「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(216ページ目) - Weblio英語例文検索

In this imprint mold 100, a first mold pattern 40 and a second mold pattern 50 are formed on one surface of a substrate 11, and a first phase difference compensating pattern 45 and a second phase difference compensating pattern 55 are so formed on the other surface of the substrate as to face the first mold pattern 40 and the second mold pattern 50, respectively.例文帳に追加

本発明のインプリントモールド１００は、基板１１の一方の面に第一モールドパターン４０と第二モールドパターン５０が形成され、基板の他方の面に前記第一モールドパターン４０と相対するように第一位相差補正用パターン４５が、前記第二モールドパターン５０と相対するように第二位相差補正用パターン５５がそれぞれ形成されている。 - 特許庁

The system consists of a function that receives the pattern allocated with the commodities, a storage device that records difference information when the unique shelf space allocation pattern is generated on the basis of the previous pattern received, and a pattern generator that generates unique shelf space allocation pattern for the pattern received this time, on the basis of the difference information recorded.例文帳に追加

商品を棚に割り当てたパターンを受信する手段と、前回の受信したパターンをもとに独特の棚割してパターンを作成したときの差分情報を記憶する手段と、受信した今回のパターンに対して、記憶した差分情報をもとに独特の棚割したパターンを作成する手段とを備えるように構成する。 - 特許庁

This aligning method of semiconductor integrated circuit includes a step by which aligning pattern data per a specified unit area is extracted from aligning pattern data inputted in an aligning device, and the aligning pattern data extracted and a dummy pattern data for every specified unit area are merged and the aligning processing of the aligning pattern data and the dummy pattern data merged is executed for every area.例文帳に追加

露光装置に入力した露光パターンデータから所定の単位領域毎の露光パターンデータを抽出し、抽出した露光パターンデータと、所定の単位領域毎のダミーパターンデータとをマージし、マージした露光パターンデータとダミーパターンデータとを単位領域毎に露光処理するステップとを有することを特徴とする半導体集積回路の露光方法。 - 特許庁

In the pattern dissolving method losing the pattern made of a solid pattern material dissolable with a prescribed solvent for manufacturing a mold, after embedding the pattern 7 into the gypsum 12, the solvent 15 having specific gravity larger than that of the pattern 7 is supplied from the lower part of the pattern 7 and made to flow out upward.例文帳に追加

鋳型を製造するために所定の溶剤で溶解し得る固形の模型材から作られた模型を消失させる模型消失方法において、模型７を石膏１２に埋没させた後に、模型７よりも比重の大きい溶剤１５を模型７の下方より供給して上方へ流出させることを特徴とする模型消失方法である。 - 特許庁

A coordinating exterior wall pattern application means 14 is provided for applying and displaying the selected coordinating exterior wall pattern 32 in another application area in an application pattern elevation displayed in an application pattern selective display part 9, by selecting one exterior wall pattern 32 from the plurality of coordinating exterior wall patterns 32 displayed in the exterior wall pattern display part 10.例文帳に追加

外壁柄表示部１０に表示された複数のコーディネート用の外壁柄３２の中から一つの外壁柄３２を選定することで貼分けパターン選定表示部９に表示された貼分けパターン立面図の中の他の貼付け区域に選定されたコーディネート用の外壁柄３２を貼付けて表示するコーディネート用外壁柄貼付け手段１４を設ける。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having good scratch resistance in a developer, excellent in resolution and tenting property, ensuring small variation in line width, providing a high-definition pattern, and excellent in adhesion to a substrate such as a substrate for printed wiring formation, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、線幅のバラツキが小さく、高精細なパターンが得られ、しかもプリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition or the like for inexpensively, easily and efficiently forming a resist cut-out pattern exceeding the exposure limit by a light source of an exposure apparatus, the pattern which is thickened uniformly, by a resist pattern thickening material regardless of directions or the pattern density of a resist pattern, and moreover without depending on the kind of the resist pattern thickening material.例文帳に追加

レジストパターンの方向、疎密差等に関係なく、しかもレジストパターン厚肉化材料の種類に依存することなく、該レジストパターン厚肉化材料により均一に厚肉化され、露光装置の光源における露光限界を超えて微細なレジスト抜けパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジスト組成物等の提供。 - 特許庁

In a method for making a photomask, a mask pattern 5 is divided into two in the scanning direction of a scanner, and a first division pattern portion 10, consisting of a Levenson type phase shift mask pattern, is formed in one divided region whereas a second division pattern portion 20 consisting of an auxiliary pattern type phase shift mask pattern is formed in the other divided region, thus forming a photomask 1.例文帳に追加

フォトマスク製作工程において、マスクパターン５がスキャナの走査方向で二分割され一方の分割領域にはレベンソン形位相シフトマスクパターンからなる第一分割パターン部１０が、他方の分割領域には補助パターン形位相シフトマスクパターンからなる第二分割パターン部２０が形成されたフォトマスク１が製作される。 - 特許庁

A code image generation part 113 generates a code image on the basis of the pattern data created by the first pattern data creation part 111 and the plurality of pattern data items created by the second pattern data creation part 112 and permuted.例文帳に追加

コード画像生成部１１３は、第１パターンデータ作成部１１１にて作成されたパターンデータおよび第２パターンデータ作成部１１２で作成され且つ並べ替えられた複数のパターンデータに基づいてコード画像を生成して出力する。 - 特許庁

Furthermore, the operation part compares the valve pattern for comparison with the error pattern corresponding to the range and the oil-liquid output part, and determines that there is an error in a valve position including the valve pattern for comparison corresponding to the error pattern corresponding to the range and the oil-liquid output part.例文帳に追加

そして、比較用バルブパターンと前記レンジ・油液出力部対応エラーパターンとを対比し、前記レンジ・油液出力部対応エラーパターンに対応する比較用バルブパターンを有するバルブの位置にエラーがあると判定する。 - 特許庁

To provide a mask pattern inspecting method for electron beam exposure, with which a position relation between a first complementary pattern and a second complementary pattern, which are formed by dividing an original mask pattern for electron beam exposure, by a cut line, is inspected on a computer.例文帳に追加

元の電子線露光用マスクパターンを切断線で分割して形成した第１の相補パターン及び第２の相補パターンの位置関係を計算機上で検査することができる電子線露光用マスクパターン検査方法を得る。 - 特許庁

After that, the left pattern and the right pattern are temporarily stopped (d), 'press' 03a is displayed on the side of the UFO character 03, and this is output by voice, thereby informing that the left pattern and the right pattern again vary to develop (e).例文帳に追加

その後、左図柄及び右図柄を仮停止させた後（ｄ）、ＵＦＯのキャラクタ０３の横に「プレス」０３ａと表示させると共に、これを音声出力して、左図柄及び右図柄が発展的に再変動することを報知する（ｅ）。 - 特許庁

When the first specific variation pattern decision table or the second specific variation pattern is set, a variation pattern with longer variation time is easily decided more than when the short-time variation pattern decision table is set.例文帳に追加

第１特定変動パターン決定テーブルまたは第２特定変動パターン決定テーブルがセットされているときは、時短変動パターン決定テーブルがセットされているときよりも、長い変動時間の変動パターンが決定されやすくなる。 - 特許庁

A paired X+branch pattern and X-branch pattern and Y+branch pattern and Y-branch pattern are formed in a shape wherein one side gradually increases in a projected area to an insulating substrate toward the one side and the other side gradually decreases.例文帳に追加

対となるＸ＋分岐パターンとＸ−分岐パターン、及びＹ＋分岐パターンとＹ−分岐パターンは、一方が一側に向かって絶縁基板への投影面積が漸次増加し、他方が漸次減少する形状に形成される。 - 特許庁

To provide a pattern forming method in which a sensitivity change of a pattern forming material due to a light source such as a safe light is suppressed, and which ensures excellent storage stability and allows efficient formation of a permanent pattern such as a wiring pattern with high definition.例文帳に追加

セーフライトなどの光源によるパターン形成材料の感度変化を良好に抑制し、保存安定性に優れ、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

No lane pattern is displayed when the lane pattern of a guide intersection coincides with a predetermined reference pattern because a driver can makes a decision using common sense, otherwise a lane pattern is displayed for the driver.例文帳に追加

案内交差点の車線パターンが所定の基準パターンに一致する場合には、運転者は常識で判断できるとして車線パターンの表示を行わず、基準パターンに一致しない場合には車線パターンを表示し、運転者に提示する。 - 特許庁

A plurality of alignment marks 4R for the coloring pattern of R, a plurality of alignment marks 4G for the coloring pattern of G, and a plurality of alignment marks 4B for the coloring pattern B are disposed on a mask 2 at different intervals for each coloring pattern.例文帳に追加

マスク２に、Ｒの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｒ、Ｇの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｇ、及びＢの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｂを、着色パターン毎に異なる間隔で設ける。 - 特許庁

A stamper 1 comprising a pattern whose protrusions/recesses are opposite to a wiring pattern is used to transfer the wiring pattern to at least a resin on the surface of a board 20, and a wiring pattern comprising a groove whose width is 30 μm or less is formed.例文帳に追加

配線パターンと凹凸が逆のパターンを備えたスタンパ１を用いて、基板２０の少なくとも表面にある樹脂に前記配線パターンを転写させることにより、溝幅が３０μｍ以下の溝を含む配線パターンを形成する。 - 特許庁

Thus, since the name related to the embroidery pattern can be displayed in the folder for preserving the embroidery pattern data, even without opening and confirming the embroidery pattern data, it can be judged whether the pattern is desired or not.例文帳に追加

このような構成では、刺繍模様データが保存されるホルダーに刺繍模様に関連した名前を表示させることができるので、刺繍模様データを開いて確認しなくても所望の模様であるかを確認することができる。 - 特許庁

Reproducibility of characters in the pattern can be improved, and gradation of pattern can also be maintained by reproducing the number of screen lines assigned to characters in the pattern with the number of screen lines being higher (higher resolution) than that of the pattern.例文帳に追加

絵柄部中の文字部に割り当てるスクリーン線数を、絵柄部のスクリーン線数より高い（高解像度）スクリーン線数で再現することで、絵柄中にある文字の再現性を向上させ、絵柄部の階調性を保つことができる。 - 特許庁

The plurality of pattern determining tables include a specific pattern determining table which sets variation time of the variation pattern to prescribed time and is set in a manner that the variation pattern with a specific performance is selected with a prescribed probability.例文帳に追加

複数のパターン決定テーブルには、変動パターンの変動時間が所定時間に設定されるとともに、特定の演出を伴う変動パターンが所定確率で選択されるように設定された特定パターン決定テーブルが含まれる。 - 特許庁

To provide a method of forming a circuit pattern which manufactures a fine circuit pattern with few blots efficiently at low cost without short circuit, and to provide the circuit pattern formed by that, and, further, to provide a laminate having such a circuit pattern.例文帳に追加

短絡が無く、滲みの少ない微細な回路パターンを効率的且つ安価に製造する回路パターン形成方法、並びにそれにより形成された回路パターン、さらに、このような回路パターンを有する積層体を提供する。 - 特許庁

A resist pattern 3a including hole patterns 6b and a hole pattern 6c is formed on a semiconductor substrate 1, and a resin-layer pattern 7a is buried selectively in the hole pattern 6c of a region C wherein its distributive density is made low relatively to others.例文帳に追加

半導体基板１上にホールパターン６ｂおよびホールパターン６ｃを含むレジストパターン３ａを形成し、ホールパターンの分布密度が相対的に疎な領域Ｃのホールパターン６ｃを樹脂層パターン７ａで選択的に埋め込む。 - 特許庁

To provide a pattern generator and capable of generating test pattern data by an interleave method without having to analyze or creating internal operations for pattern generation for each interleave operation, and to provide a pattern generating method.例文帳に追加

パターン生成のための内部演算をインターリーブ動作の各々に対して分析して作成しなくても、インターリーブ方式でテストパターンデータの生成が可能な半導体テストのためのパターン生成装置及びパターン生成方法を提供する。 - 特許庁

In the printed wiring board in which a required circuit pattern is formed on one surface, a jumper wire 14 is mounted in parallel to the specific wiring pattern 13 of the circuit pattern on another surface corresponding to the specific wiring pattern 13.例文帳に追加

一方の面に所望の回路パターンが形成されたプリント配線板において、この回路パターンの所定の配線パターン１３に対応する他方の面にこの所定配線パターン１３と並列にジャンパーワイヤー１４をマウントしたものである。 - 特許庁

The pattern film 100 includes: a first film 110 with a built-in first pattern array; and a second film 120 with a built-in second pattern array partially overlapping the built-in first pattern array, which is arranged on the first film 110.例文帳に追加

パターンフィルム１００は、第１パターンアレイが内蔵された第１フィルム１１０、及び第１フィルム１１０上に配置され前記第１パターンアレイと部分的に重なる第２パターンアレイが内蔵された第２フィルム１２０を含む。 - 特許庁

Then, when the power is restored, the CPU for the main control reads the pattern tables TP1-TP5 included in the backup information, and determines a variation pattern on the basis of the pattern tables TP1-TP5 when executing a pattern variation game.例文帳に追加

そして、主制御用ＣＰＵは、復電した際、バックアップ情報に含まれるパターンテーブルＴＰ１〜ＴＰ５を読み出し、図柄変動ゲームを実行する際、当該パターンテーブルＴＰ１〜ＴＰ５に基づき、変動パターンを決定するようにした。 - 特許庁

To provide a pattern measuring method and a pattern measuring apparatus capable of accurate measurement without lengthening measurement time in measuring a pattern shape by irradiating a periodical structure pattern with electromagnetic waves.例文帳に追加

周期的構造パターンに電磁波を照射してパターン形状を計測する場合に、計測時間を増大させることなく、高精度に計測することが可能なパターン計測方法およびパターン計測装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive pattern on a substrate that can form a wiring pattern without using photolithography and improve adhesion between a region on the substrate where the wiring pattern should be formed and the wiring pattern.例文帳に追加

フォトリソグラフィを用いずに配線パターンを形成することが可能で、基板上の配線パターンを形成すべき領域と配線パターンとの密着性を向上することができる基板上への導電パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal pattern forming method that forms a metal pattern by electroless plating technique, the method forming a pattern excellent in adhesion to a substrate and excellent in a fine line drawing property, and to provided the metal pattern formed by using the method.例文帳に追加

無電解めっき技術で金属パターンを形成する方法において基板との密着性が優れ、且つ細線描画性の優れた金属パターン形成方法とそれを用いて形成された金属パターンを提供することである。 - 特許庁

When performing signal processing for the image signals obtained from the pixels arranged in the check pattern, the image signals in the check pattern are converted into a square pattern after the signal processing of a filter coefficient is carried out by using a filter arranged in the check pattern.例文帳に追加

市松配列された画素から得られる画像信号を信号処理する場合、フィルタ係数が市松配列されたフィルタを用いて信号処理した後に、市松配列の画像信号を正方配列に変換する。 - 特許庁

The pressing direction detecting sensor comprises an approximately circular resistance film pattern 14, a first electrode pattern 13, and a conductive member 12 for electrically connecting the resistance film pattern to the first electrode pattern, when pressed.例文帳に追加

本発明の方圧方向検出センサは、略環状の抵抗膜パターン（１４）と、第１の電極パターン（１３）と、押圧されると前記抵抗膜パターンと前記第１の電極パターンとを電気的に接続する導電部材（１２）とを有する。 - 特許庁

A specific pattern which may form a peak in the transmitting data series is previously checked and stored in memories built in the pattern comparison circuits 15a, 15b and the specific pattern is compared with practical transmitting data to detect a pattern which may generate a peak.例文帳に追加

ピークとなるような送信データ系列の特定のパターンをあらかじめ調べてパターン比較回路１５ａ、１５ｂ内のメモリに記録しておき、実際の送信データと特定のパターンとを比較し、ピークが発生しうるパターン検出を行う。 - 特許庁

An auxiliary pattern 102 that diffracts exposure light, but is not transferred through the exposure is formed in a side of the main pattern 101 on the transmissive substrate 100, so as to interpose a light-transmitting portion between the auxiliary pattern and the main pattern 101.例文帳に追加

透過性基板１００上における主パターン１０１の側方には、露光光を回折させ且つ露光により転写されない補助パターン１０２が、主パターン１０１との間に透光部を挟むように設けられている。 - 特許庁

A first pattern 1 is formed on a substrate 3, and a layer 2 made of a material to be patterned is formed in the opening 4 of the first pattern 1, and then the first pattern 1 is removed to form a second pattern made of a material to be patterned.例文帳に追加

基板３上に第一のパターン１を形成し、その第一のパターン１の開口部４に被パターン材料からなる層２を形成し、その後、第一のパターン１を除去して被パターン材料からなる第二のパターンを形成する。 - 特許庁

On forming a second forming part, the second lower forming pattern 5 takes over the role of the first lower forming pattern 4, and the first lower forming pattern 4 returns to the initial position as the second lower forming pattern 5 performed previously.例文帳に追加

第２の成形部分を成形するにあたり、第２の下方成形型５が第１の下方成形型４の役割を引き継ぎ、第１の下方成形型４は、先に第２の下方成形型５が行ったようにして初期位置に戻る。 - 特許庁

When making a pattern by a travel duration pattern making device 12, the pattern is made on the basis of a result of filtering and normalizing or simulating the made pattern by a road traffic flow simulator.例文帳に追加

走行所要時間パターン作成手段１２によってパターンを作成する際、作成されたパターンをフィルタリングしたり、正規化したり、あるいは道路交通流シミュレータによりシミュレーションした結果に基づいてパターンを作成したりしている。 - 特許庁

A variation pattern determination means 115 selects one variation pattern from a plurality of kinds of variation patterns, and determines one variation pattern table from a plurality of variation pattern tables according to the determined kind of the symbol every time a special game is executed.例文帳に追加

変動パターン決定手段１１５は、複数種類の変動パターンからいずれかを選択するとともに、特別遊技の実行のたびに複数の変動パターンテーブルからいずれかを決定された図柄の種類に応じて決定する。 - 特許庁

Each time a spiral servo pattern to be used as a base pattern is switched, a correction value corresponding to the spiral servo pattern to be newly used as a base pattern is acquired from the correction table, and a phase of a servo write clock is adjusted.例文帳に追加

そしてベースパターンとして使用すべきスパイラルサーボパターンが切り替えられる度、新たにベースパターンとして使用すべきスパイラルサーボパターンに対応する補正値が補正テーブルから取得されてサーボライトクロックの位相が調整される。 - 特許庁

As a result, when it is the display pattern in which a background color is a light color (the display pattern in which the luminance of the background color is high), a display control part 76 changes it to the display pattern in which the background color is a deep color (the display pattern in which the luminance of the background color is low).例文帳に追加

その結果、背景色が薄色の表示パターン（背景色の輝度が高い表示パターン）であれば、表示制御部７６は背景色が濃色の表示パターン（背景色の輝度が低い表示パターン）に変更する。 - 特許庁

The first pattern 131 of the semiconductor element 100 is optimally operated on the basis of the CD of the first pattern 131, and the second pattern 132 is optimally operated on the basis of the CD of the second pattern 132.例文帳に追加

半導体素子１００の第１パターン１３１は第１パターン１３１のＣＤに基づいて最適の状態で駆動させられ、第２パターン１３２は第２パターン１３２のＣＤに基づいて最適の状態で駆動させられる。 - 特許庁

To provide a resin composition that can preferably maintain adhesiveness between a pattern image and a substrate with the pattern image formed thereon when the pattern image is formed, while maintaining water repellency and ink repellency on the upper face of the pattern image.例文帳に追加

パターン画像を形成した場合に、該パターン画像上面の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と該パターン画像が形成される基板との密着性を良好に保つことができる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To coat individual building panels with an uneven pattern by employing a coating pattern suitable for the uneven pattern with an excellent productivity, which panels are made by cutting a long sized panel with the uneven pattern at desired positions in the longitudinal direction.例文帳に追加

凹凸パターンを施した長尺パネルの長手方向の任意位置で切断してなる各建築パネルに対し、上記凹凸パターンに対応した塗装パターンで塗装を行う塗装手段を用い、生産性良く塗装可能にする。 - 特許庁

A processed layer pattern 4 is formed using an alternating phase shift mask, then ion implantation of an impurity is selectively carried out in the unnecessary pattern 4b to increase an etching rate of the unnecessary pattern 4b, after which the unnecessary pattern 4b is etched away.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスクを用いて被加工層パターン４を形成した後、不要パターン４ｂに選択的に不純物をイオン注入して不要パターン４ｂのエッチングレートを上げた後に、不要パターン４ｂをエッチングにより除去する。 - 特許庁

To provide a technology for accurately detecting the position of each pattern in a repeated pattern, even in an image of an object including fluctuation in a repeated pattern cycle or an object including disturbance unrelated to the repeated pattern.例文帳に追加

繰り返しパターンの周期に揺らぎを含む物体や、繰り返しパターンに無関係な外乱を含む物体の画像であっても、当該繰り返しパターンにおける個々のパターンの位置を正確に検出できるようにした技術を提供する。 - 特許庁