「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(217ページ目) - Weblio英語例文検索

When the recording of data is resumed, a reproducing pattern data corresponding to a pit pattern recorded in an optical disk 102 are reproduced, and a synchronizing pattern detecting circuit 121 detects the synchronizing pattern, and outputs a pre-complementation processing synchronizing signal.例文帳に追加

記録が再開される際には、光ディスク１０２に記録されているピットパターンに対応した再生パターンデータが再生され、同期パターン検出回路１２１は同期パターンを検出して補完処理前同期信号を出力する。 - 特許庁

A structure is formed in which the first metallic pattern and the second metallic pattern are arranged spirally from the top face of the main substrate, while being spirally connected along the disposal of the spiral shape by alternately connecting the first metallic pattern and the second metallic pattern.例文帳に追加

第１の金属パターンと第２の金属パターンをバンプで、交互に接続することにより、主基板上面から見て渦巻状に配置されるとともに、その渦巻状の配置に沿って、螺旋状に接続する構造となる。 - 特許庁

To provide a pattern data high-speed drawing method of large-scale pattern data for rapidly and rationally drawing large-scale pattern data expressed by XY coordinate on a display device, and a pattern data high-speed drawing device suitable for the execution of the method.例文帳に追加

ＸＹ座標で表現される大規模図形データを、ディスプレイ装置上に迅速かつ合理的に描画する大規模図形データ高速描画方法および該方法の実行に適する図形データ高速描画装置を提供する。 - 特許庁

The pattern formation layer 2a can be cured by irradiating an ionization radiation to the pattern formation layer 2a which is formed on the irregular pattern of the mold 5 by using a PTFE dispersant to the pattern formation layer 2a being a transfer part 2.例文帳に追加

転写部２となるパターン形成層2aにPTFE分散液を用いたことにより、モールド５の凹凸パターン上に形成したパターン形成層2aに対し電離放射線を照射することで、当該パターン形成層2aを硬化させることができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method with which a fine pattern can be formed with high definition, productivity upon pattern formation can be improved, and a prescribed pattern can be formed in a photosensitive composition with high resolution.例文帳に追加

微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A character for comparison which should be compared with the binary pattern is coded to generate a standard pattern having standardized-width bars and spaces, and corresponding places of the binary pattern and standard pattern are outputted in parallel.例文帳に追加

また該２値化パターンと比較すべく比較用のキャラクタをコード化し、バー及びスペースが規格通りの幅である標準パターンを生成して、２値化パターン及び標準パターンの夫々対応する箇所を並列させて出力する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a step for thickening a resist pattern by coating the surface of the pattern with the thickening material after forming the pattern on an underlayer and a step for patterning the underlayer by etching through the pattern.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該パターンを厚肉化する工程と、該パターンを用いてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

After an ArF resist pattern is formed, the space and opening size of the pattern are reduced by temporarily reducing T_g of the resist pattern by the irradiation of a VUV excimer laser or of the E beam irradiation during the thermal treatment of the resist pattern.例文帳に追加

ＡｒＦレジストパターンを形成した後、レジストパターンを熱処理する間にＶＵＶエキシマレーザーからの照射またはＥビーム照射により露光してレジストパターンのＴ_ｇを一時的に低めてパターンのスペース及び開口サイズを縮める。 - 特許庁

To provide a semiconductor testing apparatus capable of concurrently generating an expectation value pattern and a determination mask pattern using pattern data stored in a pattern memory, thereby enhancing the flexibility in creating a test program and the efficiency of test.例文帳に追加

パターンメモリに記憶されたパターンデータを用いて期待値パターンと判定マスクパターンとを同時に生成することができ、これにより試験プログラム作成の自由度及び試験効率を高めることができる半導体試験装置を提供する。 - 特許庁

Though the winding route of the many turn-side coil pattern 3L is almost fixed and the degree of freedom for design of the pattern 3L is low, the degree of freedom for setting the winding route of the less-turn side coil pattern 3L becomes higher accordingly to the reduced number of turns of the pattern 3S.例文帳に追加

多ターン側コイルパターン３Ｌの巻回経路はほぼ定まってしまい、その設計の自由度は低いのに対して、少ターン側コイルパターン３Ｓは、巻回数が少ない分、その巻回経路の設定の自由度は高くなる。 - 特許庁

A control device 10 is connected to the intersection detection part 5 and a light distribution pattern storage part 11, and upon detecting the intersection, switches the light distribution pattern of the head lamps 3 from an ordinary light distribution pattern to a limited light distribution pattern.例文帳に追加

制御装置１０は、交差点検出部５と配光パターン記憶部１１とに接続され、交差点の検出を契機に、前照灯３の配光パターンを通常配光パターンから限定配光パターンに切り替える。 - 特許庁

There is so provided a lead frame 41, wherein a circuit pattern 43 having the shape corresponding to the power pattern 2 is connected with the peripheral portion comprising a frame-form portion 49 as to superimpose it fixedly on the power pattern 2, and as to cut off the frame-form portion 49 from the fixed circuit pattern 43.例文帳に追加

一方、パワーパターン２に対応した形状を有する回路パターン43を、周囲部である枠状部49に繋げてなるリードフレーム41を備え、パワーパターン２に重ね合せて固着した回路パターン43から、枠状部49を切り離す。 - 特許庁

In a power application, one movement pattern is selected out of the regular movement patterns and determined as the movement pattern of the movable body 4 and, when a specific game condition is satisfied, the prize movement pattern becomes selectable as the movement pattern of the movable body 4.例文帳に追加

電源投入時、通常動作パターンから一の動作パターンを選択して可動体４の動作パターンとして決定し、特定の遊技条件成立時、特典動作パターンを可動体４の動作パターンとして選択可能とする。 - 特許庁

The deviation information pattern insertion device 2 inserts deviation information pattern 106 of a deviation information pattern storage section 5 to a processed image 102 resulting from the received image 101 to which the electronic watermark pattern is inserted and externally provides an output of the result.例文帳に追加

ずれ情報パターン挿入器２は挿入強度情報１０４にしたがって、電子透かしパターンが挿入された処理画像１０２に、ずれ情報パターン格納部５のずれ情報パターン１０６を挿入して外部に出力する。 - 特許庁

The processing circuit further selects an approximating geometric pattern, such as a sphere, ellipsoid, ellipse, or circle, determines an error metric of the data points relative to the approximating pattern, adjusts the pattern to minimize the error, thereby acquiring a best fit pattern.例文帳に追加

処理回路は、更に、球、楕円体、楕円、又は円のような近似用幾何学パターンを選択し、近似用パターンに対するデータ点の誤差測定距離を求め、誤差を最小にするようにパターンを調節し、最良適合パターンを得る。 - 特許庁

To provide method and programs for pattern displacement analysis, pattern correction, and stencil mask manufacture which can quickly and accurately correct the position of a pattern aperture by quickly and accurately analyzing the displacement of the pattern aperture.例文帳に追加

パターン開口の変位を高速かつ精度良く解析することにより、パターン開口の位置を高速かつ精度良く補正することができるパターン変位解析方法、パターン補正方法、ステンシルマスクの製造方法およびプログラムを提供する。 - 特許庁

A mask pattern having a line width below a stipulated value is selected from mask patterns each projecting from an element region, the distance from the selected mask pattern to an adjacent pattern is calculated and the mask pattern is corrected corresponding to the distance.例文帳に追加

素子領域から突き出すマスクパターンのうち規定値以下になる線幅を有するマスクパターンが選択された後、このマスクパターンに隣り合うパターンまでの距離が算出され、この距離に応じてマスクパターンに補正が施される。 - 特許庁

In this pattern forming method, a first mask pattern 320A is formed in a first region A by patterning a dual mask layer on a substrate 300, and a second mask pattern 320B which is wider than the first mask pattern 320A is formed in a second region B.例文帳に追加

基板３００上のデュアルマスク層をパターニングして第１領域Ａには第１マスクパターン３２０Ａを形成し、第２領域Ｂには第１マスクパターン３２０Ａより幅広である第２マスクパターン３２０Ｂを形成する。 - 特許庁

The resist pattern 3 and the coating layer 4 are heat treated to form a modified layer 5 insoluble with a developing solution on the surface of the resist pattern 3, and then developed to obtain a pattern having the modified layer 5 on the resist pattern surface.例文帳に追加

レジストパターン３及び被覆層４を加熱処理することにより、レジストパターン３の表面に現像液不溶性の変性層５を形成し、現像することによりレジストパターン表面に変性層５を有するパターンを得る。 - 特許庁

When someone has rights to copy a printed matter (Step S15/YES), a background pattern generating part generates image data of the same background pattern as a missing background pattern based on information to specify a background pattern (Step S16).例文帳に追加

印刷物を複写する権限がある場合（ステップＳ１５／ＹＥＳ）、背景パターン生成部は、背景パターンを特定する情報に基づき、欠落した背景パターンと同一の背景パターンの画像データを生成する（ステップＳ１６）。 - 特許庁

The insulating resin is exposed by a divided exposure method with different masks for the non-separated pattern and for the separated pattern, and the non- separated pattern is exposed to specified quantity of light by 20 to 80% of the exposure light quantity for the separated pattern.例文帳に追加

絶縁性樹脂の露光は、非分離パターンと分離パターンを異なるマスクに配置した分割露光により行い、非分離パターンを分離パターンの露光量に対して２０〜８０％内の所定の露光量で露光する。 - 特許庁

A test pattern for pattern dependency test is stored in the BIST 4, and a test pattern for timing dependency test is stored in the BOST 3, and the pattern dependency test and the timing dependency test are performed by using the BOST 3 and the BIST 4.例文帳に追加

パターン依存試験用試験パターンがＢＩＳＴ４に格納され、タイミング依存試験用試験パターンがＢＯＳＴ３に格納されて、ＢＯＳＴ３及びＢＩＳＴ４を使用して、パターン依存試験及びタイミング依存試験が行われる。 - 特許庁

Also, whether the pattern information included in the read automatic performance data should be used as it is or pattern information obtained by converting the pattern information should be used is switched, and automatic accompaniment is performed in a performance style corresponding to the pattern information.例文帳に追加

また、読み出された自動演奏データに含まれるパターン情報をそのまま使用するか又は該パターン情報を変換したパターン情報を使用するかを切り替えて、該パターン情報に応じた演奏スタイルで自動伴奏を行う。 - 特許庁

From the XML schema document, an operation pattern interpretation program is automatically prepared (S6), and the operation pattern of the XML document and the operation pattern interpretation program are automatically developed into operation pattern data usable in the automatic operation system (S7).例文帳に追加

ＸＭＬスキーマ文書から運転パターン解釈プログラムを自動作成し（Ｓ６）、ＸＭＬ文書の運転パターンと運転パターン解釈プログラムから自動運転システムで利用可能な運転パターンデータに自動展開する（Ｓ７）。 - 特許庁

To provide a pattern verifying method, used in a double patterning method in which after a first pattern is formed in a film to be processed, a second pattern is formed in the film to be process, verifying a pattern in consideration of a superposition error.例文帳に追加

被加工膜に第１のパターンを形成してから被加工膜に第２のパターンを形成するダブルパターニング法に用いられ、重ね合わせ誤差を考慮してパターンを検証することができるパターン検証方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate luster of the surface while color tone of a pattern is held in a molded article prepd. by providing the pattern on the surface and forming a pattern protective layer by applying a surface coating in which a varnish is a main ingredient on this pattern.例文帳に追加

表面に模様を付し、この模様上にワニスを主成分とする表面コート剤を塗布して模様保護層を形成してなる成形品において、かかる模様の色調を保持しつつ表面の光沢を消さんとする。 - 特許庁

A correction pattern comprising lines parallel to the moving direction is formed on the scale in addition to a slanting pattern for moving position detection, and the position detected by detection of the slanting pattern is corrected by using information acquired by detection of the correction pattern.例文帳に追加

移動位置検知用の傾斜パターンに加えて移動方向に平行な線からなる補正パターンをスケール上に形成し、傾斜パターンの検知により検知された位置を補正パターンの検知により得られた情報を用いて補正する。 - 特許庁

The integrated test pattern is generated by generating a pattern for merge to properly connect plural test patterns and simultaneously merging the test pattern for merge into the plural test patterns based on condition information by the test pattern generating part 17.例文帳に追加

テストパタン生成部１７は、条件情報に基づいて、複数のテストパタンを適正に接続するためのマージ用パタンを生成すると共に、該マージ用パタンと複数のテストパタンとをマージして、一体化したテストパタンを生成する。 - 特許庁

On a substrate, solution containing fine particles is ejected with an action force by mechanical displacement to form a rectangular pattern or to form an electrode pattern by combining the rectangular patterns wherein the corner part of the pattern is covered with a dot pattern.例文帳に追加

基板上において、機械的変位による作用力で微粒子含有溶液を噴射させて、矩形パターンもしくは矩形パターンの組み合わせにより構成される電極パターンのコーナー部をドットパターンにより被覆するように打ち込む。 - 特許庁

If a pattern variably displayed by a judging pattern display device 83 is a prescribed pattern, the right open/ close member 31 and the left open/close member 32 make motion in a prescribed opening pattern after a jackpot game is finished.例文帳に追加

また、判定図柄表示装置８３によって変動表示された図柄が所定の図柄である場合は、大当り遊技終了後に右開閉部材３１および左開閉部材３２が所定の開放パターンで動作する。 - 特許庁

A discharge pattern in the coating guns 16a and 16b and a discharge pattern in the coating guns 16c and 16e interfere with each other, and the discharge pattern of the coating gun 16e interferes with the discharge pattern in the coating guns 16a-16e.例文帳に追加

塗装ガン１６ａ、１６ｂにおける吐出パターンと塗装ガン１６ｃ、１６ｄにおける吐出パターンとは互いに干渉し、且つ塗装ガン１６ｅの吐出パターンは塗装ガン１６ａ〜１６ｄにおける吐出パターンに干渉する。 - 特許庁

A use pattern information storage means extracts use pattern information indicating a pattern of use of a legitimate user from a history of use information including functions used in the past and situations during use, and stores this use pattern information in advance.例文帳に追加

利用パターン情報記憶手段は、過去に利用された機能および利用時の状況を含む利用情報の履歴から、正規ユーザーの利用パターンを表す利用パターン情報を抽出し、その利用パターン情報を予め記憶する。 - 特許庁

The dummy conductor pattern 12 is caused to prevent the formation region of the lead-out conductor pattern 7 from falling from the formation region of the main conductor pattern 5, and damages of the lead-out conductor pattern 7 caused by the falling can be avoided.例文帳に追加

ダミー導体パターン１２によって、メイン導体パターン５の形成領域に対する引き出し導体パターン７の形成領域の落ち込みが防止されて、その落ち込みに起因した引き出し導体パターン７の損傷を回避できる。 - 特許庁

As the patterns which are visible through the pattern display window 72 when the rotation of each rotary reel 40 is stopped, there are an on-line pattern 90 positioned on a prize-winning line 80 and an out-of-upper-line pattern 91 which is positioned on the upside of the on-line pattern 90.例文帳に追加

各回転リール40の回転が停止した際に図柄表示窓72を通して視認可能な図柄には、入賞ライン80上に位置するライン上図柄90と、ライン上図柄90の上側に位置する上ライン外図柄91とがある。 - 特許庁

To properly search a Mahalanobis distance calculating pattern characteristics quantity, suitable for a pattern classifying process so as to provide a search process for a pattern characteristic quantity weighing matrix assigning weights to a pattern feature quantity used for calculating the Mahalanobis distance.例文帳に追加

パターン分類処理に好適なマハラノビス距離算出用パターン特徴量を最適探索して、マハラノビス距離算出に利用するパターン特徴量に重み付けするパターン特徴量重み付け行列の探索処理を持つようにする。 - 特許庁

The controller further includes an upward slope gear shift control unit performing the upward slope control on the basis of the gear shift pattern selected by the gear shift pattern selecting unit or the gear shift pattern changed by the gear shift pattern changing unit.例文帳に追加

制御装置は更に、変速パターン選択ユニットにより選択された変速パターン又は変速パターン変更ユニットにより変更された変速パターンに基づいて、登坂制御を行う登坂変速制御ユニットを含んでいる。 - 特許庁

When a main CPU 112 determines that a power source is recovered (S80: Yes), it transmits a waiting display command to a special pattern display device (S82) and transmits a pattern designation command designating a stopping pattern to the special pattern display device (S84).例文帳に追加

メインＣＰＵ１１２は、電源復帰と判定すると（Ｓ８０：Ｙｅｓ）、待機中表示コマンドを特別図柄表示装置へ送信し（Ｓ８２）、停止図柄を指定する図柄指定コマンドを特別図柄表示装置へ送信する（Ｓ８４）。 - 特許庁

A scan line halftone pattern writing section 74 receives a parameter such as a value of a coordinate Y for plotting an image, reads the halftone pattern corresponding to the coordinate Y for plotting the image from the main memory 54, and then sequentially writes the halftone pattern to a scan line halftone pattern memory section 76.例文帳に追加

スキャンラインハーフトンパターン書込部７４は，描画のＹ座標値などのパラメータを受け取り，メインメモリ５４から描画するＹ座標に対応するハーフトンパターンを読み込み、スキャンラインハーフトンパターン記憶部７６へ順次書き込む。 - 特許庁

Further, development video moving image data for starting variable display from the pattern of the same kind as the tentatively stop-displayed center pattern and performing stop display at the kind of the pattern specified by (information relating to) the final stop pattern are displayed (S1304, S1306, S1309, S1311).例文帳に追加

さらに、一旦停止表示された中図柄と同種の図柄から変動表示を開始し最終停止図柄（に関する情報）で指定された図柄の種類で停止表示を行う発展映像動画データを表示させる（Ｓ１３０４，Ｓ１３０６，Ｓ１３０９，Ｓ１３１１）。 - 特許庁

Accordingly, in the case that the number of starting held balls is four, the patterns of the respective lines of the pattern display device are simultaneously stopped on the basis of a simultaneous stop variable pattern earlier than the stop timing of a final pattern in a successive stop variable pattern.例文帳に追加

従って、始動保留球数が４の場合、図柄表示装置の各列の図柄は、順次停止変動パターンで最終図柄が停止するタイミングよりも早い同時停止変動パターンに基づいて同時に停止する。 - 特許庁

To provide a composition for nano imprint excellent in pattern formability and mold releasability, can form a good pattern, and give a pattern after the etching that is small in line edge roughness, and to provide a pattern and a patterning method using this.例文帳に追加

パターン形成性およびモールド剥離性に優れ、良好なパターンが形成でき、かつエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターンおよびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The third conductive pattern has a small line width that can be removed by etching, and can be disposed in a region where the conductive pattern is not formed, and thereby, the third conductive pattern can prevent dielectric breakdown caused by discharge between figure patterns when the mask pattern is charged.例文帳に追加

第３導電性パターンはエッチングで除去可能な細い線幅を有し、導体パターンが形成されない領域に配置できるため、マスクパターンの帯電時に図形パターン間の放電による静電破壊を防止可能となる。 - 特許庁

When a -/retreat key of the operation panel 22 is operated, the CPU 11 accesses the information data relating to the pattern number one before and displays the ROM number and the pattern number together when the sewing pattern is present at the pattern number.例文帳に追加

操作パネル２２の−／後退キーが操作されると、ＣＰＵ１１は、１つ前のパターン番号に関する情報データへのアクセスを行い、当該パターン番号に縫製パターンが存在すれば、ＲＯＭ番号とパターン番号を併せて表示する。 - 特許庁

In a fluctuating display pattern showing whether a display mode, when three left, middle, and right display patterns (including character pattern) are fluctuated and stopped, is a big win or a failure, at first, the left pattern and the right pattern are temporarily stopped (S302 and S304).例文帳に追加

左、中、右の３つの表示図柄（キャラクタ図柄を含む）が変動し、停止したときの表示態様が大当たりかハズレかを示す変動表示パターンにおいて、まず、左図柄及び右図柄を仮停止させる（Ｓ３０２、Ｓ３０４）。 - 特許庁

If a property of the copy-forgery-inhibited pattern assigned to the confidentiality level is found (S5103), information indicating the found property of the copy-forgery-inhibited pattern is stored as copy-forgery-inhibited pattern property information, and printing is performed in accordance with the assigned property of the copy-forgery-inhibited pattern (S5104).例文帳に追加

出得した地紋設定に該当する地紋設定があるときは（Ｓ５１０３）、その該当する地紋設定を地紋印刷情報として格納し、割り付けられた地紋設定を用いて以降の印刷処理を行う（Ｓ５１０４）。 - 特許庁