patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
The device 3 is composed of an ASIC(application specific integrated circuit), and when a command pattern switching signal H is inputted to an internal pattern switching state machine 3S, switching is performed between an ESC/P command A pattern and a B pattern.例文帳に追加
印刷情報生成装置3は、ASICにより構成され、内部のパターン切り替えステートマシン3Sにコマンドパターン切替信号Hが入力されると、ESC/PコマンドAパターンとBパターンとの間で切り替えが行われる。 - 特許庁
A pattern editing/correction device 10 comprises a block copy mount data preparing device 11 for a layout, a pattern editing device 12, and a pattern correcting device 13, a block copy mount is prepared from an input label size, and a pattern is arranged.例文帳に追加
絵柄編集/補正装置10は、レイアウト用版下台紙データ作成装置11、絵柄編集装置12及び絵柄補正装置13からなり、入力されたラベルサイズから版下台紙を作成し、絵柄を配置させる。 - 特許庁
The position detector detects the position of the reference pattern and the position of the measurement pattern, and the optical state of the position detector is inspected based on the relative relation between the position of the reference pattern and the position of the measurement pattern thus detected.例文帳に追加
位置検出装置により、基準パターンの位置および計測パターンの位置を検出し、検出した基準パターンの位置と計測パターンの位置との相対関係に基づいて位置検出装置の光学状態を検査する。 - 特許庁
In the boundary between a first pattern region 9a and a first pattern region 9b which are formed on a diffraction grating 3 as well as in a second pattern region 10a and a second pattern region 10b which are formed on the diffraction grating 3, an isolation area 11a and an isolation area 11b or an isolation area 11c which isolate the regions are formed.例文帳に追加
回折格子3に設けられた第1パターン領域9a,9bと第2パターン領域10a,10bとの境界にそれらを隔離する隔離エリア11a,11bあるいは11cを設けている。 - 特許庁
A dummy pattern forming region and a dummy pattern area are set according to the coverage of the device patterns so that the coverage of the pattern in an exposure region being the sum of the exposure regions of the device patterns and the dummy pattern is included in a prescribed range.例文帳に追加
この際、デバイスパターンとダミーパターンとを合わせた露光領域内のパターンの被覆率が所定の範囲内に収まるように、ダミーパターンの形成領域およびその面積をデバイスパターンの被覆率に応じた大きさに設定する。 - 特許庁
The voice determining section 10 executes pattern matching between the analyzed uplink pattern and the sign pattern stored in the storage section 9 to determine whether a rate of matching between the uplink pattern and the sign patterns is not less than a predetermined threshold value.例文帳に追加
また、音声判定部10は、その解析した上りパターンと記憶部9に記憶された兆候パターンとのパターンマッチングを行い、その上りパターンと兆候パターンの上り一致率が予め定められた閾値以上か否かを判定する。 - 特許庁
A representative configuration in the conductive pattern forming apparatus comprises a dispenser for forming a conductive pattern by jetting out a conductive ink; a transfer member for transferring the conductive pattern onto the substrate while the conductive pattern is formed on the surface by the dispenser; and a heating means for curing the conductive pattern by heating the transfer member in the conductive pattern forming apparatus for forming the conductive pattern on the substrate.例文帳に追加
本発明に係る導体パターン形成装置の代表的な構成は、基板に導体パターンを形成する導体パターン形成装置であって、導電インクを噴射して導体パターンを形成するディスペンサーと、該ディスペンサーにより表面に導体パターンを形成され、該導体パターンを前記基板に転写する転写部材と、該転写部材を加熱して前記導体パターンを硬化させる加熱手段と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
The method for forming a resist pattern including a lower resist pattern, an upper resist pattern and a separator pattern laid between the lower resist pattern and the upper resist pattern includes a step of forming the lower resist pattern from a positive resist material, a NQD (naphthoquinone diazide) novolac resist material, an integrated NQD novolac resist material, a hydrophobic integrated NQD novolac resist material or a resist material essentially comprising a polyhydroxystyrene resin.例文帳に追加
下側レジストパターンと、上側レジストパターンと、下側レジストパターン及び上側レジストパターン間に設けられたセパレータパターンとを含むレジストパターンの形成方法は、下側レジストパターンを、ポジ型レジスト材料、NQDノボラックレジスト材料、一体型NQDノボラックレジスト材料、疎水性一体型NQDノボラックレジスト材料、又はポリヒドロキシスチレン系樹脂を主成分とするレジスト材料によって形成する。 - 特許庁
To provide a conductor pattern precursor, capable of forming a highly reliable conductor pattern the disconnection of which is prevented, a substrate with a conductor pattern precursor including the conductor pattern, a high-reliability conductor pattern formed of the conductor pattern precursor, a highly reliable wiring board including the conductor pattern, and a method for manufacturing a wiring board capable of manufacturing a high-reliability wiring board.例文帳に追加
断線が防止された信頼性の高い導体パターンを形成することのできる導体パターン前駆体、該導体パターンを備えた導体パターン前駆体付基板、該導体パターン前駆体によって形成される信頼性の高い導体パターン、該導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板および、信頼性の高い配線基板を製造することのできる配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The method of forming the resist pattern including the lower resist pattern, the upper resist pattern and a separator pattern disposed between the lower resist pattern and the upper resist pattern comprises forming the lower resist pattern by a positive resist material, NQD novolak resist material, integral type NQD novolak resist material, hydrophobic integral NQD novolak resist material or resist material essentially consisting of a polyhydroxy styrene base resin.例文帳に追加
下側レジストパターンと、上側レジストパターンと、下側レジストパターン及び上側レジストパターン間に設けられたセパレータパターンとを含むレジストパターンの形成方法は、下側レジストパターンを、ポジ型レジスト材料、NQDノボラックレジスト材料、一体型NQDノボラックレジスト材料、疎水性一体型NQDノボラックレジスト材料、又はポリヒドロキシスチレン系樹脂を主成分とするレジスト材料によって形成する。 - 特許庁
The semiconductor device includes a first semiconductor pattern limiting active regions, a second semiconductor pattern isolated and disposed on the first semiconductor pattern, a gate electrode which is separated from the second semiconductor pattern and is disposed on the first semiconductor pattern therebetween and then insulated, and a stress generating pattern, filling the clearance between the insulated gate electrode and second semiconductor pattern.例文帳に追加
ここに開示される半導体素子は活性領域を限定する第1半導体パターンと、前記第1半導体パターン上に離隔されて配置された第2半導体パターンと、前記第2半導体パターンと離されて、これらの間の第1半導体パターン上に配置され絶縁されたゲート電極と、前記絶縁されたゲート電極及び前記第2半導体パターンの間の隙間を満たす応力発生パターンとを含む。 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND OUTWARD APPEARANCE INSPECTING METHOD FOR RETICLE例文帳に追加
レチクルのパターン形成方法及びレチクルの外観検査方法 - 特許庁
Configuration or operation pattern of an inverter is input (201).例文帳に追加
インバータ装置の構成や動作運転パターンを入力する(201)。 - 特許庁
The thickness t1 of the magnetic layer pattern on the innermost peripheral side is smaller than the thickness t2 of the magnetic layer pattern on the outermost peripheral side.例文帳に追加
最内周側の磁性層パターンの厚さtlを最外周側の磁性層パターンの厚さt2より小とする。 - 特許庁
To prevent deviation in a pattern, when the pattern of a photographic plate has its center located at a position away from the center of exposure.例文帳に追加
原板のパターンが露光中心から離れた位置を中心とするパターンである場合のパターンずれを防止する。 - 特許庁
FUNDAMENTAL FREQUENCY PATTERN GENERATION METHOD, AND PROGRAM RECORDING MEDIUM例文帳に追加
基本周波数パタン生成方法、及びプログラム記録媒体 - 特許庁
POLYMER FOR RESIST, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
レジスト用重合体、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
TWO-AXES POSITIONER FOR MEASURING ELECTROMAGNETIC WAVE IRRADIATION PATTERN OF WIRELESS EQUIPMENT例文帳に追加
無線機器の電磁波放射パターン測定用2軸ポジショナー - 特許庁
SKIN MATERIAL HAVING CONCAVO-CONVEX PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
凹凸模様を有する表皮材及びその製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁
The plural pattern columns are displayed at the display part 13a and the pattern column is constituted of the plural kinds of the patterns.例文帳に追加
表示部13aには複数の図柄列が表示され、図柄列は複数種類の図柄によって構成されている。 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD AND IMPRINT MOLD MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
パターン形成方法およびインプリント用モールドの製造方法 - 特許庁
INNER FACE GRINDING PATTERN SETTING DEVICE, INNER FACE GRINDING DEVICE, INNER FACE GRINDING PATTERN SETTING METHOD, AND INNER FACE GRINDING METHOD AND PROGRAM例文帳に追加
内面研削パターン設定装置、内面研削装置、内面研削パターン設定方法、内面研削方法及びプログラム - 特許庁
An image forming part uses the beam to form the security pattern.例文帳に追加
画像形成部は、ビームを用いてセキュリティパターンを形成する。 - 特許庁
PATTERN LAYOUT METHOD FOR DISPLAY DEVICE AND ITS RECORDING MEDIUM例文帳に追加
表示装置用パターンレイアウト方法及びその記録媒体 - 特許庁
When the response to the user instruction is outputted by the program, a third operation pattern is demonstrated by the operation pattern demonstration means.例文帳に追加
プログラムがユーザ命令に対する応答を出力すると、動作パターン実演手段が第3の動作パターンを実演する。 - 特許庁
The signal contact pattern and the signal contact pieces are connected, and the cylindrical ground pattern and the ground contact pieces are connected.例文帳に追加
信号コンタクトパターンと信号コンタクト片とが接続され、円筒状のグランドパターンとグランドコンタクト片とが接続される。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device can slim a resist pattern without generating pattern collapsing.例文帳に追加
パターン崩れを生ずることなく、レジストパターンをスリム化することが可能な半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
When the spacer is mounted on the printed board, both ends of the stub are connected to the signal line pattern and conductor pattern respectively.例文帳に追加
スペーサを印刷基板上に実装すると、スタブの両端は信号線パターンと導体パターンにそれぞれ接続する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加
感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁
METHOD OF FORMING PATTERN, PATTERN FORMING DEVICE, CONDUCTIVE FILM WIRING, MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
パターンの形成方法、パターン形成装置、導電膜配線、デバイスの製造方法、電気光学装置、並びに電子機器 - 特許庁
METHOD FOR GENERATING DRAWING PATTERN DATA AND METHOD FOR DRAWING MASK例文帳に追加
描画パターンデータの生成方法及びマスクの描画方法 - 特許庁
METHOD FOR WRITING PATTERN ON MAGNETIC DISK AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加
磁気ディスク上にパターンを書き込む方法及びその装置 - 特許庁
To prevent fixed pattern programming for a nonvolatile memory.例文帳に追加
不揮発性メモリに対する固定パターンのプログラミングを防止する。 - 特許庁
And further, it has a second phase change substance pattern 107b' located on the high resistance phase change substance pattern 109a'.例文帳に追加
また、高抵抗相変化物質パターン109a’上に位置した第2相変化物質パターン107b’をさらに備える。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER例文帳に追加
レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法 - 特許庁
PATTERN FILM-FORMING MASK FOR SOLUTION COATING, ITS MANUFACTURING METHOD, PATTERN FILM-MANUFACTURING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加
溶液塗布用パターン製膜用マスクとその製造方法、パターン膜の製造方法、有機薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
WIRING PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING APPARATUS FOR DISPLAY例文帳に追加
配線パターン形成方法および表示装置の製造装置 - 特許庁
PATTERN FORMING APPARATUS, HEAD UNIT DEVICE AND HEAD UNIT CONTROLLING METHOD例文帳に追加
パターン形成装置、ヘッドユニット装置、ヘッドユニット制御方法 - 特許庁
To inspect a pattern on a printed board, etc., when the pattern, a solder resist and silk print are overprinted on the board.例文帳に追加
プリント基板のパターンとソルダレジスト及びシルク印刷が重ねて印刷されたプリント基板等のパターンを検査すること。 - 特許庁
IRREGULAR PATTERN FORMATION SHEET, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE FOR DUPLICATING THE IRREGULAR PATTERN FORMATION SHEET AND OPTICAL ELEMENT例文帳に追加
凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、凹凸パターン形成シート複製用工程シート原版、光学素子 - 特許庁
In an approximate pattern calculation step, a lithographic target having the same corresponding relationship as an approximate value of the above corresponding relationship is calculated as an approximate pattern.例文帳に追加
前記対応関係の近似値と同じ対応関係を有したリソグラフィターゲットを近似パターンとして算出する。 - 特許庁
COATING PATTERN ATTAINMENT METHOD AND COATING THICKNESS SIMULATION METHOD例文帳に追加
塗装パターン獲得方法および塗装膜厚シミュレーション方法 - 特許庁
Plural pattern columns are displayed at the display part 13a and the pattern column is constituted of the plural kinds of patterns.例文帳に追加
表示部13aには複数の図柄列が表示され、図柄列は複数種類の図柄によって構成されている。 - 特許庁
PLUSH FABRIC HAVING THREE-DIMENSIONAL PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
立体柄模様を有する立毛布帛とその製造方法 - 特許庁
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