「interlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

SILOXANE-BASED RESIN AND METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR INTERLAYER INSULATING FILM BY USING THE SAME例文帳に追加

シロキサン系樹脂およびこれを用いた半導体層間絶縁膜の形成方法 - 特許庁

After the formation of an interlayer insulation film 6, the interlayer insulation film 8 is etched by reactive ion etching with a resist pattern 8 as a mask so as to form the connection hole (Figure 1 (a)).例文帳に追加

層間絶縁膜６の形成後、接続孔を形成すべくレジストパターン８をマスクとして、反応性イオンエッチングにより層間絶縁膜８のエッチングを行なう（図１（ａ））。 - 特許庁

Thereafter, a first layer interconnect line 51 is formed on the first interlayer insulating film 20 excepting beneath the ferroelectric capacitor 40 and followed by formation of a second interlayer insulating film 70.例文帳に追加

次に、この強誘電体キャパシタ４０下以外の第１層間絶縁膜２０上に１層目配線５１を形成し、その後、第２層間絶縁膜７０を形成する。 - 特許庁

Moreover, both interlayer bonding reliability and interlayer connection reliability can be improved by containing an epoxy resin as a constituent element of the bonding layer.例文帳に追加

またエポキシ樹脂を接着層の構成成分として、さらに含有させることで、層間接着信頼性と層間接続信頼性をより向上させることができる。 - 特許庁

A second interlayer insulation layer 7, the pixel electrodes 9a and an alignment layer 16 are flatly formed compatibly with the upper surface of the first interlayer insulation layer 4 and no alignment defect is generated.例文帳に追加

第２層間絶縁膜（７）、画素電極（９ａ）、配向膜（１６）は、第１層間絶縁膜（４）上と整合的に平坦に形成され、配向不良が生じることはない。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition utilizable as the interlayer dielectric of a multilayer wiring board.例文帳に追加

多層配線板の層間絶縁膜として利用可能な感光性樹脂組成物。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PROVIDING INTERLAYER CONNECTION AND CONNECTOR MOUNT IN MULTILAYER CIRCUIT BOARD例文帳に追加

多層回路基板における層間接合及びコネクタマウントのための方法と装置 - 特許庁

To provide an optical head device suppressing interlayer crosstalk in a multilayer optical disk.例文帳に追加

多層光ディスクにおける層間クロストークを抑えた光ヘッド装置を提供する。 - 特許庁

To provide an interlayer insulation diagnosis technique capable of discriminating between partial discharge in an interlayer insulation and partial discharge in an insulation to the ground, and diagnosing an insulation state.例文帳に追加

層間絶縁での部分放電と対地絶縁での部分放電とを区別して絶縁状態を診断することができる層間絶縁診断技術を提供することにある。 - 特許庁

On the second etching stopper film 9, an interlayer insulating film 10 configured with the silicon oxide film is formed, and on the interlayer insulating film 10, a resist pattern 50 is formed.例文帳に追加

第２のエッチングストッパー膜９上に、シリコン酸化膜から構成される層間絶縁膜１０を形成し、層間絶縁膜１０上に、レジストパターン５０を形成する。 - 特許庁

The phase change storage cell comprises an interlayer insulating film formed on a semiconductor substrate and a first electrode and a second electrode provided in the interlayer insulating film.例文帳に追加

相変化記憶セルは、半導体基板上に形成された層間絶縁膜及び前記層間絶縁膜内に提供された第１電極及び第２電極を具備する。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring board which is ensured of interlayer connection and high in reliability.例文帳に追加

確実に層間接続でき、且つ信頼性の高い多層配線板を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR INTERLAYER INSULATING FILM USING MOLECULAR POLYHEDRAL SILSESQUIOXANE例文帳に追加

分子多面体型シルセスキオキサンを用いた半導体層間絶縁膜の形成方法 - 特許庁

In the first interlayer 105, the second interlayer 106 and the light-emitting layer 107, composition ratio of In is the same mutually, and composition ratio of Sb is increased by the above order.例文帳に追加

第１中間層１０５、第２中間層１０６および発光層１０７は、Ｉｎの組成比が互いに同じである一方、Ｓｂの組成比が、この順に増大する。 - 特許庁

An interlayer insulating film 10 consisting of an organic resin film is deposited and the unnecessary segments of the interlayer insulating film 10, such as drain contact holes 12, are removed by using a photolithographic technique.例文帳に追加

有機樹脂膜からなる層間絶縁膜１０を成膜し、フォトリソグラフィ技術を用いてドレインコンタクトホール１２等の層間絶縁膜１０の不要部分を削除する。 - 特許庁

An interlayer insulating film is arranged on the element isolation insulating film and the silicide film.例文帳に追加

素子分離絶縁膜上とシリサイド膜上とには、層間絶縁膜が配設される。 - 特許庁

In the process of forming the interlayer insulating film, the interlayer insulating film is formed under the condition that the content of water be set at 5×10^-3g/cm^3 or lower.例文帳に追加

層間絶縁膜を形成する工程において、水分の含有量が５×１０^−３ｇ／ｃｍ^３以下になる条件で層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁

To tightly make an interlayer insulation film stick to a substrate by STP method, without exfliating the insulation film.例文帳に追加

基板に層間絶縁膜を剥離させずにＳＴＰ法により密着させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device wherein an interlayer insulating film has a Cu diffusion barrier property.例文帳に追加

層間絶縁膜にＣｕ拡散バリア性を備える半導体装置を提供する。 - 特許庁

The insulating functional fluid is cured, an interlayer dielectric 14 is formed, and an upper layer wiring layer 18 conducting to the conductive post 20 is formed on the insulating film between the interlayer dielectric 14.例文帳に追加

絶縁性機能液を硬化させ、層間絶縁膜１４を形成し、層間絶縁膜１４上に導通ポスト２０に導通する上層配線層１８を形成する。 - 特許庁

Further, an interlayer insulating film 33 of SiO_2 is formed to cover the entire surface.例文帳に追加

さらに、全面を覆ってＳｉＯ_2からなる層間絶縁膜３３が形成される。 - 特許庁

A glass substrate has about one- thousandth the capacitance of an interlayer insulation film.例文帳に追加

硝子基板の容量は層間絶縁膜の容量のおおよそ１／１０００である。 - 特許庁

The semiconductor device 100 includes: a first interlayer insulating film 3; the lower-layer wiring 7 formed on the first interlayer insulating film 3; a second interlayer insulating film 8 formed on the lower-layer wiring 7; and the upper-layer wiring 13 that is formed on the second interlayer insulating film 8 and crosses a prescribed portion 71 in the lower-layer wiring 7 in a plan view.例文帳に追加

半導体装置１００は、第１層間絶縁膜３と、第１層間絶縁膜３上に形成された下層配線７、下層配線７上に形成された第２層間絶縁膜８と、第２層間絶縁膜８上に形成され、平面視で下層配線７の所定部分７１と交差する上層配線１３とを含む。 - 特許庁

To provide an embossing roll by which an interlayer in which during storing an interlayer for a safety glass, blocking of the interlayers is prevented from being generated and handling workability while glass sheets and the interlayer are laminated is good and deaerating properties is good during laminating them can be manufactured and a method for manufacturing it and the interlayer for the safety glass obtained by using this.例文帳に追加

合わせガラス用中間膜の保管中に膜同士のブロッキング発生が防止され、ガラス板と中間膜とを重ね合わせる際の取扱い作業性がよく、これらを貼り合わせ加工時の脱気性のよい中間膜を製造することができるエンボスロール及びその製造方法、並びにこれを用いて得られる合わせガラス用中間膜を提供する。 - 特許庁

Since each wiring layer 83 is provided between a second interlayer insulating film 84 and a first interlayer insulating film 82, the portion on each wiring layer 83 rises in a ridge structure and the portion (sections between each of wiring layers 83) on the first interlayer insulating film 82 is recessed in a furrow structure on the surface of the second interlayer insulating film 84.例文帳に追加

第２層間絶縁膜８４と第１層間絶縁膜８２との間には各配線層８３が設けられているため、第２層間絶縁膜８４表面において、各配線層８３上の部分は畝状に盛り上がり、第１層間絶縁膜８２上の部分（各配線層８３間の部分）は畝合い状に窪んでいる。 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, INTERLAYER INSULATING FILM FOR DISPLAY ELEMENT, AND METHOD FOR FORMING THE FILM例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法 - 特許庁

After forming a lower electrode, an interlayer insulation film is deposited and a via hole is bored.例文帳に追加

次に下部電極を形成後、層間絶縁膜を堆積してヴィアホールを形成する。 - 特許庁

A contact hole 122 and an embedded recessed part 122A are formed at the interlayer insulating film 120.例文帳に追加

この層間絶縁膜１２０にコンタクト孔１２２及び埋設凹部１２２Ａを形成する。 - 特許庁

A first interlayer dielectric is formed on a pair of dopant regions functioning as a source region or a drain region of a semiconductor film formed on an insulating substrate, and the first interlayer dielectric and a second interlayer dielectric are formed on the gate electrode.例文帳に追加

絶縁基板上に形成された半導体膜の、ソース領域またはドレイン領域として機能する一対の不純物領域上に、第１の層間絶縁膜を形成し、ゲート電極上に第１の層間絶縁膜及び第２の層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁

On a ground board, a first interlayer insulating film consisting of an insulation material is formed.例文帳に追加

下地基板の上に、絶縁材料からなる第１の層間絶縁膜が形成されている。 - 特許庁

The slurry solution is solidified to form a treatment layer (62) on the surface of the interlayer (61).例文帳に追加

このスラリー液を固化することで、中間層（61）の表面に処理層（62）が形成される。 - 特許庁

A second conductive layer 7 is disposed on the second conductive interlayer insulating film 6.例文帳に追加

第二導電層７が第二の導電層間絶縁膜６上に配置されている。 - 特許庁

A stacked structure of interlayer insulating films 105 to 109 are formed on a substrate 101.例文帳に追加

基板１０１上に層間絶縁膜１０５〜１０９の積層構造が形成されている。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD, AND PLATING APPARATUS FOR INTERLAYER CONTACT HOLE OF PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

プリント配線板の製造方法およびプリント配線板の層間接続穴用メッキ装置 - 特許庁

To provide a screen plate for forming an interlayer insulation film which has fine openings.例文帳に追加

微細な開口を有する層間絶縁膜を形成するためのスクリーン版を提供する。 - 特許庁

A metal wiring 17 (171 and 172) is formed on an interlayer insulating film 14.例文帳に追加

層間絶縁膜１４上には金属配線１７（１７１，１７２）が形成されている。 - 特許庁

A plurality of layers of the interlayer insulating films 7 are laminated and formed on a semiconductor substrate 1.例文帳に追加

半導体基板１上に複数層の層間絶縁膜７が積層形成されている。 - 特許庁

The composition is suitable for forming an interlayer insulation film or a microlens.例文帳に追加

層間絶縁膜およびマイクロレンズは、上記感放射線性樹脂組成物より形成される。 - 特許庁

The projecting and recessing part is formed on the surface of the interlayer insulating film 12 by exposing the film 12.例文帳に追加

その層間絶縁膜１２を露光することにより表面に凹凸部を形成する。 - 特許庁

After the cap layer 4 is removed and the upper surfaces of the dummy gate electrode 3 and the interlayer dielectric 9 are aligned, polishing rate of the interlayer dielectric 9 lowers extremely due to pressure dependency of the ceria based slurry and thereby polishing of the interlayer dielectric 9 is suppressed.例文帳に追加

また、キャップ層４が除去されて、ダミーゲート電極３と層間絶縁膜９の上面位置が一致した後には、セリア系スラリーの圧力依存性により、層間絶縁膜９の研磨レートは極端に遅くなるため、層間絶縁膜９の研磨が抑制される。 - 特許庁

An etching rejection film 20 and an interlayer insulation film 21 are formed in this sequence on the entire part.例文帳に追加

エッチング阻止膜２０及び層間絶縁膜２１をこの順で全面に形成する。 - 特許庁

Underlying layer metal wiring 21 is formed and an interlayer film 12 is formed as shown in Fig.1(a).例文帳に追加

図１（ａ）に示すように、下地メタル配線２１を形成し、層間膜１２を成膜する。 - 特許庁

INTERLAYER ROLLED BODY FOR LAMINATED GLASS AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

合わせガラス用中間膜ロール体及び合わせガラス用中間膜ロール体の製造方法 - 特許庁

The adhesion between the metal wiring and the interlayer film is enhanced by inserting a first insulating film 10 between the lower layer metal film 2 and the organic interlayer film 4 and a second insulating film 14 between the upper layer metal wiring 7 and the organic interlayer film 4.例文帳に追加

下層金属配線２と有機層間膜４との間に第１の絶縁膜１０を介在させ、上層金属配線７と有機層間膜４との間には第２の絶縁膜１４を介在させて金属配線と層間膜との間の密着性を高める。 - 特許庁

The interlayer insulation film in the fuse region is removed by etching and the stopper film is exposed.例文帳に追加

ヒューズ領域の層間絶縁膜をエッチングにより除去して、ストッパ膜を露出する。 - 特許庁