「patterned substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

A resin film forming process has a process for forming an optical element 2 having a mounting surface 27 on the upper surface on the substrate 30 and a process in which after a sacrifice film 42 and the resin film 43 are formed in turn on a resin film forming substrate 40, the formed resin film 43 is patterned.例文帳に追加

樹脂膜の形成工程は、上面に取り付け面２７を有する光学素子２を基板３０の上に形成する工程と、樹脂膜形成基板４０の上に犠牲膜４２及び樹脂膜４３を順次形成した後、形成した樹脂膜４３をパターニングする工程とを備えている。 - 特許庁

In the case of a negative or positive photoresist layer patterned by a conventional lithography technique, a photoresist layer in an interface region with a semiconductor substrate is overheated to a temperature higher than its fusing temperature in a short time in order to fusedly bond a photoresist layer at an interface to a layer located therebelow on the semiconductor substrate.例文帳に追加

従来のリソグラフィー技術を用いてパターンされたネガもしくはポジフォトレジスト層の場合、界面のフォトレジスト層を、その下に位置する層と、半導体基板において溶着するために、半導体基板との界面領域のフォトレジスト層は、短期的に、溶解温度より高い温度で過熱される。 - 特許庁

In the array antenna apparatus provided with antenna elements 21A, 21B and a feeder line 10 which are patterned on an upper substrate 1 and a lower substrate 2, a no-power-supply element 32 is formed so as to be disposed on a position of less than 1/2 wavelength from respective antenna elements 21A, 21B.例文帳に追加

上層基板１及び下層基板２上にパターン化されたアンテナ素子２１Ａ，２１Ｂと給電線路１０とを備えたアレーアンテナ装置において、各アンテナ素子２１Ａ，２１Ｂに対して、２分の１波長未満の位置に位置するように無給電素子３２を備える。 - 特許庁

The semiconductor light emitting element is provided with a substrate 10, a thermal diffusion layer 11 formed on the substrate 10 and patterned at prescribed intervals, a flat layer 12 covering the thermal diffusion layer 11 and having a flat surface, and a light emitting part 18 formed on the flat layer 12.例文帳に追加

基板１０、基板１０上に形成され、所定の間隔でパターニングされた熱拡散層１１、熱拡散層１１を覆い、平坦な表面を有する平坦層１２、及び平坦層１２上に形成された発光部１８を備えることを特徴とする半導体発光素子である。 - 特許庁

A base metal layer 100 to form an auxiliary capacitance between the layer 100 and the drain electrode 112 of a TFT 127 that applies a voltage to a pixel electrode is formed in a planar state on a glass substrate 130; that is, the layer is formed without being patterned on the glass substrate 130.例文帳に追加

画素電極１１４に電圧印加するＴＦＴ１２７のドレイン電極１１２との間で補助容量を形成するための下地金属層１００が、ガラス基板１３０上に面状に形成、即ち、ガラス基板１３０上にパターンニングされない状態で形成される。 - 特許庁

A masking material layer 44 is formed on a substrate 31 which is composed of a silicon substrate 42 and a single crystal silicon device layer 43 interposing an intermediate layer 41 of silicon dioxide (Fig. A), the masking material layer 44 is patterned, a mask 45 is formed having a pattern which is the same as the flat figure of an object optical device.例文帳に追加

二酸化シリコンの中間層４１を挟むシリコン基板４２及び単結晶シリコンのデバイス層４３からなる基板３１にマスク材層４４を形成し（図１０Ａ）、これをパターニングし、目的とする光デバイスの平面形状と同一パターンのマスク４５を形成する。 - 特許庁

To provide a display device for decreasing the influence of reflected light of external light caused by patterned bus lines, in the configuration wherein a backlight is disposed at a back surface of one substrate having common electrodes and color filters, and images are viewed from the side of the other substrate having pixel electrodes and thin film transistors.例文帳に追加

共通電極及びカラーフィルタを有する一方の基板の背面にバックライトを設け、画素電極及びＴＦＴを有する他方の基板の側から画像を視認する構成において、配線されたバスラインによる外光の反射光の影響を低減する表示装置を提供する。 - 特許庁

Disclosed is the organic semiconductor thin film formed on a substrate, the organic semiconductor thin film being characterized in that a solution of the organic semiconductor is supplied onto a second region in contact with a patterned first region finished with the finishing agent containing fluorine atoms and the surface is patterned by vaporization of a solvent in the solution.例文帳に追加

基板上に形成された有機半導体薄膜において、フッ素原子を含有する表面処理剤により表面処理が施されパターン化された第１の領域に接する第２の領域上に、有機半導体の溶液を供給し、溶液中の溶媒の揮発によりパターン化され、形成されることを特徴とする有機半導体薄膜。 - 特許庁

The method for producing the patterned metal oxide thin film comprises a step of coating the composition for the metal oxide thin film on a substrate, a step of irradiating light through a photomask on the coated film, a step of etching an unexposed part of the coated film with a solvent and a step of forming the patterned metal oxide thin film by burning after etching.例文帳に追加

また本発明のパターン状金属酸化物薄膜の製造方法は、金属酸化物薄膜用組成物を基板に塗布する工程、形成された塗布膜にフォトマスクを通して光照射を行う工程、未感光部の塗布膜を溶剤によりエッチングする工程、エッチング後、焼成してパターン状金属酸化物薄膜とする工程とを含む構成とする。 - 特許庁

In this charged particle beam exposure system, a reticle 1 on which a pattern is formed is illuminated with a charged particle beam, the charged partical beam which passes the reticle and is patterned is made to form an image on a sensitive substrate, and a pattern is transferred.例文帳に追加

本荷電粒子ビーム露光装置は、パターンを形成したレチクル１を荷電ビームで照明し、レチクルを通過してパターン化された荷電ビームを感応基板上に結像させてパターンを転写する装置である。 - 特許庁

A ferroelectric substance PZT layer 110 and a rare metal electrode 120 are laminated on a silicon substrate 100, and a TiO2 hard mask 130 is formed thereon, and then it is patterned by a resist 140 so as to form a hard mask 131.例文帳に追加

シリコン基板１００上に強誘電体ＰＺＴ層１１０、貴金属電極１２０を積層した構造上にTiO_2ハードマスク１３０を成膜し、レジスト１４０でパターニングしてハードマスク１３１を形成する。 - 特許庁

To create an SiO_2 film and/or an SiN film satisfying diffusion control properties and passivation properties in a deposition method that creates the SiO_2 film and/or the SiN film patterned on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上にパターニングされたＳｉＯ_2膜および／もしくはＳｉN膜を生成する製膜方法において、拡散制御性能、またはパッシベーション性能を満たすＳｉＯ_2膜および／もしくはＳｉN膜を生成する。 - 特許庁

To effectively prevent the formation of an acute angle or a thin portion where an electric field concentration easily occurs on the side edge of an electrode to be patterned on a substrate surface in a method of manufacturing an electrode plate.例文帳に追加

電極板の製造方法において、基板表面にパターニングされる電極の側縁に、電界集中を生じ易い鋭角部分や薄肉部分が形成されることを効果的に防止できるようにする。 - 特許庁

In a low resolution part in which the barrier wall of a light shielding part, an alignment mark or the like is wide and the enlargement of print depth is required, the surface of a substrate 21 for the printing plate is patterned by etching and formed.例文帳に追加

遮光部隔壁、アライメントマークなどの幅が広く、版深さを深くする必要がある低解像度部分においては、印刷版用基板２１の表面を、エッチング処理によってパターン化して形成する。 - 特許庁

Then parts existing on an upper surfaces 13A of the resist film 13 and on the main surfaces 11A of the substrate 11 in the film 12 to be patterned are removed by means of a dry etching processing, and thus the upper surfaces 13A of the resist film 13 is exposed.例文帳に追加

そして、被パターニング膜１２の、レジスト膜１３の上面１３Ａと基体１１の主面１１Ａ上に存在する部分をドライエッチング処理によって除去し、レジスト膜１３の上面１３Ａを露出させる。 - 特許庁

When the head substrate is produced, the laminated member, wherein an ink guide forming scheduled region and a sacrifice layer 70 are alternately laminated, is subjected to an etching treatment for once to be patterned into a prescribed shape to remove the sacrifice layer 70.例文帳に追加

また、ヘッド基板を作製する際、インクガイドの形成予定領域と犠牲層７０とを交互に積層した積層部材を、１度のエッチング処理で所定の形状にパターニングした後、犠牲層７０を除去する。 - 特許庁

To provide a method employing a vacuum film forming method by which a patterned material layer having a large thickness easily forms an optional angle between its side face and a substrate such as a right angle.例文帳に追加

真空成膜法を用いた方法であって、厚みが大きくパターン化された材料層を、容易にその側面が基板となす角度を垂直等の任意の角度とすることのできる方法を提供すること。 - 特許庁

This laminate type battery is realized by laminating on a substrate board (100) a plurality of layers which are patterned so that a battery element part (200) and an electric circuit part (300) may be formed by laminating.例文帳に追加

積層されることによって電池要素部（２００）および電気回路部（３００）が形成されるようにパターニングされた複数の層を基盤（１００）上に積層させることにより、積層型電池を実現する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures excellent plating resistance when used for forming a cured material layer on a patterned surface resin layer formed on a substrate with a formed circuit.例文帳に追加

回路形成済基板上に形成されているパターニングされた表面樹脂層上に硬化物層を形成するために用いられたときに、十分に優れためっき耐性が得られる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The method and the equipment for lithography comprises an illumination system which supplies a beam of radiation, a patterning device which patterns the beam, and a projecting system which projects the patterned beam on the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィの方法及び装置は放射線のビームを供給する照明システム、ビームにパターン形成するパターン形成デバイス、及び、パターン形成されたビームを基板の目標部分上に投影する投影システムを含む。 - 特許庁

In a lithography method for manufacturing such product as a semiconductor device or a mask for lithography, etc., a material is applied to a substrate for patterning, and a product is manufactured by a series of steps using a patterned layer.例文帳に追加

半導体デバイス又はリソグラフ用マスクのような製品を製造するためのリソグラフ方法において、基板上に材料を塗布し、パターン付けし、パターン付層を用いる一連のステップにより製品を製造する。 - 特許庁

In the manufacturing processes of an active matrix type thin film transistor element substrate, a gate insulating film, a semiconductor layer and an electrode layer for forming video signal wiring and a drain electrode are formed in film forms after a gate electrode is patterned.例文帳に追加

アクティブマトリックス型薄膜トランジスタ素子基板の製造工程において、ゲート電極をパターンニング後、ゲート絶縁膜と、半導体層と、映像信号配線とドレイン電極を形成するための電極層を成膜する。 - 特許庁

An aluminum film is formed on a piezoelectric substrate 1 and patterned and electrodes 3, 4 of an interdigital transducer 2, a reflector electrode 6 and a bonding pad 5 are formed with pyroelectric countermeasure lines 7 which are connected to have a same potential.例文帳に追加

圧電基板１上にアルミニウム膜を形成し、パターニングしてインターデジタルトランスデューサ２の電極３，４、反射器電極６およびボンディングパッド５を互いに同電位に接続する焦電対策ライン７とともに形成する。 - 特許庁

A processing apparatus comprises a laser irradiator 10 for patterning a laser beam into an elongated shape having a scheduled processing line in the longitudinal direction and irradiating the scheduled processing line on a brittle material substrate with the patterned laser beam.例文帳に追加

加工装置は、レーザビームを加工予定線が長手方向である細長い形状にパターニングし、パターニングされたレーザビームを脆性材料基板の加工予定線上に照射するレーザ照射装置１０を備える。 - 特許庁

The patterned magnetic recording medium includes a substrate; and a plurality of magnetic recording layers arranged at predetermined intervals, wherein the magnetic recording layers are formed of an alloy that contains Co, Pt, and Ni.例文帳に追加

基板及び所定間隔をおいて配列された複数の磁気記録層を備えるパターン化された磁気記録媒体であり、磁気記録層は、Ｃｏ、Ｐｔ及びＮｉを含む合金で形成されたパターン化された磁気記録媒体。 - 特許庁

So, color filters 6a', 6b', and 6c' are patterned on a semiconductor substrate 1 so as to have a specified interval C in adjoining color filter materials of other color, which is heated for flowing and curing.例文帳に追加

このように、カラーフィルタ６ａ’、６ｂ’および６ｃ’を、隣接する他の色のカラーフィルタ材料との間に所定の間隔Ｃが開くように半導体基板１上にパターンニングし、これを加熱処理して流動および硬化させる。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing patterned tempered glass, in which the temperature difference between inner and outer parts of a glass substrate subjected to heating and surface pattern formation is increased to the maximum, and thereby tempering is more thoroughly performed through rapid cooling.例文帳に追加

表面のパターン形成と共に加熱されたガラス基板の内外部の温度差を最大に大きくし、急冷却を通じて強化がより完全になされるようにするパターンド強化ガラスの製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which ensures high adhesion of a substrate after heat curing, has high adhesion to a metal layer and is suitable for producing a patterned cured film, such as, an interlayer insulating film in a semiconductor device.例文帳に追加

加熱硬化後に基板の密着性が高く、また、金属層との密着性が高く、半導体装置の層間絶縁膜等のパターン硬化膜の製造に好適なポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A transparent first ITO film is attachedly formed on a transparent substrate, and it is patterned in a shape of a plurality of striped electrode parts and a plurality of wiring parts that are lead wiring lines thereof to form a first electrode layer.例文帳に追加

透明な基板上に透明な第１ＩＴＯ膜を着膜し、これをストライプ状の複数の電極部とそれらそれぞれの引出配線である複数の配線部の形状にパターニングし第１電極層を形成する。 - 特許庁

A vacuum film forming device forms a 1st conductive film on an insulating substrate 121 and this 1st conductive film is patterned as specified by, for example, a photoetching method to form a gate wire 103.例文帳に追加

真空成膜装置によって、絶縁性基板１２１上に第１導電膜を形成し、この第１導電膜をたとえばフォトエッチング法によって、所定パターンにパターン形成してゲート配線１０３を形成する。 - 特許庁

To provide a surface-treated copper foil which has a low hygroscopicity and can be laminated with a liquid crystal polymer film excellent in heat resistance to form a composite material for a substrate which has a large peel strength and can be finely patterned.例文帳に追加

吸湿性が低く、優れた耐熱性を有する液晶ポリマーフィルムとラミネートして、ピール強度が大きく、ファインパターン化が可能な基板用複合材とすることのできる表面処理銅箔を提供すること。 - 特許庁

The color filter layer 28B is patterned to form a B color filter layer 13B and a transparent film 14 on the semiconductor substrate 18 and also to form an area 18a where an R color filter layer 13R is formed.例文帳に追加

カラーフィルタ層２８Ｂをパターニングして、半導体基板１８上にＢ色カラーフィルタ層１３Ｂ、透明膜１４を形成するとともに、Ｒ色カラーフィルタ層１３Ｒを形成する領域１８ａを形成する。 - 特許庁

A material film forming a TFT is laminated on an insulating film substrate, a resist mask having a plurality of areas of different thicknesses is provided on an uppermost layer and then patterned.例文帳に追加

ＴＦＴを構成する材料膜を絶縁膜基板上に積層して成膜してから、膜厚が互いに異なる複数の領域を有するレジストマスクを上記材料膜の最上層にパターニングして形成する。 - 特許庁

A polycrystalline silicon film 6, a tungsten nitride film 7, and a tungsten film 8 are laminated on a gate insulating film 5 formed on a semiconductor substrate 1, and the laminate is patterned for the formation of gate electrodes 10a, 10b, 10c.例文帳に追加

半導体基板１上のゲート絶縁膜５上に、多結晶シリコン膜６、窒化タングステン膜７およびタングステン膜８を積層してパターニングすることにより、ゲート電極１０ａ，１０ｂ，１０ｃを形成する。 - 特許庁

A silicon oxide film 2 is formed on a silicon semiconductor substrate 3, a polysilicon film is formed on the silicon oxide film, and a polysilicon film 6a is patterned in parallel at an appropriate interval using a resist film 5a as a mask.例文帳に追加

シリコン半導体基板３上にシリコン酸化膜２を形成し、シリコン酸化膜上にポリシリコン膜を形成し、レジスト膜５ａをマスクとしてポリシリコン膜６ａを平行且つ適長間隔でパターン形成する。 - 特許庁

In this biosensor comprising a substrate coated with a hydrophobic polymer compound, at least two or more kinds of surfaces are patterned by an ink jet print on a domain coated with the hydrophobic polymer compound.例文帳に追加

疎水性高分子化合物でコーティングした基板から成り、疎水性高分子化合物でコーティングされた領域上にインクジェットプリントにより少なくとも２種類以上の表面がパターニングされている、バイオセンサー。 - 特許庁

Further, by making protruded parts 100a of the rugged structure 100 a mask, the conductive layer 2 is etched and patterned and, thereby, a conductive member 12 arranged in a striped pattern is formed on the substrate 11A.例文帳に追加

そして、凹凸構造体１００の凸部分１００ａをマスクにして、導電層２をエッチングし、導電層２をパターニングすることで、基板１１Ａ上に縞状に配置される導電部材１２を形成する。 - 特許庁

A thin film layer such as a luminescent layer of the electroluminescent element is patterned by discharging a liquid material on a substrate 1 while scanning a nozzle part 2 as shown by an arrow by a coating applicator having the nozzle part 2.例文帳に追加

ノズル部２を備えた塗布装置により、ノズル部２を矢印で示すように走査しながら基板１上に液状材料を吐出することで、電界発光素子の発光層等の薄膜層をパターニングする。 - 特許庁

A release layer for controlling the position of a boundary defect formed during film growing is formed and patterned on the base substrate (step 1020), and the low defect density film is grown on the release layer (step 1060).例文帳に追加

膜成長の間に形成される境界欠陥の位置を制御するためのリリース層をベース基板に生成且つパターニングし（ステップ１０２０）、リリース層上に低欠陥密度膜を成長させる（ステップ１０６０）。 - 特許庁

To provide a method for use in manufacturing a device (CCD or CMOS image sensors) in which a substrate covered in a layer of colored radiation sensitive material has a patterned beam of radiation projected onto it.例文帳に追加

着色した放射線感光材料の層内に覆われた基板が、自身上に投影された放射線のパターン形成ビームを有するＣＣＤまたはＣＭＯＳイメージセンサの製造に使用する方法を提供する。 - 特許庁

A patterned Al layer 22 is formed on the surface of a silicon substrate 21 for manufacturing the orifice plate, and the silicon substrate 21 is subjected to dry etching while using an Al layer 22 as a mask, thereby forming a hole 21a serving as a recessed part disposed at the position corresponding to a discharge opening on the surface of the silicon substrate 21 and forming a groove-shaped cut line 21d.例文帳に追加

オリフィスプレートを作製するためのシリコン基板２１の表面に、パターニングされたＡｌ層２２を形成し、Ａｌ層２２をマスクとしてシリコン基板２１のドライエッチングを行うことで、シリコン基板２１の表面における吐出口に対応する位置に配置された、凹部としての穴２１ａ、および溝状の切断ライン２１ｄを形成する。 - 特許庁

To provide a molding substrate for an optical recording medium for simply producing the optical recording medium of a patterned medium type at low costs and a method of manufacturing the molding substrate precisely and inexpensively, and to provide the optical information recording medium constituted by using the molding substrate and having reduced cross light, crosstalk or cross erase and a manufacturing method of the optical recording medium.例文帳に追加

パターンドメディアタイプの光情報記録媒体を、低コストで簡易に作製できる光情報記録媒体用成形基板とその成形基板を精密かつ安価に製造する方法、ならびに当該成形基板を用いて構成したクロスライト、クロストークあるいはクロスイレースの少ない光情報記録媒体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Alternatively, a silicon oxide of having a thickness becoming a gap is formed by thermal oxidation on a silicon wafer where impurities are implanted heavily to the diaphragm substrate 1 on the side being bonded to the electrode substrate 2 and then it is patterned into a desired shape before being bonded to the electrode substrate 2.例文帳に追加

第２実施例）振動板基板１に半導体基板の電極基板２の接合面側に高濃度の不純物が注入されたシリコンウエハを用いて、このシリコンウエハに熱酸化によってギャップとなる厚さのシリコン酸化膜を形勢した後、接合面側のシリコン酸化膜を所望の形状にパターニングして電極基板２と接合した。 - 特許庁

The problem is solved by providing lithographic equipment which comprises a lighting system for supplying a projection beam of radiation, a projection system for projecting a patterned beam on a target position of a substrate, a substrate table for holding the substrate, and a controller for adjusting the spectrum distribution of radiation intensity of the projection beam.例文帳に追加

本発明は、放射の投影ビームを提供するための照明システムと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムと、基板を保持するための基板テーブルと、投影ビームの放射強度のスペクトル分布を調整するためのコントローラとを備えたリソグラフィ装置を提供することによってこの問題に対処している。 - 特許庁

The transparent conductive film 10 comprises the patterned transparent conductive layer 3 formed on the single face of a transparent film substrate 1, and a colored layer 5 provided on at least one of the transparent conductive layer 3 on the opposite side to the transparent film substrate 1 and the transparent film substrate 1 on the opposite side to the transparent conductive layer 3.例文帳に追加

本発明の透明導電性フィルム(10)は、透明フィルム基材(1)の片面にパターン化された透明導電層(3)が形成されており、透明導電層(3)における透明フィルム基材(1)とは反対側、及び透明フィルム基材(1)における透明導電層(3)とは反対側の少なくとも一方に設けられた着色層(5)を含む。 - 特許庁