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patterned substrateの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 910件
The wiring forming method includes: patterning a silver halide emulsion onto at least one surface side of a substrate in accordance with a wiring pattern to form a patterned emulsion layer made of the silver halide emulsion on at least the one surface side of the substrate; exposing the patterned emulsion layer; and performing development processing for the exposed patterned emulsion layer to form a patterned conductive silver layer as the wiring pattern.例文帳に追加
配線パターンに応じて、ハロゲン化銀乳剤を基板の少なくとも片側表面上にパターニングして、前記基板の少なくとも片側表面上に前記ハロゲン化銀乳剤からなるパターン化された乳剤層を形成し、前記パターン化された乳剤層を露光した後、前記露光されたパターン化された乳剤層を現像処理して、パターン化された導電性銀層を前記配線パターンとして形成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁
That is, the silicon substrate 16 is patterned to remain the silicon layer 13 at least on the the area connected electrically to the island-like body 12 and the joined interface 14 to the glass substrate 11.例文帳に追加
すなわち、シリコン基板16をパターニングして少なくとも島状体12と電気的に接続する領域及びガラス基板11との接合界面14にシリコン層13を残存させる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a substrate with a high-quality patterned metal film by which the generation of pitting can be prevented during wet-etching of the metal film formed on a substrate.例文帳に追加
基板上に形成された金属膜のウェットエッチング時において孔食の発生を抑制し得る、品質の良好なパターン化金属膜を有する基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
This method can make the identification information visible from the back side 101b through the circuit board 101 and manufacture the substrate of the one-side patterned substrate alone.例文帳に追加
これにより、当該回路基板(101)を透して、裏面(101b)側から識別情報を視認可能とし、また当該基板を片面パターン基板のみで製造することが可能となる。 - 特許庁
The mask layer is then patterned on the side of the silicon substrate 2 previously applied with a thermal oxidation film 3 and through holes 52 are opened in the silicon substrate 2 with high concentration alkaline liquid of KOH, for example, (Fig. (C)).例文帳に追加
予め熱酸化膜3がついていたシリコン基板2側のマスク層をパターニングし、KOH等の高濃度アルカリ液にてシリコン基板2に貫通穴52を開口する(図1(C))。 - 特許庁
Then, a circuit pattern is laid out and at least one pad is installed on the organic substrate, and the surface of the substrate is covered with a solder mask layer, and the pad is exposed in a patterned state.例文帳に追加
該有機基板には回路パターンがレイアウトされ、少なくとも一つのパッドが設けられ、該基板の表面がソルダマスク層で被覆され、並びにパターン化されて該パッドが露出させられている。 - 特許庁
After forming a mask 12 composed of a silicon oxide film on the upper surface of a substrate 11 composed of monocrystal silicon, the mask 12 is patterned to expose the upper surface of the substrate 11 like a stripe.例文帳に追加
単結晶のシリコンからなる基板11の上面にシリコン酸化膜からなるマスク12を形成した後、パターニングして、基板11の上面をストライプ状に露出させる。 - 特許庁
After selectively forming the resist film 13 on a main surface 11A of a substrate 11, a film 12 to be patterned is formed on the substrate 11 so as to cover this resist film 13.例文帳に追加
基体11の主面11A上にレジスト膜13を選択的に形成した後、このレジスト膜13を覆うようにして基体11上に被パターニング膜12を形成する。 - 特許庁
RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERNED INSULATIVE FILM, ACTIVE MATRIX SUBSTRATE AND FLAT PANEL DISPLAY DEVICE WITH ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, AND MANUFACTURING METHOD OF FLAT PANEL DISPLAY DEVICE例文帳に追加
感放射線性樹脂組成物、パターン状絶縁性被膜の形成方法、アクティブマトリクス基板およびそれを備えた平面表示装置、並びに平面表示装置の製造方法 - 特許庁
A control gate layer covering the substrate 100 via a gate oxide layer is formed on the substrate 100, the control gate layer is patterned to form a control gate, an interlayer insulating layer pattern and a floating gate on the cell array part.例文帳に追加
半導体基板100上にゲート酸化層を介して覆うコントロールゲート層を形成し、パタニングしてセルアレー部にコントロールゲート、層間絶縁層パターン及び浮遊ゲートを形成する。 - 特許庁
The control unit is configured to move the shutter by a predetermined amount to affect the parts of the patterning device or the substrate masked out from the beam of radiation if projecting the patterned beam of radiation onto the target portion would involve the patterned beam of radiation extending across the periphery of the substrate.例文帳に追加
制御装置は、パターン付与された放射ビームを目標部分に投影することにより当該放射ビームが基板周縁を所定量以上超えて広がる場合、パターニングデバイスの一部もしくは基板の一部を放射ビームからマスクさせるべくシャッタを移動させる。 - 特許庁
The lithographic apparatus includes an optics compartment that contains the patterned surface of a patterning device and an optical element, and a substrate compartment connected to the optics compartment by a connection that is arranged to pass a patterned beam of radiation from the optical element to a substrate.例文帳に追加
このリソグラフィ装置は、パターン形成装置のパターン形成された表面と光学素子とを収容する光学区画と、パターン形成された放射ビームを光学素子から基板に通過させるように構成された、接続部によって光学区画に連結された基板区画とを含む。 - 特許庁
A first conductive pattern 6, a ground pattern 7, and a microstrip line 8 are patterned on one side of a dielectric substrate 3, and a second conductive pattern 9 and a ground pattern 10 are patterned on the other side of the dielectric substrate 3, and both ground patterns 7 and 10 are connected conductively via a through hole 11.例文帳に追加
誘電体基板3の片面に第1の導電パターン6とアースパターン7およびマイクロストリップ線路8をパターン形成すると共に、誘電体基板3の他面に第2の導電パターン9とアースパターン10をパターン形成し、両面のアースパターン7,10をスルーホール11を介して導通する。 - 特許庁
The method includes steps of: providing a substrate; forming a barrier layer on the substrate, patterning the barrier layer, and thus exposing a portion of the substrate to form an electrode pattern region; changing the surface property of the substrate in the electrode pattern region to form a visible patterned mark; removing the barrier layer; and using the visible patterned mark as an alignment mark.例文帳に追加
本発明による方法は、基板を提供する段階と、基板に障壁層を形成し、更に障壁層をパターン化して基板の一部を露出させて電極パターン領域を形成する段階と、電極パターン領域の基板の表面特性を変えて、パターン化可視マークを形成する段階と、障壁層を除去する段階と、パターン化可視マークをアラインメントマークとする段階とを含む。 - 特許庁
An array of a projection system is arranged over an entire frame so as to project each patterned beam on a target portion of the substrate.例文帳に追加
基板の目標部分にそれぞれのパターン化されたビームを投影するために、このフレーム全体にわたって投影システムのアレイを配設する。 - 特許庁
Meanwhile, wiring whereto a high voltage is applied is patterned to different printed substrates, and discharge whose path is the same printed substrate surface is prevented.例文帳に追加
一方、高電圧のかかる配線同士を別々のプリント基板にパターン化し、同一プリント基板表面を径路とする放電を防止する。 - 特許庁
An opening 3 whose end part is tapered is patterned to the insulating film 2 formed on a silicon substrate 1 comprising an N-type diffusion layer 4.例文帳に追加
N型拡散層4を有するシリコン基板1の上に成膜した絶縁膜2に対し端部がテーパとなった開口部3をパターニングする。 - 特許庁
A dielectric layer 23 is formed on a support surface 22 of a base substrate 21 and a contact surface 27 of the dielectric layer 23 is patterned to define a well feature.例文帳に追加
ベース基板21の支持面22上に誘電体層23を形成し、誘電体層23の接触面27をパターニングしてウェル形状を画定する。 - 特許庁
A glass substrate 30 is formed via a patterned adhesive 20 so that the cavity 18 is formed over the solid-state imaging element 12.例文帳に追加
固体撮像素子12上に空洞18が形成されるように、パターニングされた接着剤20を介してガラス基板30が形成されている。 - 特許庁
COMPOSITION FOR COATING FORMATION, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE HAVING PATTERNED TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM OBTAINED FROM THE COMPOSITION, AND USE OF THE MANUFACTURED BODY例文帳に追加
塗膜形成用組成物、該組成物から得られるパターニングされた透明導電膜を有する基板の製造方法および該製造物の用途 - 特許庁
In the SOI/SON composite structure, a patterned SOI/SON structure is sandwiched between an Si overlayer and a semiconductor substrate.例文帳に追加
SOI/SON複合構造体においては、パターン付けされたSOI/SON構造体が、Siオーバーレイヤと半導体基板の間に挟まれる。 - 特許庁
Trench etching is applied to a silicon substrate having a patterned oxide film 114 formed thereon to form a groove 118 demarcated by a wall part 122.例文帳に追加
パターンニングされた酸化膜114が形成されたシリコン基板にトレンチエッチングを行い、壁部122で区画された溝118を形成する。 - 特許庁
This nano-imprinting apparatus includes two rotatably mounted rollers for transferring a pattern of micrometer or nanometer size to the substrate 20 to be patterned.例文帳に追加
パターニングされるべき基材20に対してミクロ又はナノメートルサイズのパターンを転写するために2つの回転可能に取り付けたローラを備える。 - 特許庁
The manufacturing method for the flexible substrate grows the metal bump 16 by using a mask film 13 patterned by a photolithography process.例文帳に追加
本発明のフレキシブル基板製造方法は、フォトリソグラフ工程によってパターニングしたマスクフィルム13を用いて金属バンプ16を成長させる。 - 特許庁
A substrate on which the resist film has been formed is carried in an exposure device with a patterned reticle and a projection optics system (ST107).例文帳に追加
レジスト膜が形成された基板を、パターンが形成されたレチクルおよび投影光学系を具備する露光装置に搬送する(ST107)。 - 特許庁
A laser irradiating device 10 patterns a laser beam LB and irradiates the scheduled processing line on a brittle material substrate with the patterned laser beam LB.例文帳に追加
レーザ照射装置10は、レーザビームLBをパターニングし、パターニングされたレーザビームLBを脆性材料基板の加工予定線上に照射する。 - 特許庁
The substrate 1 is isotropically etched by the etchant containing hydrofluoric acid using the patterned thin film 2 as the etching mask.例文帳に追加
この後前記パタ−ニングされた薄膜2をエッチンングマスクとして、フッ化水素酸を含有するエッチング液により、前記基板1を等方的にエッチングする。 - 特許庁
Subsequently, after the resist membrane 120 is patterned, the substrate 100 is divided into multiple dies through dry etching, using the resist membrane 120 as a mask.例文帳に追加
次いで、レジスト膜120をパターニングした後、レジスト膜120をマスクとしてドライエッチングにより基板100を複数の断片(ダイス)に分割する。 - 特許庁
The beam patterned by an array 1 of individually controllable elements is projected onto a target portion of the substrate 2 by a projection system.例文帳に追加
個別に制御可能な要素のアレイ1によってパターンが付与されたビームは、投影系によって基板2の標的部分上へ投影される。 - 特許庁
The apparatus has a projection system which is configured to project a patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, and having a lower surface.例文帳に追加
装置は、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムを有し、投影システムは下面を有する。 - 特許庁
By scanning a focused particle beam over the entire substrate in the presence of a precursor fluid, a patterned seed layer is formed.例文帳に追加
先駆体流体が存在する中で基板全体にわたって集束粒子ビームを走査することによって、パターニングされたシード層が形成される。 - 特許庁
This EUV optical lithographic mask comprises a multilayer film on an EUV mask substrate and a patterned light absorption layer formed on the multilayer film.例文帳に追加
このEUV光リソグラフィマスクはEUVマスク基板上の多層膜及びこの多層膜上に形成されたパターン化光吸収層を含む。 - 特許庁
A portion of a top semiconductor layer of the SOI substrate is patterned into a semiconductor fin 18 having substantially vertical sidewalls.例文帳に追加
SOI基板の最上部半導体層の一部分にパターン形成して、実質的に垂直な側壁を有する半導体フィン18が作成される。 - 特許庁
To provide a manufacturing method with which when a gate electrode is patterned, a silicon substrate by the gate electrode of a selection gate transistor is dug.例文帳に追加
ゲート電極をパターニングするときに、選択ゲートトランジスタのゲート電極脇のシリコン基板が掘られることを防止する製造方法を提供する。 - 特許庁
A patterned mask layer defining a second gate electrode of the conductive layer corresponding to the second area is formed over the semiconductor substrate.例文帳に追加
第2領域に対応する導電層の第2ゲート電極を画定するパターニングされたマスク層が半導体基板を覆うように形成される。 - 特許庁
Outer circumferential edge of the shielding electrode 6 patterned on the upper surface of a multilayer glass ceramic substrate 2 is covered with an insulation layer 8.例文帳に追加
多層型ガラスセラミック基板2の上面にパターン形成されたシールド用電極6の外周縁を、絶縁層8により被覆するようにした。 - 特許庁
The apparatus can be configured to rinse the immersion space 10 substantially continuously until the apparatus projects a patterned radiation beam onto a substrate.例文帳に追加
基板に対してパターンの付いた放射ビームを投影するまで実質的に継続して液浸スペース10をリンスするよう構成することができる。 - 特許庁
By using the conductive layer applied substrate wherein the conductive layer is formed patternwise, a patterned film can be repeatedly produced.例文帳に追加
この導電性層がパターン状に形成された導電性層付基体によれば、パターン化されたフィルムを繰り返して製造することができる。 - 特許庁
In one example, substantially an entire surface of the substrate can be patterned with large and small features at substantially a same time.例文帳に追加
1つの実施形態によれば、基板表面全体を大きいフィーチャと小さいフィーチャによって実質的に同時にパターニングすることができる。 - 特許庁
On a glass substrate 101, a gate electrode 102, a gate insulting film 103, a source electrode 104, and a drain electrode 105 are formed, thereon a patterned insulating film is formed, and a region 110 on the gate electrode is removed.例文帳に追加
ガラス基板101上にゲート電極102,ゲート絶縁膜103,ソース電極104,ドレイン電極105を形成する。 - 特許庁
In addition, an attenuation control device is provided to adjust the members so as to control attenuation of the patterned radiation beam projected onto the target portion of the substrate across the cross section of the patterned radiation beam.例文帳に追加
また、基板の目標部分に投射されるパターン化された放射ビームの減衰がパターン化された放射ビームの断面全体にわたって制御されるように前記部材を調整するための減衰制御デバイスが提供される。 - 特許庁
A first pattern 1 is formed on a substrate 3, and a layer 2 made of a material to be patterned is formed in the opening 4 of the first pattern 1, and then the first pattern 1 is removed to form a second pattern made of a material to be patterned.例文帳に追加
基板3上に第一のパターン1を形成し、その第一のパターン1の開口部4に被パターン材料からなる層2を形成し、その後、第一のパターン1を除去して被パターン材料からなる第二のパターンを形成する。 - 特許庁
An inexpensively-producible, area array semiconductor device substrate, which has a metallic, mutually-connecting material patterned on a surface of a flexible tape, is divided in non-patterned areas in respective quadrants.例文帳に追加
可撓性のテープの1つの表面上にパターンに作成された金属相互接続体を有する廉価に製造される領域アレイ半導体デバイス基板は、それぞれの象限のパターンに作成されていない領域に分裂される。 - 特許庁
The manufacturing method of the patterned medium is characterized in that a seed layer on a substrate is patterned using a bit pattern stamper formed by utilizing self-organization of a self-organized material in track patterns and the magnetic layer is provided on the seed layer.例文帳に追加
トラックパターン内での自己組織化材料の自己組織化を利用して作製したビットパターンスタンパを用いて、基板上のシード層をパターン化し、該シード層上に磁性層を設けることを特徴とするパターンドメディアの製造方法。 - 特許庁
Then, the insulating layer is patterned to provide an opening 112 which is exposed as a part of the substrate on the insulating layer 108, and a patterned conductor layer 114 is so formed as to fill the opening on the insulating layer, forming a hemispherical Si particle layer on the conductor layer.例文帳に追加
次に、絶縁層をパターンニングして基板の一部を露出する開口を絶縁層に設け、開口を満たすように絶縁層上にパターンニングした導体層を形成し、導体層上に半球状Si粒子層を形成する。 - 特許庁
An I-type non-single crystalline silicon film 13 and an N-type conductivity non-signal crystalline silicon film 12 are formed one by one on a glass substrate 11, where an ITO film is formed as a pixel electrode 18 and patterned, and are patterned into a prescribed shape.例文帳に追加
画素電極18としてITO膜が形成、パターニングされたガラス基板11上にI型の非単結晶珪素膜13、N型の導電性非単結晶珪素膜12を順次形成し、所定の形状にパターニングする。 - 特許庁
A light-guiding article has a film substrate that has at least one patterned surface having a plurality of discrete surface feature elements and an incident edge that is substantially orthogonal to the at least one patterned surface.例文帳に追加
導光品は、複数の個別の表面特徴要素を有する少なくとも1つのパターン付き表面と、この少なくとも1つのパターン付き表面に実質的に直交する入射エッジとを有するフィルム基体を有する。 - 特許庁
In this perpendicular double layer patterned medium, a patterned soft magnetic backing layer 2 is formed on a nonmagnetic base 1, and a substrate 3, an intermediate layer 4 and a magnetic recording layer 5 are successively laminated on a recessed part of the pattern.例文帳に追加
本発明に係る垂直二層パターンド媒体では、非磁性基体1上にパターニングされた軟磁性裏打ち層2が形成され、そのパターンの凹の部分に下地層3、中間層4、および磁気記録層5が順次積層される。 - 特許庁
In a first step of the method for fabricating the structural body to support a rocking body in a torsionally vibrating manner with respect to a substrate 120, the single crystal substrate 120 and a member having a patterned mask layer provided on a face side and a back side of the substrate are prepared.例文帳に追加
揺動体が基板120に対してねじり振動可能に支持される構造体の製造方法の第1の工程で、単結晶基板120と、この表面及び裏面に設けられるパターニングされたマスク層150を有する部材を用意する。 - 特許庁
A color filter is formed on a substrate and is covered with a smoothing film, and a transparent conductive film is formed on the smoothing film, and it is patterned to form a transparent electrode, and then the substrate is dried under a low pressure before being stuck on a counter substrate.例文帳に追加
基板上にカラーフィルターを形成して平坦化膜で覆い、該平坦化膜上に透明電導膜を形成し、パターニングして透明電極を形成した後、対向基板と貼り合わせるまでの間に減圧乾燥を施す。 - 特許庁
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