「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(213ページ目) - Weblio英語例文検索

A first metallic pattern composed of a plurality of metallic pattern pieces is arranged and formed spirally on a main substrate.例文帳に追加

主基板上に複数の金属パターン片からなる第１の金属パターンを渦巻状に配置、形成する。 - 特許庁

To provide, inexpensively and with good manufacturing efficiency, a display tag whose pattern part appears to be raised from a non-pattern part.例文帳に追加

図柄部分が非図柄部分より浮き上がって見える表示タグを、安価にかつ生産効率良く、提供する。 - 特許庁

A printed wiring board 20 comprises: a U-shaped conductive pattern 21 with a predetermined length, and a conductive pattern 22.例文帳に追加

プリント配線基板２０は、所定の長さでコ字状の導電パターン２１と、導電パターン２２とを有する。 - 特許庁

RESIST PATTERN THICKENING MATERIAL, RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AS WELL AS SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

レジストパターン厚肉化材料、レジストパターン及びその製造方法、並びに、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

PHOSPHOR PATTERN FORMING COMPOSITION AND FORMING METHOD OF PHOSPHOR PATTERN TO PLASMA DISPLAY PANEL BACK PLATE例文帳に追加

蛍光体パターン形成用組成物およびプラズマディスプレイパネル用背面板への蛍光体パターンの形成方法 - 特許庁

By introducing the image of a first pattern into an energy-sensitive material layer, a desired pattern is formed.例文帳に追加

所望のパターンを、第１のパターンの像をエネルギー感応性材料層中に導入することによって形成する。 - 特許庁

To suppress a resist pattern from trailing on a resist-substrate interface in forming a chemical sensitized resist pattern.例文帳に追加

化学増幅型レジストパターンを形成する際のレジスト−基板界面におけるレジストパターンの裾引きを抑制する。 - 特許庁

a sonnet consisting of an octave with the rhyme pattern abbaabba, followed by a sestet with the rhyme pattern cdecde or cdcdcd 例文帳に追加

abbaabbaという押韻形式の八行連句の後にcdecdeまたはcdcdcdという押韻形式の六行連句が続くソネット - 日本語WordNet

A protruding pattern of a mold forms a groove in a thin polymer film and the polymer film obtains a reversed mold pattern.例文帳に追加

モールドの突出パターンは薄いポリマーフィルムに溝を形成し、ポリマーフィルムはモールドのパターンの反転したものを得る。 - 特許庁

Next, recesses 6 are formed in the oxide film 4 by using a photoresist having a pattern reverse to the above pattern as a mask.例文帳に追加

次に、上記パターンの反転パターンを有するフォトレジストをマスクとして、酸化膜４に凹部６を形成する。 - 特許庁

DETECTION SYSTEM FOR SPECIFIC SIGNAL PATTERN FROM MULTI-AXIS SENSOR AND DETECTION METHOD FOR SPECIFIC SIGNAL PATTERN FROM MULTI-AXIS SENSOR例文帳に追加

複軸センサからの特定信号パターン検出システム、複軸センサからの特定信号パターン検出方法 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTING METHOD, PHOTOMASK, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM STORED WITH MASK PATTERN CORRECTING PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン補正方法、フォトマスク及びマスクパターン補正方法プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

The patterning device is configured to pattern a beam of radiation according to a desired pattern.例文帳に追加

このパターン形成装置は、所望のパターンに従って放射ビームにパターンを形成するように構成されている。 - 特許庁

CIRCUIT PATTERN FORMING METHOD AND CIRCUIT PATTERN FORMING MODULE, AND MOUNTING MODULE MANUFACTURING METHOD AND MOUNTING MODULE例文帳に追加

回路パターン形成方法および回路パターン形成モジュール並びに実装モジュール製造方法および実装モジュール - 特許庁

The auxiliary layer 60 is a negative pattern of the electrode pattern 70 and has a gap g1 around the electrode 71.例文帳に追加

補助層６０は電極パターン７０のネガティブパターンであって、電極７１の周りに隙間ｇ１を有している。 - 特許庁

The result of the drawing is displayed at the pattern display means 115 by the combination of the plurality of pattern columns.例文帳に追加

当該抽選結果は、複数の図柄列の組み合わせにより図柄表示手段１１５に表示される。 - 特許庁

Thereby, the conductive layer pattern 122 can be utilized as a buried wiring of the semiconductor pattern 104.例文帳に追加

これにより、導電層パターン１２０は、半導体パターン１０４の埋め込み配線として利用することができる。 - 特許庁

To provide a multilayer molded body having a feeling of a three-dimensional deep rugged pattern, especially a metallic pattern.例文帳に追加

深みのある立体的凹凸感模様、特にメタリック調模様を有する多層成形体を提供すること。 - 特許庁

The user transferring destination generates the gap pattern from the gap pattern phase information informed from the user resource transferring source.例文帳に追加

ユーザリソース移動先はユーザリソース移動元から通知されたギャップパターン位相情報からギャップパターンを生成する。 - 特許庁

The leg pattern editor comprises a walking pattern generator and a motion stabilizer which are the same as those loaded in the real robot.例文帳に追加

脚軌跡エディタは、実ロボットに搭載されているものと同じ歩行パターン・ジェネレータとモーション・スタビライザを備える。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン補正方法、マスクパターン補正プログラム、フォトマスクの作製方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

The photosensitive film pattern is formed using a mask having a slit pattern in a area corresponding to the second portion.例文帳に追加

この感光膜パターンは、第２部分に対応する領域にスリットパターンを有するマスクを用いて形成する。 - 特許庁

To provide a pattern-processing machine capable of patterning a typical pattern simply, rapidly and in a large amount.例文帳に追加

定型的な模様を簡単にかつ高速でしかも大量に付することができる模様付加工機を提供する。 - 特許庁

The wiring pattern 22a and a dummy pattern 22b not used as wiring are formed on the resin film 23.例文帳に追加

樹脂フィルム２３上に配線パターン２２ａに加えて、配線として利用されないダミーパターン２２ｂを設ける。 - 特許庁

To prevent the iris pattern of artificial eyes or photographs from being erroneously verified as the iris pattern of a registerer.例文帳に追加

義眼や写真の虹彩パターンを登録者の虹彩パターンであると誤認証することがないようにする。 - 特許庁

Next, an organic ultrathin film pattern 41 having an opening 4b is formed on the thin SiO_2 film pattern 3.例文帳に追加

次に、ＳｉＯ_2薄膜パターン３の上に、開口部４ｂを有する有機極薄膜パターン４１を形成する。 - 特許庁

Furthermore, a P electrode 21 is in contact with the conductor pattern 2a and an N electrode 22 is in contact with the conductor pattern 2b.例文帳に追加

Ｐ電極２１は導体パターン２ａに接触し、Ｎ電極２２は導体パターン２ｂに接触している。 - 特許庁

Then, development is applied to the resist film having undergone the pattern exposure, and a resist pattern is formed from the resist film.例文帳に追加

続いて、パターン露光が行われたレジスト膜に対して現像を行って、レジスト膜からレジストパターンを形成する。 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING DEVICE, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE FORMING METHOD例文帳に追加

レジストパターン形成装置およびその形成方法、および、当該方法を用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

To reduce defects in a resist pattern when reducing the size of the resist pattern by using the RELACS technology.例文帳に追加

ＲＥＬＡＣＳ技術を用いてレジストパターンの寸法を縮小する際に、レジストパターンの欠陥を低減する。 - 特許庁

Next, pattern data for a charge-up countermeasure necessary for charge up is extracted from the layout pattern data (S2).例文帳に追加

次に、前記レイアウトパターンデータからチャージアップ対策に必要なチャージアップ対策用パターンデータを抽出する（Ｓ２）。 - 特許庁

METHOD FOR CREATING PATTERN DATA, METHOD FOR CREATING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD AND PROGRAM FOR CREATING PATTERN例文帳に追加

パターンデータ作成方法、マスク作成方法、半導体装置の製造方法、パターン作成方法及びプログラム - 特許庁

To detect a specific signal pattern before detecting a pilot symbol, and to perform frequency estimation from the pattern.例文帳に追加

パイロットシンボルを検出する前に特定の信号パターンを検出し、そのパターンより周波数推定を行う。 - 特許庁

Difference between the altered original design pattern and the objective pattern is extracted and a plus/minus correction layer is produced.例文帳に追加

この変更後のオリジナル設計パターンと目標パターンとの差異を抽出し、プラス・マイナス補正レイヤーが作成される。 - 特許庁

The reference wavefront 10 and the inspected wavefront 11 form an interference pattern on an interference pattern imaging unit (CCD) 9.例文帳に追加

参照波面１０と被検波面１１は、干渉縞撮像装置（ＣＣＤ）９上に干渉縞を形成する。 - 特許庁

To form a next layer circuit pattern with higher positional accuracy in relation to a circuit pattern already formed.例文帳に追加

既に形成された回路パターンに対し、次の層の回路パターンの位置を精度良く形成できるようにする。 - 特許庁

PRINTED WIRING BOARD MASK PATTERN ASSEMBLY PICTURE PREPARING DEVICE AND PRINTED WIRING BOARD MASK PATTERN ASSEMBLY PICTURE DISPLAY METHOD例文帳に追加

プリント配線板マスクパターン面付図面作成装置およびプリント配線板マスクパターン面付図面の表示方法 - 特許庁

To estimate a feature pattern corresponding to an observation from a pattern of an observation target at extremely reduced calculation costs.例文帳に追加

観測対象のパターンから、観測に対応する特徴パターンを格段に少ない計算コストで推定すること。 - 特許庁

The time shortening control in the ordinary pattern games is ended when the frequency of the special pattern game reaches 30 during the period.例文帳に追加

普図ゲームでの時短制御は、その間に行われた特図ゲームの回数が３０回になると終了する。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING GRAPHIC PATTERN FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR EXTRACTING GRAPHIC PATTERN例文帳に追加

半導体装置用図形パターンの補正方法、半導体装置の製 造方法および図形パターンの抽出方法 - 特許庁

RESIST PATTERN SWELLING MATERIAL, MICROSCOPIC PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

レジストパターン膨潤化材料およびそれを用いた微小パターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

PATTERN ELECTRODE JOINTING STRUCTURE USING ULTRAVIOLET RAY, AND METHOD OF JOINTING PATTERN ELECTRODE USING THE SAME例文帳に追加

紫外線を用いたパターン電極の結合構造および同じものを用いてパターン電極を結合する方法 - 特許庁

To stably detect a correction pattern even when the toner density in the correction pattern and the reflectance of the belt surface are fluctuated.例文帳に追加

補正パターンのトナー濃度やベルト表面の反射率が変化しても安定して補正パターンを検知すること。 - 特許庁

The signal waveform of the electric signal of a liquid crystal pattern layout is drawn in conformation to the liquid crystal pattern layout.例文帳に追加

液晶用パターンレイアウトに対応してこの液晶用パターンレイアウトの電気信号の信号波形を描画する。 - 特許庁

The pattern for calibration of the lens is created according to a method of creating the pattern for calibration of the lens.例文帳に追加

また、レンズのキャリブレーション用パターンを、上述したレンズのキャリブレーション用パターン作成方法により作成する。 - 特許庁