「micro etching」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

an act of taking off the part without protection of the micro chips by plasma gus called plasma etching 例文帳に追加

プラズマガスで半導体基板の保護膜のない部分を削り落とすこと - EDR日英対訳辞書

To manufacture a microstructure and a micro machine without etching a sacrifice layer.例文帳に追加

犠牲層エッチングを行わずに微小構造体及びマイクロマシンを作製する。 - 特許庁

WET ETCHING METHOD, MICRO MOVABLE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ウエットエッチング方法、マイクロ可動素子製造方法、およびマイクロ可動素子 - 特許庁

ETCHING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD OF CAPACITANCE TYPE MICRO ELECTROMECHANICAL SYSTEM (MEMS) SENSOR例文帳に追加

半導体基板のエッチング方法および静電容量型ＭＥＭＳセンサの製造方法 - 特許庁

ETCHING METHOD, MICRO-LENS SUBSTRATE, TRANSPARENT TYPE SCREEN AND REAR TYPE PROJECTOR例文帳に追加

エッチング方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ - 特許庁

To provide a process for producing a micro hollow body while preventing generation of etching residue.例文帳に追加

エッチング残渣の発生を防止する微小中空体の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method which can prevent micro trenching, without using etching stoppers.例文帳に追加

エッチストッパを用いることなく，マイクロトレンチングを防ぐことの可能なエッチング方法を提供する。 - 特許庁

ETCHING DEVICE, ETCHING METHOD, RECESSED SUBSTRATE, MICRO-LENS SUBSTRATE, TRANSMISSION TYPE SCREEN AND REAR TYPE PROJECTOR例文帳に追加

エッチング装置、エッチング方法、凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ - 特許庁

In a process of forming the micro passage 12A in Fig. 1(c), wet etching may be used instead of anisotropic dry etching.例文帳に追加

なお、図１（ｃ）のマイクロ流路１２Ａを形成する工程では、異方性ドライエッチングに代えて、ウェットエッチングを用いてもよい。 - 特許庁

ETCHING LIQUID, ETCHING METHOD, BASE PLATE WITH RECESSED PART, MICRO LENS BASE PLATE, TRANSMISSION TYPE SCREEN, AND REAR TYPE PROJECTOR例文帳に追加

エッチング液、エッチング方法、凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ - 特許庁

Thereby, micro bubbles that may be produced in the case of wet etching can be avoided and a homogeneous etching rate can be obtained.例文帳に追加

これによって、湿式エッチングの際に生じうる微細泡（Ｍｉｃｒｏ ｂｕｂｂｌｅ）を防止することができ、均一なエッチング率が得られる。 - 特許庁

Plasma is generated in the etching area to convert the process gas into an etchant gas to realize the anisotropic etching process where etching rate is high, etching selection ratio of substrate vs. resist is high and micro-filling property is reduced.例文帳に追加

プラズマをエッチング領域に発生してプロセスガスをエッチングガスに変え、エッチング速度が高く、基板対レジストのエッチング選択率が高く、微小充填性を低減した異方性エッチング処理を実現した。 - 特許庁

To control an etching rate, an in-plane uniformity and a selection ratio by adjusting the flow ratios of two kinds of etching gases, and to form a micro-lens having a desired shape when the micro-lens is formed by etching a lens-material layer and a mask layer.例文帳に追加

レンズ材料層とマスク層とをエッチングしてマイクロレンズを形成するにあたり、２種類のエッチングガスの流量比を調整して、エッチングレートや面内均一性、選択比を制御し、所望の形状のマイクロレンズを形成すること。 - 特許庁

To provide an anisotropic etching processing method where etching rate is high, etching selection ratio of substrate vs. resist is high and micro-filling property is reduced.例文帳に追加

本発明は、エッチング速度が高く、基板対レジストのエッチング選択率が高く、微小充填性を低減した異方性エッチング処理方法を提供する事を目的とする。 - 特許庁

The trenches with differences in trench depths can be easily formed by forming hard masks for etching the substrate by using the micro loading effect and by using an etching method in which the selectivity of the semiconductor substrate and etching is widely adopted.例文帳に追加

マイクロローディング効果によって基板をエッチングするためのハードマスクを形成し、半導体基板とエッチングの選択比が大きく取れるエッチング方法を用いて、容易に深さの異なるトレンチを形成することができる。 - 特許庁

To provide a plasma etching method by which an occurrence of a micro trench in a plasma etching of a CF_X film can be inhibited as compared with the past, plasma etching equipment, and a computer storage medium.例文帳に追加

ＣＦ_x膜のプラズマエッチングにおけるマイクロトレンチの発生を従来に比べて抑制することのできるプラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びコンピュータ記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a micro-etching agent for copper and a copper alloy, which can roughen the surfaces of copper and the copper alloy.例文帳に追加

銅および銅合金の表面を粗化することのできる銅および銅合金用のマイクロエッチング剤を提供すること。 - 特許庁

To stably form a micro-mirror constituted of an extremely flat (111)-crystal face on a semiconductor substrate by anisotropic etching.例文帳に追加

異方性エッチングにより、半導体基板上に極めて平坦な（１１１）結晶面で構成されるマイクロミラーを、安定して形成する。 - 特許庁

To form a micro lens having a larger lens area by an etching rate higher than before.例文帳に追加

従来よりも高いエッチングレートにより，より大きいレンズ面積のマイクロレンズを形成することができる。 - 特許庁

To achieve prevention of sidewall damage, prevention of micro-trenches, and vertical shaping in etching of a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板のエッチング加工において、側壁ダメージの防止、マイクロトレンチの防止および垂直形状加工を両立させる。 - 特許庁

To provide a method for micro-channeling processing in an anisotropic state on a glass substrate by a wet etching method.例文帳に追加

ガラス基板上にウエットエッチング方法により異方性様のマイクロチャンネル加工を提供するものである。 - 特許庁

Then with the alignment pattern (106, 107) used as an etching mask, a base material member is etched to form micro steps (H1, H2).例文帳に追加

次に、アライメントパターン（１０６，１０７）をエッチングマスクとして用いて、下地部材をエッチングして微小な段差（Ｈ１，Ｈ２）を形成する。 - 特許庁

To realize suppressing of a micro loading effect even in the case of etching a part in which patterning is formed at a high aspect ratio.例文帳に追加

高アスペクト比でパターニング形成する部分をエッチングする際にもマイクロローディング効果を抑制することができるようにする。 - 特許庁

To provide a method of simultaneously cleaning inorganic and organic contaminants from semiconductor wafers and micro-etching the semiconductor wafers.例文帳に追加

有機および無機汚染物質を半導体ウェハから清浄化すると同時に、半導体ウェハをマイクロエッチングする方法の提供。 - 特許庁

A metal heat sink and a terminal cap are subjected to surface treatment by chemical etching and micro protrusions and recesses are formed on the surface.例文帳に追加

金属製のヒートシンクと端子キャップに化学エッチングにより表面処理を施し、表面に微細凹凸面を形成する。 - 特許庁

To solve a problem of a shrinking wire, a short circuit, or line width failure due to variation of micro gap immersion property of an etching solution occurred while forming a micro wiring, without using a high-precision etching mask forming facility.例文帳に追加

高精度なエッチングマスク形成設備を使用せずに微細配線形成で発生するエッチング液の微細間隙侵入性のばらつきによる配線の細りや短絡不良やエッチング時の基板の面内で発生するライン幅精度不良を解決する。 - 特許庁

To provide a micro-etching agent for copper and copper alloy, which can roughen surfaces of copper and the copper alloy, and to provide a method for micro-roughening the copper or the copper alloy therewith.例文帳に追加

銅および銅合金の表面を粗化することのできる銅および銅合金用のマイクロエッチング剤並びにこれを用いる銅または銅合金の微細粗化方法を提供すること。 - 特許庁

When forming the recess 3 by wet-etching, a number of micro defects are produced on the etched surface, these micro defects cause strength deterioration of the diaphragm 4.例文帳に追加

凹所３をウエットエッチングにより形成した時、エッチング面には無数の微小欠陥が発生しており、この微小欠陥がダイアフラム４の強度低下を招く。 - 特許庁

By using the resin layer 5 as a mask, the refractive index control film 3 is subjected to dry etching and a micro lens array 1 on which a micro lens 6 having a curved outer surface is arranged is formed.例文帳に追加

樹脂層５をマスクに屈折率制御膜３をドライエッチングして外表面が曲面状のマイクロレンズ６が配列されたマイクロレンズアレイ１を形成する。 - 特許庁

When each of the sacrifice layers of the micro metal mesh parts is removed by isotropic dry etching, the part of the micro metal mesh is suspended in a state of floating in height to be settled in thickness of the sacrifice layer.例文帳に追加

マイクロ金属メッシュ部分の各犠牲層を等方性ドライエッチングで除去すると、マイクロ金属メッシュの部分は犠牲層の厚さで定まる高さで浮いた状態で懸架される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing device of a micro pillar array element capable of precisely forming a fine pillar array structure at low cost by using a reactive ion etching method on a polymer material of polymethyl methacrylate (PMMA), poly carbonate (PC), etc. and the micro pillar array element used for a micro fluid chip, etc.例文帳に追加

ＰＭＭＡやＰＣ等のポリマー材料に対して、反応性イオンエッチング法を用いて、正確に微細なピラーアレイ構造を安価に形成することができるマイクロピラーアレイ素子の製造方法と製造装置並びにマイクロ流体チップ等に用いるマイクロピラーアレイ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method by which even a micro metal gate electrode can be stably etched, and to provide a plasma etching apparatus.例文帳に追加

微細なメタルゲート電極であっても、安定したエッチングを行うことができるプラズマエッチング方法、及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

Next, using this photoresist layer PR as a mask and the gas of the phlorocarbon system as the etching gas, the plasma etching is executed to the interlayer insulating film 10 to form a micro-lens 11.例文帳に追加

次に、このホトレジスト層ＰＲをマスクとして、フロロカーボン系のガスをエッチングガスとして用いて、層間絶縁膜１０のプラズマエッチングを行い、マイクロレンズ１１を形成する。 - 特許庁

To provide an etching liquid for micro-etching a copper surface which can securely maintain adhesion between a copper layer and an insulating layer even under high temperature conditions, and further can improve adhesion to wide insulating materials.例文帳に追加

高温条件下においても銅層と絶縁層との密着性を確実に維持することができる上、広範な絶縁材に対して密着性を向上させることができる銅表面をマイクロエッチングするエッチング液を提供する。 - 特許庁

To provide a trench etching method of a silicon carbide semiconductor substrate capable of etching at a high speed and furthermore controlling the angle of a trench sidewall at 85° or larger without generating micro-trenches at the bottom of the trench.例文帳に追加

高速でエッチングでき、トレンチ底部にマイクロトレンチが発生せず、さらにトレンチ側壁の角度を８５°以上に制御できる炭化珪素半導体基板のトレンチエッチング方法の提供。 - 特許庁

When interconnect line holes and trenches are provided to the low-permittivity interlayer insulating film by etching through micro processing, a mixed gas of fluorocarbon gas, Ar, and NF_3 is introduced into a vacuum chamber for carrying out an etching operation.例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜をエッチングし、配線用のホール、トレンチを微細加工する際に、フッ化炭素系ガス＋ＡｒにＮＦ_３を添加した混合ガスを真空チャンバ内に導入してエッチングする。 - 特許庁

To provide an etching device and etching method which efficiently manufacture a printed-wiring board having a micro conductor pattern of a cross-sectional shape closer to a rectangle.例文帳に追加

より矩形に近い断面形状の微細な導体パターンを有するプリント配線板を効率よく製造するエッチング装置およびエッチング方法を提供する。 - 特許庁

Otherwise, the metal surface within the pore is subjected to a surface treatment by electrolysis to form the micro rough surface 40, and the etching corrosion-resisting resin is applied to form the etching corrosion-resisting resin layer 47.例文帳に追加

また、小孔内の金属表面に電解による表面処理を行いミクロの粗面４０を形成した後に、エッチング耐蝕樹脂を塗布してエッチング耐蝕樹脂層４７を形成すること。 - 特許庁

After this, structures 22-24 are floated to the support substrate 11 by introducing an etching medium from an opening 15 of the semiconductor layer 13, and etching the sacrifice layer 12 in which the micro crack 12a is formed to be removed.例文帳に追加

この後、半導体層１３の開口部１５からエッチング媒体を導入し、マイクロクラック１２ａが形成された犠牲層１２をエッチングして除去することにより、支持基板１１に対して構造体２２〜２４を浮遊させる。 - 特許庁

Thus, since a modification degree is raised by forming the micro crack 12a in the sacrifice layer 12, the etching medium becomes easy to enter a deep part of the sacrifice layer 12, and etching rate of the sacrifice layer 12 is further raised.例文帳に追加

このように、犠牲層１２にマイクロクラック１２ａを形成して改質度を向上させているので、犠牲層１２の深部にエッチング媒体が入り込みやすくなり、犠牲層１２のエッチングレートがさらに向上する。 - 特許庁

The metal surface within the pore is subjected to a surface treatment with plasma to form a micro rough surface 40, and an etching corrosion-resisting resin is applied to form the etching corrosion-resisting resin layer 47.例文帳に追加

小孔内の金属表面にプラズマによる表面処理を行いミクロの粗面４０を形成した後に、エッチング耐蝕樹脂を塗布してエッチング耐蝕樹脂層４７を形成すること。 - 特許庁

In a micro machining type pressure sensor, a diaphragm etching cavity 10 is formed on a sensor chip by first trench etching, and anode junction is made so that the pressure introduction opening 11 provided at a glass plate forms the extension section of the cavity.例文帳に追加

第１のトレンチエッチングによりセンサチップにダイアフラムエッチング空洞１０を形成し，ガラスプレートに設けた圧力導入開口１１が、空洞の延長部を成しているように陽極接合が行われるようにした。 - 特許庁

Subsequently, as shown in Fig. 1(c), anisotropic dry etching is performed using the above passage pattern 14A as an etching mask to form a micro passage 12A having a width of about 10 μm and a depth of about 20 μm on the substrate 12.例文帳に追加

次に、図１（ｃ）に示すように、上記流路パターン１４Ａをエッチングマスクとして異方性ドライエッチングにより、基板１２上に幅約１０μｍ、深さ約２０μｍのマイクロ流路１２Ａが形成される。 - 特許庁

The micro-lens array manufacturing method is configured so that a work for micro-lens array is polished after shaping through an etching or molding process so that a high transmittance and a reduced unevenness in the transmitted light are obtained.例文帳に追加

マイクロレンズアレイの製造方法において、マイクロレンズアレイをエッチングまたはモールドにより成形した後に、研磨することにより、高い透過率の、透過光ムラを低減させたマイクロレンズアレイの製造方法を提供することができる。 - 特許庁

To provide a method for forming microstructures formable of the microstructure such as a micro-pore and a micro-groove at a substantially constant etching speed, without affected by arrangement in a substrate, a laser irradiation device used in the forming method, and the substrate produced using the forming method.例文帳に追加

基板における配置に左右されず、ほぼ一定のエッチング速度で微細孔及び微細溝等の微細構造を形成することができる微細構造の形成方法、該形成方法に使用されるレーザー照射装置、及び該形成方法を用いて製造された基板の提供。 - 特許庁