliary pattern method and a phase shift mask or the like, and to easily inspect the fault of the mask.例文帳に追加

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁

To efficiently form a desired drawing pattern while realizing a pattern with high accuracy without decreasing the throughput.例文帳に追加

スループットを下げることなく高解像度のパターン形成を実現しながら、任意の描画パターンを効率よく基板へ形成する。 - 特許庁

To form an accurate pattern without reducing a data processing speed even in the case of a high-density drawing pattern having a large data amount.例文帳に追加

データ量の多い高密度の描画パターンに対しても、データ処理スピードを落とすことなく高精度のパターンを形成する。 - 特許庁

To sufficiently form a shape of a resist pattern obtained by lithography, especially, a resist pattern obtained by liquid immersion lithography.例文帳に追加

リソグラフィにより得られるレジストパターン、なかでも液浸リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。 - 特許庁

To form a creased pattern meeting a design to a cloth itself and surely prevent the elimination of the creased pattern with time.例文帳に追加

生地自体にデザインに応じた皺模様が得られ、この皺模様の自然消滅を良好に防止することができるようにする。 - 特許庁

To form a light distribution pattern in which switching of the distribution pattern is made possible and which has a clear cut line while achieving downsizing.例文帳に追加

小型化を図った上で配光パターンの切替を可能とすると共に鮮明なカットラインを有する配光パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which can form an edge with an excellent shape and increase the width, and a pattern forming device.例文帳に追加

縁部の形状が良好でかつ、幅広化を実現できるパターンの形成方法及びパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

Then, the resist film 102 subjected to the pattern exposure is developed to form a resist pattern 102a.例文帳に追加

その後、パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して現像を行なって、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 - 特許庁

Next, a circuit pattern and an absorption film other than the area are selectively removed to form a circuit pattern and a light-shielding frame area.例文帳に追加

次に、回路パターンとその領域外の吸収膜を選択的に除去して回路パターンと遮光枠領域を形成する。 - 特許庁

A first mask pattern is formed on the antireflection film 114, the antireflection film 114 is etched to form a second mask pattern.例文帳に追加

反射防止膜１１４上に第１マスクパターンを介在させ、反射防止膜１１４をエッチングして、第２マスクパターンを形成する。 - 特許庁

To form a wiring pattern with a uniform thickness, when forming the wiring pattern of micron order by using a gravure offset printing.例文帳に追加

グラビアオフセット印刷を用いてミクロンオーダの配線パターンを形成するにあたり、均一な厚みの配線パターンを形成可能とする。 - 特許庁

To form a beautiful pattern and prevent the pattern from losing, formed by combining different precious metals.例文帳に追加

異なる貴金属を組み合わせて模様を形成したとき、きれいな模様が形成されるとともに、その模様がとれてしまうことがない。 - 特許庁

In an alignment method, a beam with a first pattern is irradiated to a first target portion of a substrate to form the first pattern on the substrate.例文帳に追加

基板の第１ターゲット部分に第１パターン付きビームを照射して、基板上に第１パターンを形成する工程を含む。 - 特許庁

Wiring having a mask pattern is formed, and an interlayer insulating-film pattern that fills gaps among the wiring is formed, and then the mask pattern is partially etched to form a mask pattern 470 recessed among the interlayer insulating-film pattern, which is made as a groove.例文帳に追加

マスクパターンを有する配線を形成し、この配線間を埋める層間絶縁膜パターンを形成した後、マスクパターンを部分食刻して層間絶縁膜パターン間にリセスされたマスクパターン４７０を形成しグルーブとする。 - 特許庁

The semiconductor element by an embodiment form should contain: a main pattern formed on a substrate; a second dummy pattern formed at one side of the main pattern; and a first dummy pattern formed while surrounding the second dummy pattern.例文帳に追加

実施の形態による半導体素子は、基板上に形成されたメインパターンと、メインパターンの一側に形成された第２ダミーパターンと、第２ダミーパターンを取り囲むように形成された第１ダミーパターンと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a forming method for a minute pattern with a narrowed pattern interval of a resist pattern, which can form a minute pattern formation material surely on a surface of the resist pattern.例文帳に追加

本発明は、レジストパターンのパターン間隔を狭小化させた微細パターンの形成方法に関し、微細パターン形成材料を確実にレジストパターン表面に形成できる微細パターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁