「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(215ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of forming a protection layer on a photoresist pattern, and to provide a method of forming a fine pattern using the above method.例文帳に追加

フォトレジストパターン用保護膜の形成方法及びこれを用いた微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for calculating a resist pattern using a computer to improve calculation accuracy of the resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンの算出精度を向上させる、コンピュータを用いてレジストパターンを算出する方法を提供する。 - 特許庁

To improve overlapping accuracy of an exposure pattern with respect to a reference pattern of a substrate coated with a photosensitive resin.例文帳に追加

感光性樹脂を塗布した基板の基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上する。 - 特許庁

Characteristically, this mosaic pattern display device is provided with a mosaic pattern display means for mosaicking the arbitrary region of an image to be displayed.例文帳に追加

表示する画像の任意の領域をモザイク化するモザイク模様表示手段を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

After that, the pattern forming plate is separated from the base material, and a pattern by the cured ink is formed on the surface of the base material.例文帳に追加

この後、パターン形成版を基材から離し、基材表面にインキの硬化物によるパターンを形成する。 - 特許庁

The mask pattern of a phase shift mask has a light shielding pattern and first and second transmitting patterns which transmit exposure light.例文帳に追加

位相シフトマスクのマスクパターンを、遮光パターンと、露光光を透過する第１、第２の透過パターンとから構成する。 - 特許庁

Upper surfaces of the pattern 77 and the pattern 78 are disposed on the same plane.例文帳に追加

第１転移パターン７７及び第２相転移パターン７８の上部表面は同一平面上に配置される。 - 特許庁

For example, if the lighting pattern is A, the presentation D is executed, and if the lighting pattern is B, the presentation E is executed.例文帳に追加

例えば点灯パターンがＡならば演出Ｄを実行し、点灯パターンがＢならば演出Ｅを実行する。 - 特許庁

The second region is covered with the mask pattern and the sidewall spacer on the sidewall of the first gate mask pattern is removed.例文帳に追加

第２の領域を、マスクパターンで覆い、第１のゲートマスクパターンの側壁上のサイドウォールスペーサを除去する。 - 特許庁

A line sensor 45 of a check pattern read part measures a density of each pixel P of the head state check pattern 47.例文帳に追加

チェックパターン読取部のラインセンサ４５により、ヘッド状態チェックパターン４７の各画素Ｐの濃度を測定する。 - 特許庁

To provide a method by which a fine pattern can be formed without using a resist pattern formed by a complicated process.例文帳に追加

煩雑な工程で形成されるレジストパターンを用いずに微細なパターンを形成し得る方法を提供する。 - 特許庁

When the light propagating inside the display plate 55 falls on the pattern 60, it is diffused so that the pattern 60 alone emits the light.例文帳に追加

表示プレート５５内を伝播する光が模様６０に当たると拡散し、模様６０のみが発光する。 - 特許庁

APPARATUS OF FORMING MASK PATTERN, APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING HIGH-RESOLUTION MASK AS WELL AS METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの作成装置、高解像度マスクの作製装置及び作製方法、並びにレジストパターン形成方法 - 特許庁

The composition for microfabrication of a resist pattern is used in a resist pattern forming method including steps of applying a composition for microfabrication of a resist pattern on a resist pattern formed by using a radiation-sensitive resin composition, and baking, followed by cleaning to microfabricate the resist pattern, and the composition contains an acidic low-molecular weight compound and a solvent that does not dissolve the resist pattern.例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物を用いて形成したレジストパターン上に、レジストパターン微細化組成物を塗布し、ベーク後、洗浄してレジストパターンを微細化する工程、を含むレジストパターン形成方法で用いられる、酸性低分子化合物と、レジストパターンを溶解しない溶媒と、を含有するレジストパターン微細化組成物を提供する。 - 特許庁

The method for creating a pattern data of a photomask for multiple exposure techniques is to be applied for multiple patterning using a plurality of photomasks prepared by dividing a designed pattern; and the method is characterized in that the pattern is divided to render the area of each pattern set to be almost equal to others in each pattern set in the plurality of photomasks after dividing the pattern.例文帳に追加

設計パタンをパタン分割した複数のフォトマスクを用いて多重パターニングを行う多重露光技術用フォトマスクのパタンデータ作成方法であって、前記パタン分割後の複数のフォトマスクの各々のパタン集合において、前記各々のパタン集合の面積がほぼ等しくなるようにパタン分割することを特徴とする。 - 特許庁

Correction based on a work conversion difference depending on a pattern at the time of process using a first resist pattern as a mask is performed for the pattern dimension of a first photomask, and correction based on a work conversion difference depending on a pattern at the time of etching process of a film to be processed by using a mask pattern as a mask is performed for the pattern dimension of the first photomask.例文帳に追加

第１のフォトマスクのパターン寸法に対して、第１のレジストパターンをマスクに用いた加工時のパターンに依存する加工変換差に基づく補正を行い、前記第１のフォトマスクのパターン寸法に対して、前記マスクパターンをマスクに用いた前記被加工膜のエッチング加工時のパターンに依存する加工変換差に基づく補正を行う。 - 特許庁

To provide a resist pattern measuring method capable of determining automatically and measuring correctly a remaining part (line pattern) and a cut-out part (space pattern) as to a measuring-objective pattern in an image, and capable of measuring a true resist pattern corrected in a shrinkage amount, when measuring a resist pattern by a CD-SEM.例文帳に追加

ＣＤ−ＳＥＭによるレジストパターンの測定において、画像中の測定対象パターンが残し部（Ｌｉｎｅパターン）と抜き部（Ｓｐａｃｅパターン）を自動的に判定して正しく測定すると共に、レジストのシュリンク量を補正した真のレジストパターン寸法を測定することを可能にするレジストパターン測定方法及びレジストパターン測定装置を提供する。 - 特許庁

Based on the illumination environmental pattern data selection instructions from the remote control operation part 25, the illumination environmental pattern data selection part 65 chooses the pattern data corresponding to these selection instructions, from among two or more pattern data stored by an illumination environmental pattern data memory part 63, and controls the lamplight 23 through the dimmer drive part 33 based on the selected pattern data.例文帳に追加

照明環境パターンデータ選択部６５は、リモコン操作部２５からの照明環境パターンデータ選択指令に基づいて、照明環境パターンデータ記憶部６３に記憶されている複数のパターンデータの中から上記選択指令に対応するパタ−ンデータを選択し、選択したパターンデータに基づき調光駆動部３３を通じて灯火２３を制御する。 - 特許庁

To provide a method for forming film pattern which makes it possible to control the line width of a pattern as desired particularly when the pattern having a thick film is formed and, thereby realizing fine pattern and high definition pattern, and to provide a conductive film wiring, an electro-optical device, an electronic appliance and a non-contact card medium obtained by the method for forming film pattern.例文帳に追加

特に膜厚が厚いパターンを形成するにあたって、そのライン幅を所望通りに制御できるようにし、これによってパターンの微細化、高精細化を可能にした膜パターンの形成方法と、この形成方法によって得られる導電膜配線、電気光学装置、電子機器、及び非接触型カード媒体とを提供する。 - 特許庁

The apparatus is provided with a means (210) for detecting a ground pattern (background dot pattern) embedded in a background image included in image data of an original image from the image data, and means (210, 211) for comparing the detected ground pattern (background dot pattern) with an output-prohibited ground pattern (background dot pattern) stored in a storage area to determine the sameness of them.例文帳に追加

原稿画像の画像データに含まれる背景画像に埋め込まれた地紋パターン（背景ドットパターン）を画像データから検出する手段（２１０）と、検出した地紋パターン（背景ドットパターン）を、記憶領域に記憶されている出力を禁止する地紋パターン（背景ドットパターン）と比較し、その同一性を判定する手段（２１０、２１１）と、を設ける。 - 特許庁

The pattern 20 for the first band and the pattern 30 for the second band are constituted so as to be branched in a V shape from the end section of a common input- output pattern 10, while the pattern 20 and the pattern 30 are configured in a shape that the patterns 20 and 30 are curved as a whole, and the area of the whole wiring pattern is decreased.例文帳に追加

第１の帯域用パターン２０と第２の帯域用パターン３０を、共通入出力パターン１０の端部からＶ字状に分岐するように構成すると共に、第１の帯域用パターン２０と第２の帯域用パターン３０とを全体的に湾曲した形状に構成し、配線パターン全体の小面積化が図られている。 - 特許庁

A shape retaining pattern 5 is formed annularly around a capacity forming conductor pattern 3 so as to surround the capacity forming conductor pattern 3, and a part of the shape retaining pattern 5 is cut out so as to let spaces formed by the capacity forming conductor pattern 3 and the shape retaining pattern 5 communicate with each other between green sheets 1.例文帳に追加

容量形成用導体パターン３の周囲に、該容量形成用導体パターン３を取り囲むように環状に形状保持パターン５が形成され、グリーンシート１間における容量形成用導体パターン３及び形状保持パターン５で形成される空間同士が連通するように、形状保持パターン５の一部が切り欠かれていることを特徴とする。 - 特許庁

When drawing a pattern, the pattern data PD of a drawing pattern are divided into respective rectangular areas stipulated by the reference spot pattern, and closed area pattern data PD1 and PD2 of the respective rectangular areas LM1 and LM2 are corrected matched with deformed rectangular areas LN1 and LN2 deformed or displaced based on the measured position coordinates of the spot pattern.例文帳に追加

パターンを描画するとき、描画パターンのパターンデータＰＤを、基準スポットパターンによって規定される矩形領域毎に分割し、各矩形領域ＬＭ１、ＬＭ２の閉領域パターンデータＰＤ１、ＰＤ２を、計測されたスポットパターンの位置座標に基づく変形、もしくは変位の生じた変形矩形領域ＬＮ１、ＬＮ２に合わせて補正する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a pattern having high sensitivity and resolution, small line width roughness (LWR), and a superior exposure latitude (EL) and pattern form is formed, to provide a pattern formed by the pattern forming method, and to provide a chemically amplified resist composition used in the pattern forming method, and a resist film formed of the chemically amplified resist composition.例文帳に追加

感度及び解像力が高く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、露光ラチチュード（ＥＬ）及びパターン形状に優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。 - 特許庁

An error rate detecting part 3 identifies the pattern of the measured signal, holds partial or whole data from a position determined as the top of an identification pattern data as a top pattern, detects an error bit by comparison between the identification pattern data and a known pulse pattern when the measured signal coincides with the top pattern after one go-around, and holds bit strings before/after including the error bit.例文帳に追加

誤り率検出部３は、被測定信号のパターンを識別し、識別パターンデータの先頭と決めた位置から一部又は全部のデータを先頭パターンとして保持し、被測定信号が１周回して先頭パターンと一致したときに、識別パターンデータと既知のパルスパターンとの比較によりエラービットを検出し、エラービットを含む前後のビット列を保持する。 - 特許庁

The data transmission circuit comprises: a first driver which drives data to a first line; a pattern change unit which changes a pattern of the data transmitted to the first line; a second driver which drives the data, the pattern of which has changed by the pattern change unit, to a second line; and a pattern restoration unit which restores the pattern of the data transmitted to the second line.例文帳に追加

データを第１のラインに駆動する第１のドライバと、前記第１のラインに伝達されたデータのパターンを変更するパターン変更部と、該パターン変更部によってパターンが変更されたデータを第２のラインに駆動する第２のドライバと、前記第２のラインに伝達されたデータのパターンを元通りに復元するパターン復元部とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a pattern forming material, having a cushion layer and a photosensitive layer and superior in the shape of a formed pattern because absorbance of the photosensitive layer, when a light of 405 nm is applied is within a certain numerical range, and to provide a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a pattern forming method which uses the pattern forming material.例文帳に追加

クッション層と感光層とを有し、４０５ｎｍの光を照射する場合の該感光層の吸光度が一定の数値範囲であることにより、形成したパターンの形状に優れるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

This mask pattern forming method comprises a first process of forming a prescribed photoresist on a polysilicon film 5, a second process of projecting a wiring pattern onto the photoresist for light exposure, a third process of forming a resist pattern by developing the exposed photoresist, and a fourth process of correcting the resist pattern 7A on a pattern shape by irradiating the resist pattern 7A with far ultraviolet rays.例文帳に追加

ポリシリコン膜５上に所定のフォトレジストを形成する工程と、このフォトレジストを配線パターン形状に露光する工程と、露光したフォトレジストを現像処理してレジストパターン７Ａを形成する工程と、このレジストパターン７Ａに深紫外線を照射して、当該レジストパターン７Ａのパターン形状を補正する工程とを有するものである。 - 特許庁

To solve the problems wherein the characteristic of a special eye pattern cannot be measured, such as an eye pattern having a large noise, an eye pattern having many eyes, or an eye pattern having a cross point deviated extremely upward or downward, in an eye pattern measuring method for evaluating the quality of a signal by using the eye pattern formed by overwriting a series of signals.例文帳に追加

一連の信号を重ね書きして作成したアイパターンを用いて信号の品質を評価するアイパターン測定方法であって、ノイズが大きいアイパターン、アイの数が多いアイパターン、クロス点が上または下に極端に偏っているアイパターンなど、特殊なアイパターンの特性を測定することができなかったという課題を解決する。 - 特許庁

The wiring pattern 12 to which the pattern 111 is connected is connected with a wiring pattern 31 which is connected with an external terminal 21, and the wiring pattern 13 to which the pattern 112 is connected is connected with a wiring pattern 33 which is connected with a low impedance line 25, and these four wiring patterns are formed on the same straight line on a substrate.例文帳に追加

パターン部１１１が接続される配線パターン１２は、外部端子２１に接続されている配線パターン３１と接続され，パターン部１１２に接続される配線パターン１３は、低インピーダンスライン２５に接続される配線パターン３３と接続され、これらの４つの配線パターンは、同一直線上で基板に形成されている。 - 特許庁

The stencil mask is composed of a first stencil mask 38 having a first linear pattern 32 divided from an L-shaped pattern 22 as a mask pattern and a second stencil mask 40 having a second linear pattern 36 that is the remain of the pattern 22, as a mask pattern.例文帳に追加

本ステンシルマスクは、Ｌ字状パターン２２を第１の線状パターン３２と第２の線状パターン３６とに分割して、第１の線状パターン３２をマスクパターンとして有する第１のステンシルマスク３８と、Ｌ字状パターン２２の残りの部分、つまり第２の線状パターン３６をマスクパターンとして有する第２のステンシルマスクマスク４０とで構成されている。 - 特許庁

When a prescribed variation pattern command is transmitted to a sub-control part 300 according to the jackpot drawing result of the main control part 200, the sub control part 300 draws one variation pattern command from the variation pattern command and the other variation pattern commands corresponding to the variation pattern command and transmits it to a performance pattern control part 400.例文帳に追加

主制御部２００の大当たり抽選結果に応じて所定の変動パターンコマンドがサブ制御部３００に送信されてきたときは、サブ制御部３００は、この変動パターンコマンドとこの変動パターンコマンドに対応する他の変動パターンコマンドのなかから１つの変動パターンコマンドを抽選して演出図柄制御部４００に送信する。 - 特許庁

This correction method is comprised of a master pattern classifying step 100 classifying the master pattern according to a positional relationship between each master pattern form and mask patterns located in the neighborhood of each mask pattern, and OPC executing steps 101, 102 for executing the optical proximity effect correction to the mask pattern forms classified by the mask pattern classifying step 100.例文帳に追加

各々のマスクパターンの形状、および各々のマスクパターンの近傍に位置するマスクパターンとの位置関係によりマスクパターンを分類するマスクパターン分類ステップ１００と、このマスクパターン分類ステップ１００で分類したマスクパターンの形状に対して光学的近接効果補正（以下、ＯＰＣ）を実施するＯＰＣ実施ステップ１０１，１０２とから構成されている。 - 特許庁

In this image recognizing method using pattern matching, a plurality of teaching pattern candidates are generated when a teaching pattern is set, an appropriate teaching pattern candidate is subjected to comparison operation with a recognition object to calculate the variance and the average value of similarity, and a teaching pattern that is the most easily recognized is selected and set among the teaching pattern candidates.例文帳に追加

パターンマッチングを用いた画像認識方法において、教示パターンの設定に際して複数の教示パターン候補を発生し、適当な教示パターン候補について認識対象と比較演算して類似度の分散と平均値を求め、教示パターン候補の中から最も認識し易い教示パターンを選択して設定するようにした。 - 特許庁

Each solder wettable pattern 21a of a planar shape obtained by radially protruding protrusions from a center of the mounting substrate 1 is formed on the mounting substrate 1, a solder pattern 23a having substantially the same planar shape as the solder wettable pattern is selectively formed on the solder wettable pattern and the solder pattern is depressed to flatten the surface of the solder pattern.例文帳に追加

実装基板１の中央部から放射状に突起部を突出させた平面形状の半田濡れ性パターン２１ａを実装基板上に形成し、半田濡れ性パターンと略同一の平面形状の半田パターン２３ａを、半田濡れ性パターン上に選択的に形成し、この半田パターンを押圧することにより半田パターンを表面平坦化する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition for highly finely and efficiently forming a pattern such as a wiring pattern and a solder resist pattern by having high sensitivity and very high time passage stability of sensitivity, and to provide a pattern forming material having a photosensitive layer formed by the photosensitive composition, a photosensitive laminate, a pattern forming apparatus, and a pattern forming method.例文帳に追加

高感度であるとともに、感度の経時安定性が極めて高く、配線パターン及びソルダーレジストパターン等のパターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

After a processing objective pattern MP1 is subjected to rule-based correction so as to obtain an etching pattern EP corresponding to the processing objective pattern MP1 by referring an etching pattern EP, the rule-base corrected processing objective pattern MP3 is subjected to simulation-based correction to generate an optical proximity effect corrected mask pattern MP4 by considering the etching process.例文帳に追加

エッチングパターンＥＰを参照し、処理対象パターンＭＰ１に対応したエッチングパターンＥＰが得られるように、処理対象パターンＭＰ１をルールべースで補正した後、ルールべースで補正された処理対象パターンＭＰ３をシミュレーションベースで補正することにより、エッチングプロセスを考慮して光近接効果補正されたマスクパターンＭＰ４を生成する。 - 特許庁

At the time of being in a reach state, an enlarged pattern display window 754 is formed by gradually enlarging a second pattern display window displayed between pattern display windows 51 and 53 in a vertical direction and a pattern scroll-displayed in the second pattern display window is scroll-displayed together with the patterns before and after that in the enlarged pattern display window 754.例文帳に追加

リーチ状態になると、図柄表示窓５１，５３の間に表示される第２図柄表示窓を次第に縦方向に拡大して、拡大図柄表示窓７５４を形成し、この拡大図柄表示窓７５４中に第２図柄表示窓にてスクロール表示していた図柄をその前後の図柄と共にスクロール表示するように構成されている。 - 特許庁

The apparatus is equipped with a first data buffer 10 storing pattern data corresponding to a pattern to be exposed and a second data buffer 12 storing pattern variation data corresponding to at least one change to a part of the pattern, wherein at least one variation of the pattern is transferred by exposure on one of the areas on a substrate by using pattern variation data.例文帳に追加

露光すべきパターンに対応するパターン・データを記憶する第１のデータ・バッファ１０とパターンの一部に対する少なくとも１つの変更に対応するパターン変化データを記憶する第２のデータ・バッファ１２とを備え、パターンの少なくとも１つの変化がパターン変化データを使用して基板上の複数の領域のうちの１つに露光される。 - 特許庁

A pattern selector 207 selects the noise signal frequency characteristic pattern of all the frequency bands stored in a noise signal frequency characteristic pattern storage 208 and a pattern selector 209 selects the source signal frequency characteristic pattern of all the frequency bands stored in a source signal frequency characteristic pattern storage 210.例文帳に追加

パターン選択器２０７は、騒音信号周波数特性パターン格納器２０８に格納されている全周波数バンドにおける騒音信号周波数特性パターンを選択し、パターン選択器２０９は、ソース信号周波数特性パターン格納器２１０に格納されている全周波数バンドにおけるソース信号周波数特性パターンを選択する。 - 特許庁

A slave control means (a performance controller 300) selects one performance pattern table based on a mode state from a plurality of performance pattern tables set for each of the plurality of variation pattern tables, and determines one performance pattern corresponding to the variation pattern from a plurality of performance patterns set in the performance pattern table.例文帳に追加

従属制御手段（演出制御装置３００）は、複数の変動パターンテーブルの各々に対応して設けた複数の演出パターンテーブルの中から、モード状態に基づき一の演出パターンテーブルを選択し、当該演出パターンテーブルに複数設定されている演出パターンの中から、前記変動パターンに対応した一の演出パターンを決定する。 - 特許庁

Patterns on the pattern variation displaying means 21 are varied, upon the first variation instruction signal, according to a pattern variation pattern permutation corresponding to the first variation instruction signal, and are varied, upon the second variation instruction signal during the pattern variation, according to a pattern variation pattern permutation corresponding to the second variation instruction signal.例文帳に追加

図柄変動表示手段21の図柄は、第１回目の変動命令信号があれば、第１回目の変動命令信号に対応する図柄変動パターン順列に従って変動し、図柄変動中に第２回目の変動命令信号があれば、第２回目の変動命令信号に対応する図柄変動パターン順列に従って変動する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes: a resist pattern forming step of forming a resist pattern on the surface to be processed and then applying the thickening material for a resist pattern to cover the surface of the resist pattern to thereby thicken the resist pattern; and a patterning step of patterning the surface to be processed by etching by using the thickened resist pattern as a mask.例文帳に追加

被加工面上にレジストパターンを形成後、レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することによりレジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工面をパターニングするパターニング工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

Then, the CPU temporarily stops a specific special pattern constituting a second special pattern array in a big winning display form, then displays the specific special pattern and a normal special pattern at the variable display device and executes the re-drawing performance of selecting either one of the displayed specific special pattern and normal special pattern.例文帳に追加

続いて、ＣＰＵは、第２の特別図柄配列を構成する特殊特別図柄が大当たり表示態様で一旦停止させた後、可変表示装置に特殊特別図柄と通常特別図柄とを表示し、表示した特殊特別図柄と通常特別図柄とのいずれか一方を選択する再抽選演出を実行する。 - 特許庁

This device is characterized by installing a resource switching memory for generating a resource switching signal based on the address, one or more pattern resources for generating the pattern data, and a selection part for selecting the pattern data generated by the normal pattern memory and the pattern data generated by the pattern resources by the resource switching signal of the resource switching memory.例文帳に追加

本装置は、アドレスに基づいて、リソース切換え信号を発生するリソース切換えメモリと、パターンデータを発生する少なくとも１以上のパターンリソースと、ノーマルパターンメモリが発生するパターンデータ、パターンリソースが発生するパターンデータを、リソース切換えメモリのリソース切換え信号により選択する選択部とを設けたことを特徴とする装置である。 - 特許庁