「patterned substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The liquid crystal display device is provided with an organic protective layer 24 and a gate insulation layer 22 which are patterned so as to make a sealant 11 be directly in contact with a substrate.例文帳に追加

本発明による液晶表示装置はシーリング剤が基板と直接接するようにパタニングされた有機保護膜とゲート絶縁膜とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

First impurity layers 810 are formed in the substrate using the control gate layer as an ion implantation mask and the control gate layer is patterned to form a gate on the peripheral circuit part.例文帳に追加

コントロールゲート層をイオン注入マスクとして半導体基板に第１不純物層８１０を形成し、コントロールゲート層をパタニングして周辺回路部にゲートを形成する。 - 特許庁

The antenna element can be applied to the disk substrate as a patterned antenna layer on the metalized data area, and can be electrically insulated from the data area.例文帳に追加

アンテナ素子は、金属化されたデータ領域の上にパターン形成されたアンテナ層としてディスク基板に適用することができ、該データ領域から電気的に絶縁することができる。 - 特許庁

After forming semiconductor layers 4a and 4b via a gate insulating film 3 on an insulation substrate 1, the semiconductor layers 4a and 4b are patterned and a channel part is formed.例文帳に追加

絶縁性基板１上にゲート絶縁膜３を介して半導体層４ａ、４ｂを形成した後、半導体層４ａ、４ｂをパターニングしてチャネル部を形成する。 - 特許庁

A semiconductor layer 13 having high resistance and a semiconductor layer 12 having low resistance are laminated on a substrate 11 having a pixel electrode 18 and are patterned in the shape of a transistor.例文帳に追加

画素電極１８を有する基板１１上に、高抵抗半導体層１３と低抵抗半導体層１２を積層してトランジスタ形状にパターニングする。 - 特許庁

A stripe patterned light P having a wavelength in an infrared region to be transmitted through a semiconductor chip 3 mainly made of silicon is projected onto the substrate 5 on which the semiconductor chips 3 is mounted.例文帳に追加

主にシリコンからなる半導体チップ３を透過する赤外領域の波長の縞パターン光Ｐを半導体チップ３が実装された基板５上に投影する。 - 特許庁

A patterned zinc oxide nanostructure is grown without using a metal catalyst by forming a seed layer of a polycrystalline zinc oxide on the surface of a substrate.例文帳に追加

金属触媒を用いることなしに、基板の表面の上の多結晶酸化亜鉛のシード層を形成することによって、パターニングされた酸化亜鉛のナノ構造を成長させる。 - 特許庁

The photoreceptor device includes a substrate and at least one patterned binder layer comprising a solid binder matrix and hollow spaces filled with a functional material or a filler.例文帳に追加

基体と、固体バインダマトリックスと、機能性材料または充填剤で満たされている中空の空間と、を含む、少なくとも１つのパターン化されたバインダ層と、を含む。 - 特許庁

A 1st metal film 102, a 2nd metal film 103 and 3rd metal film 104 after being laminated on a semiconductor substrate 101 are selectively removed and patterned.例文帳に追加

半導体基板１０１に第１の金属膜１０２、第２の金属膜１０３及び第３の金属膜１０４を積層した後、選択的に除去し、パターニングする。 - 特許庁

To provide a mold structure which is highly durable and excellent in the transfer quality of a pattern to a substrate and which allows a high-quality pattern to be transferred and formed on discrete track media and patterned media.例文帳に追加

耐久性、及び基板に対する転写性が高く、ディスクリートトラックメディアや、パターンドメディアに高品質なパターンを転写形成するモールド構造体の提供。 - 特許庁

The retardation plate 10 is configured, by forming a retardation layer 12 in contact with the surface of a substrate 11 on which groove areas 11A, 11B are alternately patterned in the shape of stripes.例文帳に追加

位相差板１０は、溝領域１１Ａ，１１Ｂがストライプ状に交互にパターニングされた基板１１の表面に接して位相差層１２が形成されたものである。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a pattern member for improving both productivity and product quality of a pattern member where a plurality of kinds of different materials are patterned on a substrate.例文帳に追加

基板上に複数種類の異なる材料をパターン状に形成するパターン部材の製造において、生産性及び製品品質のいずれをも向上させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical waveguide and opto-electric composite substrate capable of avoiding a case where a remaining core or a foreign substance occurring near a patterned core layer directly comes into contact with the patterned core layer and suppressing degradation of the optical transmission loss, and to provide an optical waveguide and opto-electric composite substrate obtained by the method.例文帳に追加

パタン化されたコア層の近傍に発生する残コアや異物がパタン化されたコア層と直接接触することを回避し、光伝搬損失の悪化を抑制することが可能な光導波路及び光電気複合基板の製造方法並びにそれらにより得られる光導波路と光電気複合基板を提供する。 - 特許庁

A transparent organic EL element 108Y, patterned so as to display characters, illuminating in yellow color, is formed on a first surface 102 of a transparent substrate 101, and a transparent organic EL element 108B, patterned so as to illuminate in blue color on the entire surface of the transparent substrate, is formed on a second surface 103.例文帳に追加

透明基板１０１の第１の面１０２上に、文字を表示できるようにパターニングされた透明性を有する黄色に発光する有機ＥＬ素子１０８Ｙを形成し、第２の面１０３上に透明基板の全面で発光するようにパターニングされた透明性を有する青色に発光する有機ＥＬ素子１０８Ｂを形成する。 - 特許庁

The composite antenna device has: a first antenna 12 of internal power supply to be patterned spirally on a dielectric substrate 11; and a second antenna 14 of external power supply to be patterned spirally between spiral patterns of the first antenna on the dielectric substrate 11, while having the same center point as that of the spiral of the first antenna 12.例文帳に追加

複合アンテナ装置は、誘電体基板１１上にスパイラル型にパターン形成される内側給電の第１アンテナ１２と、誘電体基板１１上に第１アンテナ１２のスパイラルと中心点を同じくして、第１アンテナのスパイラルのパターン間を沿うようにスパイラル型にパターン形成される外側給電の第２アンテナ１４とを備える。 - 特許庁

A transparent conductive film includes a transparent film substrate and a transparent conductive layer provided on one or both sides of the transparent film substrate with at least one undercoat layer therebetween, wherein the transparent conductive layer is patterned and a non-patterned portion having no transparent conductive layer has at least one undercoat layer.例文帳に追加

透明なフィルム基材の片面または両面に少なくとも１層のアンダーコート層を介して、透明導電体層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明導電体層はパターン化されており、かつ前記透明導電体層を有しない非パターン部には前記少なくとも１層のアンダーコート層を有することを特徴とする透明導電性フィルム。 - 特許庁

An interlayer insulating film 12 is formed on a semiconductor substrate 11, a resist film 14 is formed on the interlayer insulating film 12 and patterned, a surface film 16 is formed on the upper surface of the patterned resist film 14, and then the interlayer insulating film 12 is etched thus fabricating a semiconductor device.例文帳に追加

半導体基板１１上に層間絶縁膜１２を形成し、層間絶縁膜１２上にレジスト膜１４を形成し、レジスト膜１４にパターンを形成し、レジスト膜１４のパターン上面に表面膜１６を形成し、層間絶縁膜１２をエッチングする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method comprises (A) a step of forming a patterned organic film on a substrate, (B) a step of forming the conductive layer on a surface of the patterned organic film by electroless plating and (C) a step of removing a part of the conductive layer by contacting the same with an etching gel composition.例文帳に追加

上記製造方法は、（Ａ）基板上にパターン化有機膜を形成する工程と、（Ｂ）無電解メッキにより前記パターン化有機膜表面に導電層を形成する工程と、（Ｃ）ゲル状エッチング組成物と接触させることにより前記導電層の一部を除去する工程と、を含んでなる。 - 特許庁

The substrate 110 has a first surface 110a, a second surface 110b, a first patterned metal layer 112 on the first surface and a second patterned metal layer 114 on the second surface, and is sandwiched between an upper mold chase 210 and a lower mold chase 220 of a package mold 200.例文帳に追加

基板１１０は、第１表面１１０ａ、第２表面１１０ｂ、第１表面上の第１のパターン化金属層１１２、及び第２表面上の第２のパターン化金属層１１４を有し、パッケージモールド２００の上側モールドチェイス２１０と下側モールドチェイス２２０の間に挟まれている。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system configured to provide a radiation beam, a patterning device configured to pattern the radiation beam to form a patterned radiation beam, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを提供するように構成された照明系と、パターニングされた放射ビームを形成するために、放射ビームをパターニングするように構成されたパターニング装置と、パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影系とを含む。 - 特許庁

The silicon substrate surface is patterned for mirror formation, so that the mirror surface of the mobile micromirror may be constituted of a {100} face perpendicular to the silicon substrate through anisotropic wet etching, and the silicon substrate surface is patterned for V groove formation, so that respective groove faces of the input-side and output-side optical fiber holding V grooves is constituted of {111} planes through anisotropic wet etching.例文帳に追加

ミラー形成のためのシリコン基板表面へのパターニングを、異方性ウェットエッチングによって、シリコン基板表面に垂直な｛１００｝面により可動マイクロミラーのミラー面が構成されるように施し、Ｖ溝形成のためのシリコン基板表面へのパターニングを、異方性ウェットエッチングによって、｛１１１｝面により入力側及び出力側光ファイバ保持Ｖ溝のそれぞれの各溝面が構成されるように施す。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam; a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto an elongate target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されたパターニング・デバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の細長い目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device (formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam); a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターニング・デバイス（パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されている）を支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system to provide the radiation beam RB, a support structure to support a patterning device functioning to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table to hold a substrate, and a projection system to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置が、放射ビームＲＢを供給するイルミネーションシステムと、放射ビームの断面にパターンを与えるように機能するパターニングデバイスを支持するサポート構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition the radiation beam, a support constructed to support a patterning device configured to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持部と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、を備える。 - 特許庁

This detector is produced by adhering an active matrix substrate 1 equipped with a charge accumulating capacity 4 and TFT 5 with an opposite substrate 2 comprising a semiconductor substrate via a connecting material (photosensitive resin 3) having conductivity and adhesiveness which is patterned corresponding to a pixel electrode of the charge accumulating capacity 4.例文帳に追加

電荷蓄積容量４およびＴＦＴ５を具備したアクティブマトリクス基板１と、半導体基板を備えた対向基板２とを、電荷蓄積容量４の画素電極に対応させてパターニングされた導電性および接着性を有する接続材（感光性樹脂３）を用いて接着する。 - 特許庁

A self-organizing monomolecular film (SAM) 12 is patterned on a glass substrate 14 by a micro-contact printing method, and then, silver nanoparticles 24 are deposited locally on a pattern substrate 16 by a silver mirror reaction, wherein a dispersant is added to a solution containing silver complex ions, to thereby produce a SERS substrate 18.例文帳に追加

マイクロコンタクトプリント法により自己組織化単分子膜（ＳＡＭ）（１２）をガラス基板１４上にパターニングした後、銀の錯イオンを含む溶液に分散剤を加えた銀鏡反応によりパターン基板１６上に銀ナノ粒子２４を局所的に析出させて、ＳＥＲＳ基板１８を作成する。 - 特許庁

There is provided: a method comprising conducting lithography to form a first pattern on a substrate, and conducting block-copolymer self-assembly to form a second pattern on the substrate; a patterned substrate template; and a method comprising a combination of lithography and self-assembly techniques.例文帳に追加

リソグラフィを行ない、基板上に第１のパターンを形成する工程と、ブロック共重合体自己組織化を行ない、基板上に第２のパターンを形成する工程とを含む方法、パターン化基板テンプレート、およびリソグラフィ技術と自己組織化技術との組合せを含む方法が提供される。 - 特許庁

The lithography device comprises an illumination system providing a radiation beam, a support structure which supports a patterning device functioning to impart a pattern on the section of the radiation beam, a substrate table which supports a substrate, and a projection system which projects a patterned radiation beam to a target part of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、放射ビームの断面にパターンを付与するよう機能するパターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁

Lithography equipment has an illumination system for supplying beam of radiation, an array of individually controllable elements that function to give a pattern to a sectional face of the beam, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target part of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線のビームを供給する照明系と、ビームの断面にパターンを与える働きをする個々に制御可能な要素の配列と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板の目標部分に投影する投影系とを有する。 - 特許庁

The lithographic projection apparatus comprises a radiation device for supplying a projection beam of radiation, a support structure for supporting a patterning means, the patterning means serving to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection device for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リトグラフ投影装置は、放射線の投影ビームを発生するための放射線装置、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化装置を支持する支持構造、基板を保持する基板テーブル、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影装置を有する。 - 特許庁

The patterned phase shifting layer is comprised of a material of differing composition than the mask substrate and is of thickness sufficient to shift the phase of an energy beam passing through the thickness of the phase shifting layer and the mask substrate by 180°, compared to the phase of the energy beam passing through the phase shifting layer openings and the mask substrate.例文帳に追加

パターン化された位相シフト層は、位相シフト層およびマスク基板の厚さを通過するエネルギー・ビームの位相を、位相シフト層の開口およびマスク基板を通過するエネルギー・ビームの位相に比べて１８０°シフトさせるのに十分な厚さをもち、マスク基板とは異なる組成の材料からなる。 - 特許庁

The substrate dimensions of the active matrix substrate 14 of the liquid crystal panel 10 for display and the transparent substrate 21 of the patterned retardation plate 20 are made the same.例文帳に追加

パターン化位相差板２０の透明基板２１には、上記表示用液晶パネル１０の端子形成部１４ａと対向する割れ防止領域２１ａが設けられることにより、表示用液晶パネル１０のアクティブマトリクス基板１４とパターン化位相差板２０の透明基板２１との基板寸法が同一とされる。 - 特許庁

To provide a method of producing a transparent conductive substrate, by which there can be easily produced a transparent conductive substrate having good conductivity and transparency and including a titanium oxide-based transparent conductive film patterned into a desired shape.例文帳に追加

良好な導電性と透明性を有し、所望の形状にパターニングされた酸化チタン系透明導電性膜を備えた透明導電性基板を容易に得ることができる透明導電性基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This halftone-type EUV mask is a halftone-type EUV masK comprising a substrate, a high-reflectivity portion formed on the substrate, and a patterned low-reflectivity portion formed on the high reflectivity portion in which the low reflectivity portion contains Ta (tantalum) and Nb (niobium).例文帳に追加

基板と、基板上に形成された高反射部と、高反射部上に形成されたパターニングされた低反射部と、を備え、低反射部は、Ｔａ（タンタル）及びＮｂ（ニオブ）を有することを特徴とするハーフトーン型ＥＵＶマスク。 - 特許庁

Projecting parts 119 consisting of a photosensitive resin are patterned and formed on a substrate 111 by forming a photosensitive resin layer on the substrate, then exposing and developing the photosensitive resin layer through a photomask formed of a plurality of the prescribed patterns.例文帳に追加

基板１１１上に感光性樹脂層を形成した後、所定のパターンが複数形成されたフォトマスクを介してこの感光性樹脂層に露光，現像し、基板上に感光性樹脂からなる凸部１１９をパターン形成する。 - 特許庁

This substrate plate is provided by having a pattern containing a polymerized lipid membrane part and flowable lipid membrane part on the substrate plate, and also having a patterned membrane-binding type cytochrome P450 obtained by immobilizing a membrane fraction containing the membrane-binding type cytochrome P450 at the flowable lipid membrane part.例文帳に追加

基板上に重合脂質膜部分と流動性脂質膜部分を含むパターンを有し、該流動性脂質膜部分に膜結合型チトクロームP450を含む膜画分を固定化してなる、パターン化膜結合型チトクロームP450を有する基板。 - 特許庁

A method for defining a pattern includes etching the pattern through a photoresist into a substrate, heating the patterned substrate to a temperature sufficient to ash the photoresist and provide a residue, and removing the residue by bringing the residue into contact with the cleaning composition.例文帳に追加

バターンの規定方法は、フォトレジストを通した基材へのパターンのエッチング、フォトレジストが灰化するのに充分な温度にパターン化された基材を熱すること、および該クリーニング組成物と残渣が接触することによる除去を含む。 - 特許庁

At first, an aluminum film with about 2.5 μm film thickness is formed on a glass substrate 7 with vapor deposition, sputtering or the like and subsequently is patterned with photoetching or the like to form anodes A and cathodes K.例文帳に追加

まずガラス基板７上に膜厚約２．５μｍのアルミニウム膜を蒸着やスパッタリングなどにより形成した後、フォトエッチング等でパターニングして陽極Ａ及び陰極Ｋを形成する。 - 特許庁

A gate insulating film and a doped polysilicon film which are sequentially stacked on a substrate are patterned to form a transfer gate and a reset gate set apart from each other.例文帳に追加

この方法によると、基板上に順に積層されたゲート絶縁膜及びドーピングされたポリシリコン膜をパターニングして互いに離隔されたトランスファーゲート及びリセットゲートを形成する。 - 特許庁

A plated conductive substrate layer 230 is formed between an insulation layer and the patterned thin film 23 comprising a plated film, and a frame adhesion reinforcing layer 200 is partially attached or the surface of it.例文帳に追加

メッキ導通下地層２３０は、絶縁層２５とメッキ膜からなるパターン化薄膜２３の間に形成され、表面にフレーム密着増強層２００が部分的に付着している。 - 特許庁

Since a circuit pattern on a packaged substrate 40 constituting a matrix switch is patterned to have no crossing section for RF wires 51, 52, 61 and 62, isolation characteristics are improved.例文帳に追加

マトリックススイッチを構成する実装基板４０上の回路パターンは、ＲＦ配線５１、５２、６１、６２が交差する部分がないようにパターンニングされるため、アイソレーション特性が向上する。 - 特許庁

A color filter comprises a coloring layer patterned on a substrate by photolithography wherein the number of particles at the non-display part is 160/100 μm2 or less.例文帳に追加

基板上にフォトリソ法により着色層パターニングしたカラーフィルターにおいて非表示部のパーティクル数が１６０個／１００μｍ^2以下であることを特徴とするカラーフィルターであること。 - 特許庁

To provide an apparatus for patterned coating on a curved surface or a substrate with materials which are thermally unstable or tend to change in quality without using a harmful solvent to the human health and the environment.例文帳に追加

湾曲した面又は基板上に、環境や人の健康に有害な溶媒を使用することなく、熱に不安定／変化し易い材料のパターン化被覆を行う装置を提供する。 - 特許庁

While, an anode electrode 41, an organic EL light emitting layer 42, and a cathode electrode 43 are laminated in that order on a facing surface 31 of a transparent substrate 3, and a plurality of organic EL elements 4 are patterned.例文帳に追加

一方、透明基板３の対向面３１に、アノード電極４１、有機ＥＬ発光層４２、カソード電極４３の順に積層して、複数の有機ＥＬ素子４をパターニングする。 - 特許庁