「form pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The ink flows away from the coating caused by difference in surface tension to form the pattern of raised ink between the pattern and the coating.例文帳に追加

インキは、表面張力の差によって被覆から流れ去り、かくして模様と被覆との間にインキの浮出し模様が形成される。 - 特許庁

A first aligner having a reticle, comprising an exposure pattern, is used to form a first pattern on a resist film on a semiconductor substrate (S10).例文帳に追加

露光パターンを有するレチクルを含む第１露光装置を用いて、半導体基板上のレジスト膜に第１パターンを形成する（Ｓ１０）。 - 特許庁

The dielectric film 108 is patterned along the photoresist pattern 110 to form a dielectric film contact hole, and the photoresist pattern is removed.例文帳に追加

フォトレジストパターン１１０に沿って誘電体膜１０８をパターニングして誘電体膜コンタクトホールを形成し、フォトレジストパターンを除去する。 - 特許庁

To provide a spider web pattern coating method which can readily and stably form a three-dimensional spider web pattern on a substrate.例文帳に追加

被塗物上に立体感がある乱糸模様を容易に安定して形成することができる乱糸模様塗装方法を提供する。 - 特許庁

The needle like magnetic substance 15 is aligned and gathered in the striped pattern region to form a magnetic substance striped pattern 13.例文帳に追加

ストライプ状パターン領域内に針状磁性体１５が配向し集合して、磁性体ストライプ状パターン１３が形成されている。 - 特許庁

In a special pattern game performed by the fluctuation of three left, middle and right display patterns, when a pattern apparently forming a big hit is formed after the left pattern and the right pattern are temporarily stopped to form a next-to-win display mode, an image in which the dot matrix pattern of the middle pattern is enlarged and contracted is displayed.例文帳に追加

左、中、右の３つの表示図柄の変動で行われる特図ゲームにおいて、左図柄と右図柄が仮停止してリーチ表示態様となった後、見かけ上、大当たりとなる図柄となったときに、中図柄のドットマトリクスパターンを拡大した画像を表示する。 - 特許庁

In a special pattern game performed by the fluctuation of three left, middle and right display patterns, when a pattern apparently forming a big hit is formed after the left pattern and the right pattern are temporarily stopped to form a next-to-win display mode, an image in which the dot matrix pattern of the middle pattern is enlarged and contracted is displayed.例文帳に追加

左、中、右の３つの表示図柄の変動で行われる特図ゲームにおいて、左図柄と右図柄が仮停止してリーチ表示態様となった後、見かけ上、大当たりとなる図柄となったときに、中図柄のドットマトリクスパターンを拡大・縮小した画像を表示する。 - 特許庁

The mask pattern includes a pattern group having a main pattern 303 that is a light-shielding region in an isolated line form, an assist pattern 301 composed of a plurality of minute phase shifters disposed on one side of the main pattern 303, and an opening region 302 disposed on the other side of the main pattern 301.例文帳に追加

マスクパターンは、孤立線状の遮光領域であるメインパターン３０３と、メインパターン３０３の一側方に配置された複数の微小位相シフターから構成されるアシストパターン３０１と、メインパターン３０１の他側方に配置された開口領域３０２とを有するパターン群を含む。 - 特許庁

To avoid the distortion of a semiconductor element pattern due to flares by sectioning a mask in a test pattern region and a chip pattern region and setting a fine pattern having a line width small enough to form no pattern in exposure on the test pattern region.例文帳に追加

本発明は半導体素子の微細パターン形成方法に関し、さらに詳しくは、マスク開口領域を縮小しフレア効果を減少させることにより、望むパターンを歪みなく転写させ得るようにした半導体素子の微細パターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

The method for forming a pattern includes a first application step S30 for linearly supplying a high-viscosity application liquid to a principal surface of a substrate to form a small-width pattern, and a second application step S50 for linearly supplying a low-viscosity application liquid onto the principal surface of the substrate and the small-width pattern to form a large-width pattern intersecting with the small-width pattern.例文帳に追加

基板の主面に高粘度の塗布液を線状に供給して幅小パターンを形成する第１塗布工程（ステップＳ３０）と、基板の主面および幅小パターン上に低粘度の塗布液を線状に供給して、幅小パターンと交差する幅大パターンを形成する第２塗布工程（ステップＳ５０）とを含む。 - 特許庁

In a pachinko machine which is one of the game machines, a left pattern display train 110 and a right pattern display train 150 stop variation to once form a ready-to-win pattern array '2, X, 2', and a middle pattern display train 130 stops variation to form a miss pattern array '2, 7, 2'.例文帳に追加

遊技機の一つであるパチンコ機において、左図柄表示列１１０および右図柄表示列１５０が変動を停止して一旦リーチ図柄配列「２，↓，２」を形成し、中図柄表示列１３０が変動を停止してはずれ図柄配列「２，７，２」を形成したのち、中図柄表示列１３０の図柄「７」がねじり変動を行う。 - 特許庁

To provide a method for efficiently forming a superfine isolate resist pattern faithful to the mask pattern and having a favorable cross-sectional form so as to form a resist pattern as fine as 0.15 to 0.22 μm by using a KrF excimer laser.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザーを用いて０．１５〜０．２２μｍのような微細なレジストパターンを形成するための、マスクパターンに忠実で、断面形状の良好な超微細アイソレートレジストパターンを効率よく形成させる方法を提供する。 - 特許庁

In the case of joining the split patterns to form the original pattern, alignment information obtained at aligning of any split pattern is used for alignment of a mask to form at least two split patterns of the layer including the split pattern.例文帳に追加

分割パターンをつなぎ合わせて形成する際、いずれか１つの分割パターンのアライメントで得られたアライメント情報をマスクの位置合わせに用いて、その分割パターンを含む層の少なくとも２つの分割パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of preventing pattern form deterioration of a copper thick film caused by variation in a resist pattern form in a Lithographie Galvanoformung Abformung-like process using a thick film resist layer formed by laminating light-sensitive films.例文帳に追加

感光性フィルムを積層して形成した厚膜レジスト層を用いたＬＩＧＡライクプロセスで、レジストパターン形状の変化に起因する銅厚膜パターンの形状劣化を防止することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To decrease nonuniformity of an irradiation range or intensity distribution of light in projection exposure using a graded index lens array, to form a pattern having a uniform line width of the pattern or a smooth side wall, and to form a finer pattern.例文帳に追加

分布屈折率レンズアレイを用いた投影露光において、照射範囲や光強度分布の不均一性を低減し、パターンの線幅の均一化や側壁がスムーズなパターンの形成を可能とし、より微細なパターンをも形成可能にする。 - 特許庁

To provide a lighting system which is configured to reduced the cost and size, and which can form an illumination pattern in a form of an N-gon frame with high accuracy.例文帳に追加

低コスト、小型可能で、Ｎ角形の枠状の照射パターンを高精度に形成することが可能な照明装置を提供する。 - 特許庁

When the forming pattern on the upper surface of the form plate material 4 is damaged by the repetition of the forming, only the form plate material 4 is changed.例文帳に追加

成形の繰り返しによって版材４の上面の成形パターンに損傷が生じた場合には、版材４のみを交換する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR MEASURING AND EVALUATING FORM OF MASK PATTERN AND RECORDING MEDIUM RECORDING FORM MEASURING AND EVALUATING PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン形状計測評価装置および形状計測評価方法並びに形状計測評価プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

(stage G.) Then the cholesteric liquid crystal layer 16 is heated up to a temperature different from the temperature at the time of forming the first pattern and exposed to the active light beam at this temperature using a pattern different from the pattern at the time of forming the first pattern to form a second pattern.例文帳に追加

(工程Ｇ） 次にコレステリック液晶層１６に対して、第一のパターン形成時と異なる温度で加熱し、この温度条件下で活性光線を第一のパターン形成時と異なるパターンで露光して第二のパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a marking pattern suppressing blurring of an outline of the marking pattern caused by splash of a functional liquid arranged to form the marking pattern to the outside of a section forming a main pattern body, and to provide a marking pattern.例文帳に追加

マーキングパターンを形成するために配置された機能液が主パターン体を形成する区画外に濡れ広がることに起因して、輪郭部がぼやけることを抑制することができるマーキングパターンの形成方法、及びマーキングパターンを提供する。 - 特許庁

To form a mask pattern of high dimensional precision by preventing the change of width of a mask pattern line after plasma dry etching to a resist pattern turning to an etching mask, in a forming method of a mask pattern for an EUV lithography.例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用のマスクパターン形成方法において、エッチング・マスクとなるレジストパターンに対するプラズマ・ドライエッチング後のマスクパターン線幅変動を防止し、高寸法精度なマスクパターンを形成することを目的とする。 - 特許庁

The image forming apparatus includes a pattern image forming means configured to form a pattern image for image correction on the respective image carriers 1Y, 1C, 1M and 1Bk, and a pattern image detection means 32 configured to detect the pattern image on the conveyance body 14.例文帳に追加

当該画像形成装置は、各像担持体１Ｙ，１Ｃ，１Ｍ，１Ｂｋ上に画像補正用のパターン像を形成するパターン像形成手段と、搬送体１４上でパターン像を検知するパターン像検知手段３２とを備える。 - 特許庁

To form an image of a tracking pattern for tracking an image formation source on a paper sheet and to prevent a pattern from being conspicuous, the pattern being generated by tracking pattern dots in a side face of a bundle of image-formed paper sheets.例文帳に追加

画像形成元を追跡するための追跡パターンを用紙に画像形成するとともに、その画像形成された用紙束の側面に追跡パターンドットによって発生する模様を目立たなくすることである。 - 特許庁

An overlapping width C between an electrode printing pattern 51 designed to form an internal electrode pattern layer 12a by a printing method and a margin printing pattern 61 designed to form a margin pattern layer 24 by a printing method is set to be 5 μm or more and 200 μm or less.例文帳に追加

内部電極パターン層１２ａを印刷法により形成するために設計された電極印刷パターン５１と、余白パターン層２４を印刷法により形成するために設計された余白印刷パターン６１との重なり幅Ｃを５μｍ以上２００μｍ未満とする。 - 特許庁

To mainly provide a coating liquid for forming a wettability pattern which can be used for manufacturing a pattern form and which does not elute metal or the like, and a method for manufacturing the pattern form using the coating liquid for forming the wettability pattern.例文帳に追加

本発明においては、パターン形成体の製造に用いることが可能な金属等を溶出させること等のない濡れ性パターン形成用塗工液、およびその濡れ性パターン形成用塗工液を用いたパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes (A) a process of disposing a liquid material containing a resist material and a pigment on a ground product to form a material pattern on the ground product, and (B) a process of drying the material pattern to form the resist pattern.例文帳に追加

レジストパターン形成方法が、レジスト材料と色素とを含有した液状材料を下地物体上に配置して、前記下地物体上に材料パターンを形成する工程（Ａ）と、前記材料パターンを乾燥してレジストパターンを形成する工程（Ｂ）と、を包含している。 - 特許庁

When text data 1 is input, a form evaluation unit 4 evaluates a degree of matching with a layout pattern to be developed from form files registered in a form database 2, selects a form with the highest degree of matching, and synthesizes the text data 1 to the form.例文帳に追加

フォーム評価部４は、テキストデータ１が入力されると、フォームデータベース２に登録されているフォームファイルから展開されるレイアウトパターンとのマッチング度を評価し、マッチング度の一番大きなフォームを選択して、テキストデータ１のフォーム合成を行う。 - 特許庁

To form a wiring pattern having a desired line width without measuring a film thickness distribution of a resist.例文帳に追加

レジストの膜厚分布を測定することなく、所望の線幅の配線パターンを形成する。 - 特許庁

To make it possible to suppress the manufacturing cost and form a highly accurate pattern, when manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置を製造する際に、製造コストを抑えつつ、高精度なパターンを形成すること。 - 特許庁

To accurately detect a focal position by a simple configuration and to form a pattern of high accuracy.例文帳に追加

簡易な構成によって正確に焦点位置を検出し、高精度のパターンを形成する。 - 特許庁

To easily form a micro metallic pattern at a low cost and in high accuracy while reducing an excessive material.例文帳に追加

材料の無駄を少なくし、微細な金属パターンを精度良く、安価で簡単に形成する。 - 特許庁

Metal ink is applied on a surface 12 on which a metal layer is to be formed to form and pattern a metal particle layer.例文帳に追加

被形成面１２に、金属インクを塗布し金属粒子層を形成しパターニングする。 - 特許庁

To form a wiring pattern utilizable for evaluating connection reliability of various types of semiconductor devices.例文帳に追加

多種類の半導体素子の接続信頼性評価に利用できる配線パターンを形成する。 - 特許庁

To form a fine pattern with a high dimensional accuracy by a thick film required to be formed at high temperature.例文帳に追加

高温での成膜が必要な厚い膜で、寸法精度良く微細なパターンを形成する。 - 特許庁

An image forming means is configured to form an image pattern on an image carrier at a first image forming speed.例文帳に追加

画像形成手段は第１画像形成速度により像担持体に画像パターンを形成する。 - 特許庁

To form a pattern on a substrate regularly and uniformly as much as possible in spacer lithographic processing.例文帳に追加

スペーサリソグラフィ処理において基板に形成されるパターンをできるだけ規則的かつ均一にする。 - 特許庁

To form a fine pattern in wet etching.例文帳に追加

ウェットエッチングにおいて微細なパターンを形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The projection optical system is constituted to form the pattern image of a first object (R) on a second object (W).例文帳に追加

第１物体（Ｒ）のパターン像を第２物体（Ｗ）上に形成する投影光学系。 - 特許庁

Then, on the mounting-side face of the molding resin 2, a metal film 3 is formed to form a pattern wiring.例文帳に追加

モールド樹脂２の実装側面に金属膜３を形成して、パターン配線を形成する。 - 特許庁

To form a variable color distribution pattern including a gradation on a predetermined viewing plane by light emission.例文帳に追加

所定の観察面にグラデーションを含む可変の色分布パターンを発光により形成する。 - 特許庁

To record and form an accurate and fine servo pattern on a tape recording medium.例文帳に追加

テープ状記録媒体に対して正確かつ精細なサーボパターンを記録形成できるようにする。 - 特許庁

To form a wiring pattern and a resist layer thinly on the surface of a board.例文帳に追加

本発明は配線パターン及び基板の表面にレジスト層を薄く形成することを課題とする。 - 特許庁

On the surface of the ball 1, a pattern of fine dots in a color different form the base color is formed.例文帳に追加

ボール１の表面に、その地の色と異なる色の微小な斑点の模様が形成される。 - 特許庁

The process (2) is to etch the copper foil 2 adhered by the process (1) to form a predetermined mesh pattern 20.例文帳に追加

（２）工程（１）で貼り合わせた銅箔２をエッチングして所定のメッシュパターン２０を形成する。 - 特許庁

To form a fine pattern having excellent etching resistance with high mass productivity by an imprinting method.例文帳に追加

インプリント法により、エッチング耐性に優れた高精細なパターンを量産性良く形成する。 - 特許庁