「minimum depth」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

As a function of the minimum and maximum values of capacitance measured at each point and the depth on or from the topside surface 16 where each point resides, the electrically active dopant density of the semiconductor wafer or the sample 10 can be determined.例文帳に追加

各ポイントで測定された最小及び最大キャパシタンスと、各ポイントが存在する上面１６上又は上面１６からの深さとの関数として、半導体ウエハ又はサンプル１０の電気活性ドーピング密度を測定することができる。 - 特許庁

The depth of the groove is ≥0.1mm, particularly 0.1-2.5mm, the width is ≥0.1mm, particularly 0.1-5mm, and the minimum distance between adjacent groove parts in a radial direction is ≥0.05mm, particularly it is preferable to be 0.05-100 mm.例文帳に追加

また、この溝は、深さが０．１ｍｍ以上、特に０．１〜２．５ｍｍ、幅が０．１ｍｍ以上、特に０．１〜５ｍｍであり、且つ径方向の隣り合う溝部分の間の最小距離が０．０５ｍｍ以上、特に０．０５〜１００ｍｍであることが好ましい。 - 特許庁

By this method, the corrosion of piping 25 or the like provided at a high place or embedded in the ground can be easily inspected by performing the minimum appurtenant work to inspect the reduced thickness depth of the piping 25 or the like.例文帳に追加

これにより、高所や地中に埋設されている配管２５等の腐食検査を、最小限の付帯工事により、容易に行うことができると共に、検査対象物の肉厚の変化を検出し、減肉深さを検査することができる。 - 特許庁

When the cutter unit reaches the center of the bumpy part 132 formed high at the center, a height of the cutter holder 122 becomes maximum and the cutting depth of the cutter edge 130 becomes minimum, whereby the recording material 113 is cut by the cutter edge 130 in the vicinity of a leading end.例文帳に追加

中央が高く形成された起伏部１３２の中央に達するとカッターホルダー１２２の高さは最大となり、カッター刃１３０の切り込み深さも最も浅くなってカッター刃１３０は先端付近で記録材１１３を切断する。 - 特許庁

The unevenness profiles of uniform standard position are divided by 100 mm pitch in the depth direction of the carbonization chamber, the minimum value of the unevenness profile values (unevenness amounts) is extracted in each divided section and the average value thereof is made to be the rough skin index.例文帳に追加

そして、当該基準位置が揃った凹凸プロフィールを、炭化室の奥行方向において１００ｍｍピッチで分割し、分割した各区間において、当該凹凸プロフィールの値（凹凸量）の最小値を抽出し、その平均値を肌荒れ指数とする。 - 特許庁

Then, the light receiving hole 3 has a minimum depth of and an maximum length of an opening of the light receiving hole 3, and tilt angles of the bottom surfaces 81, 82 of the bottom portion thereof set so that light entering the light receiving hole 3 is reflected at least twice in the light receiving hole 3.例文帳に追加

そして、受光穴３の最小深さ、受光穴３の開口の最大長、およびその底部の底面８１、８２の傾斜角度は、受光穴３内への入射光が受光穴３内で少なくとも２回反射するように設定されている。 - 特許庁

The lightweight embedding material 1 has notched grooves 3 for forming the covering depth required for a reinforcing bar arrangement part of the upper end bar of the slab in the upper face of an embedding material body 2 and also has projections 4 for forming the minimum spacing on the side face of the embedding material body 2.例文帳に追加

軽量埋込材１は、埋込材本体２の上面におけるスラブ上端筋の配筋箇所に被り厚形成用の切欠溝３が設けられ、埋込材本体２の側面には設置間隔形成用の突起４が設けられたものである。 - 特許庁

For the grooves, depth is 0.1 mm or more, or especially 0.1-2.5 mm, width is 0.1 mm or more, or especially 0.1-5 mm or more, and minimum distance between adjacent grooves is 0.05 mm or more, or especially 0.05-100 mm or more.例文帳に追加

また、この溝は、深さが０．１ｍｍ以上、特に０．１〜２．５ｍｍ以上、幅が０．１ｍｍ以上、特に０．１〜５ｍｍ以上であり、且つ相隣る溝の間の最小距離が０．０５ｍｍ以上、特に０．０５〜１００ｍｍ以上であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a transplanter suppressing the complexity of a structure and the increase of weight to the minimum when arranging an adjuster for adjusting the planting depth of the seedlings by the planting section in the transplanter supporting a planting section receiving seedlings rotated and carried while being held by a rotating body and planting the same in ridges of an agricultural field.例文帳に追加

回転体に保持されて回転してくる苗を受取って圃場の畝に植付ける植付部を支持した移植機において、植付部による苗の植付深さを調整する調整手段を設けるにあたり、構造の複雑化や、重量増を最小限に抑えた移植機を提供する。 - 特許庁

A connecting part of the gate and the bottom face 1d has a recessed groove 1e having a depth D of 5% to 25% of the total height H of the synthetic resin retainer 1, and a minimum diameter of a tip part of the gate is 10% to 50% of a width W of the synthetic resin retainer 1.例文帳に追加

このゲートと底面１ｄとの連結部には、合成樹脂製保持器１の総高さＨの５％以上、２５％以下の深さＤを有する凹溝１ｅを設け、且つゲートの先端部の最小径を合成樹脂製保持器１の幅Ｗの１０％以上、５０％以下とした。 - 特許庁

To provide a method, where in a semiconductor substrate, there is formed a ultra-shallow junction whose dopant concentration distribution is narrowed through control of its junction depth, by restricting the channelling of dopants in the ion implantation process to a minimum and by controlling the diffusion of dopant in the following heat annealing treatment process.例文帳に追加

イオン注入工程でのドーパントのチャンネリングを最小限に抑制し、また引き続く熱アニール処理工程でのドーパントの拡散を抑制することにより接合深さを制御してドーパント濃度分布を狭小化した超浅型接合を半導体基板内に形成する方法を提供する。 - 特許庁

To securely prevent an excessive invasion of a support surface for effectively limiting a thickness of a chip into a soft cutting material although the support surface has a size of a necessary minimum limit with a compact constitution and simple manufacturing technique in a cut link having a depth limiting part.例文帳に追加

深さ制限部を備えた切断リンクにおいて、構成が簡潔で、且つ製造技術的に簡単で、切屑の厚さを効果的に制限するための支持面が必要最小限の大きさであり、それにもかかわらず柔らかい切断物内への支持面の過度な侵入が確実に防止されているように改良する。 - 特許庁

A heater wire storing groove 4 for laying a heater wire 3 is formed on the surface of a structural plywood 2 having a predetermined thickness, the thickness of a remaining structural plywood 2 obtained by subtracting a depth of the heater wire storing groove 4 from the total thickness of the structural plywood 2 is the minimum thickness of the structural plywood 2 eliminating the floor joist.例文帳に追加

所定厚さを有する構造用合板２の表面にヒータ線３を敷設するヒータ線収納溝４を形成し、該構造用合板２の全体厚さからヒータ線収納溝４の深さを差し引いた残りの構造用合板２の厚さが、根太を省略し得る構造用合板２の最低厚さを有してなるものである。 - 特許庁

This cellulose acylate film 1 produced by a film formation with melt-casting is provided by having die lines 2 in parallel to the film-forming direction (arrow mark X) and having ≤0.5 μm maximum depth or maximum height and ≥500 μm minimum width by ≤10 lines per 1 cm of the width direction (arrow mark Y) of the film.例文帳に追加

溶融流延によって製膜されたセルロースアシレートフィルム１であって、前記フィルムの製膜方向（矢印Ｘ）に平行であり且つ最大深さまたは最大高さが０．５μｍ以下および最小幅が５００μｍ以上のダイライン２が、前記フィルムの幅方向（矢印Ｙ）の長さ１ｃｍ当たり１０本以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。 - 特許庁

To provide a device for testing local load smaller than a conventional apparatus, easily carried, conveniently measuring a strength in a desired depth from an artificial structure or all ground levels, reducing a damage applied to the artificial structure or the ground to the minimum, and overcoming a troublesome operation, and also to provide a test method.例文帳に追加

従来よりも小型で持ち運びに便利で、人工構造物または地盤のあらゆる面から所望の深さ位置での強度を簡便に計測することができ、さらに人工構造物または地盤に与える損傷を最小限にとどめ、また操作の煩雑さを解消することができる局部載荷試験装置および試験方法を提供することである。 - 特許庁

The diffraction optical element 201 has a relief pattern formed on a surface of thereof, wherein a fine periodic structure 203 having a pitch shorter than the minimum wavelength of working wavelengths is formed on the relief pattern 202, and by changing parameters such as pitch, width and height (or depth) of the fine periodic structure 203, the wavelength dependency of effective refractive index in the fine periodic structure 203 is adjusted.例文帳に追加

本発明は、表面にレリーフパターンが形成されている回折光学素子２０１において、前記レリーフパターン２０２上に、使用する波長の最小波長よりも短いピッチを有する微細周期構造２０３を形成し、該微細周期構造２０３のピッチ、幅、高さ（または深さ）などのパラメータを変えることにより微細周期構造２０３における有効屈折率の波長依存性を調整する。 - 特許庁