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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > pattern withに関連した英語例文

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pattern withの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 22630



例文

The dimension of a resist pattern formed by the pattern with the phase shifter is predicted.例文帳に追加

位相シフターが配置された前記パターンにより形成されるレジストパターンの寸法を予測する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN STRUCTURE, SUBSTRATE WITH PATTERN STRUCTURE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

パターン構造物の製造方法、パターン構造物付き基板及び液晶表示装置 - 特許庁

Lower layer wiring 11 is provided with an auxiliary pattern 11S in the way of elongation of the pattern.例文帳に追加

下層配線11は、パターンの伸長途中に補助パターン11Sを設けている。 - 特許庁

A pattern with different priority among the channels is provided and a start pattern of the priority pattern is changed for each scheduling period.例文帳に追加

各回線間で優先度の異なるパターンを有し、優先度パターンの開始パターンをスケジューリング周期毎に変更する。 - 特許庁

例文

To form a film pattern right below a resist pattern with high size precision, in the same shape as that of the resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンの直下の膜パターンを、寸法精度を高精度にレジストパターンと同形状の膜パターンとして形成する。 - 特許庁


例文

Subsequently, the resist film transferred with the first pattern and the second pattern is developed to form a resist pattern for measurement.例文帳に追加

次に、第1のパターンと前記第2のパターンが転写された前記レジスト膜を現像し計測用レジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern-forming sheet and a pattern-forming method capable of easily forming a pattern with high precision.例文帳に追加

精度の高いパターン形成を容易に行うことができるパターン形成用シートおよびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A bit pattern which matches with a reference bit pattern is found from the converted bit patterns, and its bit pattern index is identified.例文帳に追加

この変換されたビット・パターンから基準ビット・パターンと一致するものを見つけ、そのビット・パターン・インデックスを識別する。 - 特許庁

CODE PATTERN IMAGE DATA GENERATOR, CODE PATTERN IMAGE DATA GENERATION METHOD, MEDIUM WITH CODE PATTERN, DISPLAY DEVICE, AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加

コードパターン画像データ生成装置、コードパターン画像データ生成方法、コードパターン付媒体、表示装置およびコンピュータプログラム - 特許庁

例文

A specified wide rolled paper texture 1 is finished with embossed design 2, running pattern 3 and internal pattern 4 in the running pattern.例文帳に追加

所定幅の帯状の兼用生地1にエンボス2、連続模様3及びその内側に内部模様4を施してある。 - 特許庁

例文

The mold pattern that is exposed by the interlayer insulating layer pattern is removed with the interlayer insulating layer pattern as an etching mask.例文帳に追加

層間絶縁層パターンをエッチングマスクとして層間絶縁層パターンにより露出されたモールドパターンを除去する。 - 特許庁

Then, a part of the acceleration pattern (a) is substituted with a part of the acceleration pattern (b), and the acceleration pattern (a) indicated by a dotted line is obtained.例文帳に追加

すると、加速パターン(a)の一部が、加速パターン(b)の一部と置き換わり、点線で示した加速パターン(a)となる。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus and a pattern forming method capable of forming a minute pattern with high visibility.例文帳に追加

視認性が高く微細なパターンを形成することができるパターン形成装置及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

An acceleration pattern storage part is provided with an automatically registered pattern storage area for storing a pattern of acceleration for preventing malfunctions.例文帳に追加

加速度パターン記憶部に誤動作防止用の加速度パターンを格納する自動登録パターン格納領域を設ける。 - 特許庁

During irradiating the second pattern, a diffraction beam is detected due to diffraction of the beam with the second pattern on the first pattern.例文帳に追加

第2パターンの照射の間、第1パターン上での第2パターン付きビームの回折による回折ビームが検出される。 - 特許庁

To provide a resist pattern thickening material etc., with which a resist pattern is thickened, a surface layer with superior etching resistance can be formed, and the pattern can be made fine.例文帳に追加

レジストパターンを厚肉化しエッチング耐性に優れた表層を形成できパターンを微細化可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。 - 特許庁

From August 16, 1861, until February 12, 1863, the pattern was changed back to taganeme; 4565 Manen Oban with the hallmarks of ', , き' (yoshi, u, ki) in the taganeme pattern were minted, and 2187 Manen Oban with ', , ' (yoshi, yasu, dai) in the taganeme pattern were minted. 例文帳に追加

文久元年(1861年)7月11日から文久2年(1862年)12月24日は鏨目に戻り、「吉・宇・き」4,565枚、「吉・安・大」2,187枚であった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The first circuit pattern is compared with the second circuit pattern, and whether the second circuit pattern is within the allowable error based on the first circuit pattern is decided.例文帳に追加

さらに、第1回路パターンと第2回路パターンとを比較して第2回路パターンが第1回路パターンを基準として許容誤差内であるか否かを判定する。 - 特許庁

To diminish a mask pattern in pattern width after the mask pattern is formed and also to reduce the cost of plant investment which increases with scaling-down of the mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンを形成した後にそのパターン幅を縮小化できるようにすると共に、マスクパターンの微細化に伴う設備投資コストを低減できるようにする。 - 特許庁

The resist pattern measuring method measures the true resist pattern with a shrinkage taken into consideration, after determining correctly the line pattern/space pattern, based on the shrinkage amount.例文帳に追加

このシュリンク量により、レジストパターンのLine/Spaceを正しく判別した上でシュリンクを考慮した真の寸法を測定することが可能となる。 - 特許庁

The area relevant to the layout data 6 of the pattern data 2 are replaced with the pattern data 9, and the pattern data 11 after the correction based on the pattern data 3 are formed.例文帳に追加

パターンデータ2のレイアウトデータ6に該当する領域をパターンデータ9に差し替えて、レイアウトデータ3に基づいた修正後のパターンデータ11を作成する。 - 特許庁

The anchor pattern region AA has each anchor pattern with dimensions same as the depth of at least one fine pattern formed at the fine pattern region FA.例文帳に追加

アンカーパターン領域AAは、微細パターン領域FAに形成された少なくとも1つの微細パターンの深さと同一の寸法のアンカーパターンを有する。 - 特許庁

The pattern comparison part 10 compares a pattern of a drive load during a new travel along the travel route (reference drive load pattern) with the drive load pattern history.例文帳に追加

パターン比較部10は、新たに走行経路を走行するときの運転負荷のパターン(参照運転負荷パターン)を運転負荷パターン履歴と比較する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition, a compound and a method for forming a pattern to obtain a pattern with few pattern collapses, reduced line edge roughness and having pattern profile.例文帳に追加

パターン倒れが少なく、ラインエッジラフネスを小さくでき、パターンプロファイルが優れた感光性組成物、化合物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern-coating material which increases the etching resistance of a pattern, in a process of etching the pattern formed on a substrate with the use of the pattern as a mask.例文帳に追加

基板の上に形成されたパターンをマスクとしてエッチングをするプロセスにおいて、パターンのエッチング耐性を向上させるパターン被覆材料の提供。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH RESIST, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH PATTERN, AND RESIST PROCESS METHOD例文帳に追加

レジスト付き基体の製造方法、レジストパターン付き基体の製造方法、パターン付き基体の製造方法及びレジスト処理方法 - 特許庁

For the taste of Urasenke, such designs as kobana-shippo (a pattern consisting of the circle divided into quarters by arcs with small flowers), takara-shippo (a pattern consisting of circle divided into quarters by arcs with treasures), hoso-uzu (fine whirls) and arabesque with pine needles were innovated. 例文帳に追加

裏千家好みには、小花七宝、宝七宝、細渦、松唐草などの図案を工夫している。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

LAMINATED MATERIAL WITH PHOSPHORESCENT OR FLUORESCENT PATTERN AND WALL FLOOR MATERIAL WITH THE SAME例文帳に追加

蓄光性又は蛍光性模様を施した積層材及び壁床材 - 特許庁

DECORATIVE MATERIAL WITH SENSE OF PROTRUSION AND RECESS SURFACE TUNED WITH PATTERN AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加

模様に同調した凹凸感を有する化粧材とその製造法 - 特許庁

To provide a Pachinko game machine capable of displaying a judgment pattern or a pattern displayed on a pattern display device with diversified pattern fluctuation and executing a clear and realistic pattern display.例文帳に追加

図柄表示装置に表示される判定図柄や図柄を多様化した図柄変動でもって表示し、鮮明且つ現実的な図柄表示が実施できるパチンコ遊技機を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having high sensitivity and excellent developability and giving a high resolution pattern, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method.例文帳に追加

高感度で、現像性に優れ、高解像度なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

An auxiliary pattern is then so formed that the pattern shape after exposure is nearly equaled to the design pattern with respect to the sorted gate pattern in an auxiliary pattern forming stage ST04.例文帳に追加

次に、補助パターン生成工程ST04において、選別されたゲートパターンに対して、露光後のパターン形状が設計パターンとほぼ同等となるように補助パターンを生成する。 - 特許庁

Mino Shoinshi was made while being decorated with beautiful watermark patterns such as a dappled pattern, key pattern, chrysanthemum arabesque pattern, oval-ring pattern, and hexagonal pattern, and used for paper-covered lamp stands, garden lanterns, and so forth, besides shoji. 例文帳に追加

美濃紋書院紙では、鹿子(かのこ)・紗綾形・菊唐(から)草・七宝・亀甲(きっこう)などの美しい紋様が漉き込まれ、障子以外にも行灯や灯籠などにも用いられた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To make the pattern widths of an isolated process pattern and a dense process pattern, obtained by trimming a resist mask comprising the isolated resist pattern and dense resist pattern and then patterning a layer to be processed, to agree with each other.例文帳に追加

孤立レジストパターンと密集レジストパターンを含むレジストマスクをトリミングし、被加工層をパターニングして得られる孤立加工パターンと密集加工パターンのパターン幅を一致させる。 - 特許庁

Further, the retrieved partial type face is converted into a bit pattern of the bit-map size, and the resultant bit pattern is compared with the set bit pattern to refer to the degree of matching between the resultant bit pattern and the set bit pattern (S207).例文帳に追加

さらに、検索された部分字形を上記ビットマップサイズのビットパターンに変換し、これと、上記設定したビットパターンと比較して両者の整合度を参照する(S207)。 - 特許庁

HOT ROLLING METHOD FOR METAL SHEET WITH UNEVEN PATTERN例文帳に追加

凹凸模様を有する金属板の熱間圧延方法 - 特許庁

FABRIC WITH PHOTOLUMINESCENT PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

光輝性模様を有する布帛及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR EVALUATING PATTERN SHAPES WITH HIGH ACCURACY, AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

高精度パターン形状評価方法及びその装置 - 特許庁

METAL CONTAINER WITH HAIRLINE PATTERN AND PRODUCTION METHOD THEREOF例文帳に追加

ヘアライン模様付き金属容器およびその製造方法 - 特許庁

IMAGING UNIT FOR PLANE SUBJECT WITH TRANSLUCENT PATTERN例文帳に追加

半透明パターンを持つ平面状被写体の撮像装置 - 特許庁

EXPANDED METAL WITH IRREGULAR PATTERN AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

凹凸模様付きエキスパンデッドメタル及びその製造方法 - 特許庁

PLASTIC MOLDED ARTICLE WITH DOUBLE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

二重模様入りプラスチック成形品及びその製造法 - 特許庁

FILM HEATING APPARATUS AND PREPARATION OF MOLDED ARTICLE WITH PICTURE PATTERN例文帳に追加

フィルム加熱装置と絵柄付成形品の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF SYNTHETIC RESIN MOLD WITH FINE EMBOSS PATTERN例文帳に追加

微細凹凸模様付合成樹脂型の製作方法 - 特許庁

IMAGE FORMING APPARATUS PERFORMING CALIBRATION WITH PATCH PATTERN例文帳に追加

パッチパターンによるキャリブレーションを行う画像形成装置 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RESIN MOLDING WITH ARTIFICIAL MARBLE PATTERN例文帳に追加

人造大理石模様の樹脂成形品の製造方法 - 特許庁

SYNTHETIC RESIN SHEET WITH SATIN PATTERN AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

梨地模様付合成樹脂シート及びその製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN WITH HALFTONE PHASE DIFFERENCE AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

ハーフトーン位相差マスクのマスクパターン及びその製造方法 - 特許庁

The resist pattern 4 is removed with a sulfuric acid based solution.例文帳に追加

レジストパターン4を、硫酸系の溶液で除去する。 - 特許庁

例文

PATTERN DISPLAY METHOD FOR GAME MACHINE WITH VARIABLE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

可変表示装置付き遊技機の図柄表示方法 - 特許庁




  
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