「low-K」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

NEW LOW VITAMIN K-PRODUCING NATTO (FERMENTED SOYBEAN) BACILLUS例文帳に追加

ビタミンＫ低生産性新規納豆菌 - 特許庁

The IPD film is a Low-k film.例文帳に追加

ＩＰＤ膜は、Ｌｏｗ−ｋ膜である。 - 特許庁

ULTRAVIOLET CURING METHOD FOR LOW k DIELECTRIC FILM例文帳に追加

低ｋ誘電体膜用の紫外線硬化法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING DIELECTRIC FILM OF LOW-k VALUE例文帳に追加

低いｋ値の誘電体膜の形成方法 - 特許庁

To suppress the occurrence of low-k void in a low dielectric constant insulating film when using the low dielectric constant insulating film as an interlayer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜として、低誘電率絶縁膜を用いる場合に、低誘電率絶縁膜に、Low-kボイドが発生するのを抑える。 - 特許庁

THROUGH-SILICON VIA WITH LOW-K DIELECTRIC LINER例文帳に追加

低ｋ誘電体ライナーを有するシリコン貫通ビア - 特許庁

To provide slurry capable of achieving the modular removal of a barrier for an ultra low-k insulating material without increasing the removal speed of copper and further of removing a barrier while controlling the erosion of the low-k insulating material.例文帳に追加

銅の除去速度を上げることなく超low-k絶縁材に対するバリヤのモジュラー除去を達成することができ、さらには、low-k絶縁材エロージョンを制御しながらバリヤを除去することができるスラリーを提供する。 - 特許庁

INTEGRATED LOW-K DIELECTRIC AND ETCHING STOP LAYER例文帳に追加

集積した低Ｋ誘電体層とエッチング停止層 - 特許庁

A Low-k film is deteriorated by O radicals producing in a chamber 102 and the dielectric constant (k value) of the Low-k film increases as a result.例文帳に追加

チャンバ１０２内に発生するＯラジカルは，Ｌｏｗ−ｋ膜を変質させ，Ｌｏｗ−ｋ膜の誘電率（ｋ値）を上昇させてしまう。 - 特許庁

To improve the reliability of porous Low-k film.例文帳に追加

ポーラスＬｏｗ−ｋ膜の信頼性を向上させる。 - 特許庁

DOUBLE HARD MASK METHOD FOR FORMING COPPER/LOW-k WIRING例文帳に追加

銅／低ｋ配線を形成するための二重ハードマスク法 - 特許庁

Wiring of copper is formed in the Low-k film.例文帳に追加

Ｌｏｗ−ｋ膜中に銅の配線が形成される。 - 特許庁

Mr. K recaptured the title of Grand Master of Shogi from Mr. T, after two years of lying low awaiting his chance.例文帳に追加

K 氏はいったん奪われた将棋の名人位を雌伏 2 年で T 氏から奪回した. - 研究社 新和英中辞典

When the number of steps of the step waveform for deciding the high order digital value is set as K, and the number of comparison frequencies for the low order values as L, a digital value with (K×2^L) gradations can be obtained by voltage comparisons for (K+L) times so that the AD converter with a high resolution at low noise can be obtained.例文帳に追加

上位のディジタル値を決定する際の階段波形をK段、下位の比較回数をL回とすると、(K×2^L)諧調のディジタル値を(K+L)回の電圧比較で得ることができ、低雑音で高分解能のＡＤ変換器が実現できる。 - 特許庁

A via is formed in a porous low k dielectric layer.例文帳に追加

多孔質低ｋ誘電体層内に、ビアが形成される。 - 特許庁

To suppress the occurrence of stress migration even when a Cu wiring is formed on a weak Low-k film.例文帳に追加

強度の弱い、Low-k膜に、Ｃｕ配線を形成する場合にも、ストレスマイグレーションの発生を抑えることができるようにする。 - 特許庁

LOW VITAMIN K-CONTENT NATTO, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, LOW VITAMIN K-PRODUCING BACILLUS NATTO, AND METHOD FOR SELECTING THE SAME例文帳に追加

ビタミンＫ低含有納豆及びその製造方法並びにビタミンＫ低生産性納豆菌及びその選抜方法 - 特許庁

A low-pass signal z_0(k) out of signals y(k) input via a microphone 92 is selected, and a low-pass signal z_0(k') downsampled from the low-pass signal z_0(k) is designated as a processing target of an adaptive filter 22.例文帳に追加

マイクロホン９２を介して入力される信号ｙ（ｋ）のうち低域信号ｚ_0（ｋ）を選択し、この低域信号ｚ_0（ｋ）をダウンサンプリングした低域信号ｚ_0（ｋ’）を適応フィルタ２２の処理対象とする。 - 特許庁

METHOD OF MINIMIZING WET ETCH UNDERCUTS AND CARRYING OUT PORE-SEALING TO SUPER-LOW K (K<2.5) DIELECTRICS例文帳に追加

ウェットエッチングアンダカットを最小にし且つ超低Ｋ（Ｋ＜２．５）誘電体をポアシーリングする方法 - 特許庁

Ti LINER FOR COPPER INTERCONNECT WITH LOW-K DIELECTRIC例文帳に追加

ｌｏｗ−ｋ誘電体による銅相互接続用Ｔｉライナ - 特許庁

STRUCTURE AND METHOD FOR SEPARATING POROUS LOW k DIELECTRIC FILM例文帳に追加

多孔質低ｋ誘電体膜を分離する構造および方法 - 特許庁

To provide a method of preparing an interlaminar insulation film to form a low-k film, without giving thermal and chemical damage to LSI bodies.例文帳に追加

LSI本体に熱的及び化学的ダメージを与えずに、low-k膜を形成するための層間絶縁膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment condition for achieving precise etching with a high selection ratio without generating any film damage in a low-permittivity film (Low-k film, such as SiOCH).例文帳に追加

低誘電率膜(Low-k膜、例えばSiOCH)において、膜ダメージを発生せず、高選択比で高精度なエッチングを実現可能な処理条件を提供する。 - 特許庁

The contact structures are formed in the low dielectric constant material layer (low-k materials) using the dual damascene process, which provides the method of forming contact structures effectively.例文帳に追加

これよって、効果的なコンタクト構造形成方法を提供するデュアルダマシン工程を利用し、低誘電率物質層(low-k materials)内にコンタクト構造を形成する。 - 特許庁

To provide processing conditions under which a low-dielectric-constant film (Low-k film, e.g. SiOCH) can be etched at a high selection ratio with high precision without being damaged.例文帳に追加

低誘電率膜(Low-k膜、例えばSiOCH)において、膜ダメージを発生せず、高選択比で高精度なエッチングを実現可能な処理条件を提供する。 - 特許庁

To obtain an aqueous solution which is useful for selective removal in the presence of a low-k insulation material.例文帳に追加

low−ｋ絶縁材の存在下における選択的除去に有用な水溶液を得る。 - 特許庁

The shape certainties K (i, j and k) of the candidate characters L (i, j and k) which are extremely low in possibility of being recognized as characters are set to be 0.例文帳に追加

又、文字として認められる可能性が極めて低い候補文字Ｌ（ｉ、ｊ、ｋ）の形状確信度Ｋ（ｉ、ｊ、ｋ）を、０とする。 - 特許庁

METHOD AND STRUCTURE FOR HIGH-K AND LOW-K EMBEDDED OXIDE FOR SILICON-ON-INSULATOR(SOI) TECHNOLOGY例文帳に追加

シリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）技術の高Ｋおよび低Ｋ埋込酸化物のための方法および構造 - 特許庁

Processes for forming porous low-k dielectric materials from low-k dielectric films containing a porogen material include exposing the low-k dielectric film to ultraviolet radiation.例文帳に追加

ポロゲン材料を包含する低ｋの誘電体フィルムから多孔性の低ｋの誘電体材料を形成するプロセスが、紫外線照射へ低ｋの誘電体フィルムを露光することを含んでいる。 - 特許庁

The Low-k film 12 is a SiOC film or NCS film.例文帳に追加

Ｌｏｗ−ｋ膜１２はＳｉＯＣ膜、又はＮＣＳ膜である。 - 特許庁

Spin-on- glass material, carbonate, silk or other materials of low K can be used as the above material of low K.例文帳に追加

Ｋの低い材料は、スピンオンガラス材料であっても、カーボネードであっても、絹であっても、その他同様のＫの低い材料であってもよい。 - 特許庁

METHOD FOR SEALING VIA SIDEWALL OF POROUS LOW k DIELECTRIC LAYER例文帳に追加

多孔質の低ｋ誘電体層のブァイア側壁を封止する方法 - 特許庁

The via hole may be configured to promote adhesion of a dielectric coating containing a low dielectric constant (low K) dielectric material on the surface.例文帳に追加

ビアホールは、その表面に低誘電率（低K）誘電材料を含む誘電体コーティングの付着を促進するように構成されてもよい。 - 特許庁

METHOD TO OBTAIN LOW K DIELECTRIC BARRIER WITH SUPERIOR ETCHING RESISTIVITY例文帳に追加

優勢エッチング抵抗性を具備する低Ｋ誘電バリアを得る方法 - 特許庁

Next, the wafer and the first low-k film are covered with a first protective film having a gas transmissivity lower than the first low-k film.例文帳に追加

次に、第１のＬｏｗ−ｋ膜よりもガス透過率の低い第１保護膜で、ウエハおよび第１のＬｏｗ−ｋ膜を覆う。 - 特許庁

When a vehicle speed VSP is low, the motor torque response is made a low response by making a torque response determination coefficient K small, and the motor torque response is made a high response by making the torque response determination coefficient K larger as the vehicle speed VSP becomes higher.例文帳に追加

車速VSPが低いときはトルク応答決定係数Kを小さくしてモータトルク応答を低応答にし、車速VSPが高くなるにつれトルク応答決定係数Kを大きくしてモータトルク応答を高応答にする。 - 特許庁

A low-k film 9 is formed on an interlayer insulating film 5.例文帳に追加

層間絶縁膜５上にＬｏｗ−ｋ膜９が形成される。 - 特許庁

The region that each echo occupies in the k space includes a low-frequency region of the k space, and the sum of the regions covers an overall k space region.例文帳に追加

この際、各エコーがｋ空間を埋める領域は、ｋ空間の低周波領域を含み、且つ各領域の和がｋ空間全領域をカバーするようにする。 - 特許庁

If a low-dielectric-constant (low-k) film is damaged during plasma processing, one of the reaction products is water, which is left adsorbed on the low-dielectric-constant film (into pores), if the temperature is lower than 100-150°C.例文帳に追加

プラズマ処理の際、低誘電率(low-k)膜が損傷した場合、反応生成物の１つは水であり、温度が１００〜１５０℃より低ければ、低誘電率膜（孔内）に吸収されたままである。 - 特許庁

To provide mesoporous silica particles imparting both greater strength to a molded article as well as low reflectance (Low-n), low dielectric constant (Low-k), low thermal conductivity, and other functions.例文帳に追加

低反射率（Ｌｏｗ−ｎ）や低誘電率（Ｌｏｗ−ｋ)、低熱伝導率などの機能と、成型物の高強度化とを両立するメソポーラスシリカ微粒子を提供する。 - 特許庁

Finally, a second low-k film is formed on the first protective film, and the edge of the second low-k film is cut at the first edge cut position.例文帳に追加

最後に、第１保護膜上に第２のＬｏｗ−ｋ膜を形成し、第２のＬｏｗ−ｋ膜のエッジを前記第１のエッジカット位置でカットする。 - 特許庁

To form pores in a low-k film by a simple method when the low-k film is formed on a substrate by a coating method.例文帳に追加

基板上にシリコンを含む低誘電率膜を塗布法により形成するにあたり、簡便な方法により低誘電率膜中に気孔を形成すること。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR TREATING LOW K DIELECTRIC LAYER TO REDUCE DIFFUSION例文帳に追加

低Ｋ誘電層を処理して拡散を減少させる方法および装置 - 特許庁

The Low-k film II2 is etched using the hard mask layer HM as a mask to form a groove TR for wiring layer on the Low-k film II2.例文帳に追加

ハードマスク層ＨＭをマスクとしてＬｏｗ−ｋ膜ＩＩ２にエッチングが施されてＬｏｗ−ｋ膜ＩＩ２に配線用溝ＴＲが形成される。 - 特許庁

LIQUID AND METHOD OF REMOVING RESIDUAL POLYMER AND RESIST OF LOW-K FILM例文帳に追加

Ｌｏｗ−ｋ膜残渣ポリマー及びレジストの除去液及び除去方法 - 特許庁