「patterned substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

A thin film conductor is formed on at least one out of a surface and a back of the core substrate 9a by using any one out of a vapor deposition method, an ion plating method, an ion beam method, a vapor growth method and a sputtering method and patterned, and conductor patterns 19-22 are formed by patterning.例文帳に追加

コア基板９ａの表裏面の少なくともいずれかに蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、気相成長法、スパッタリング法のいずれかによって薄膜導体を形成した後にパターニングして導体パターン１９〜２２を形成する。 - 特許庁

A spiral antenna includes: antenna elements 11 patterned in a spiral shape on a dielectric substrate; a cavity 13 formed by providing an air gap between the antenna elements 11; and a magnetic substance 15 located between the antenna elements 11 and the cavity 13.例文帳に追加

スパイラルアンテナは、誘電体基板上にスパイラル型にパターン形成されたアンテナ素子１１と、アンテナ素子１１との間に空隙を設けて形成されるキャビティ１３と、アンテナ素子１１とキャビティ１３との間に配置される磁性体１５とを備える。 - 特許庁

A master disc 50 comprises a rigid or flexible substrate 52, and a first film 54 made of a soft magnetic material, patterned islands 56 made of soft magnetic material, which are located on the first film and extends above the film, and recesses 58 between the islands.例文帳に追加

マスタディスク５０は、剛性または可撓性基板５２と軟磁性材料の第１のフィルム５４と第１のフィルム上に配置されるとともに該フィルムより上に延在するパターン状の軟磁性材料の島５６と島間のくぼみ５８とを有する。 - 特許庁

This color filter manufacturing method has the step of patterning on the resin film 200 formed on a transparent substrate 100 by using a laser ablation unit 4, and the step of cleaning the patterned resin film 200 by using a cleaning unit 6.例文帳に追加

カラーフィルタの製造方法は、透明基板１００上に形成された樹脂膜２００をレーザアブレーション装置４によってパターニングするパターニング工程と、パターニングされた樹脂膜２００を洗浄装置６によって洗浄する洗浄工程とを備える。 - 特許庁

An anisotropic etching and an isotropic etching are alternately repeated to a silicon substrate 112 from the side where a patterned oxide film 114 is formed, and then, a side wall surface 119 extending in a tapered state from a hollow part 144 to a groove bottom side, is formed.例文帳に追加

パターンニングされた酸化膜１１４が形成された側からシリコン基板１１２に異方性エッチングと等方性エッチングとを交互に繰り返すことにより、窪み１４４よりも溝底側にテーパ状に広がる側壁面１１９を形成する。 - 特許庁

The method comprises a step for forming the thin film (220) to be patterned on a substrate (210), a step for forming an anti-reflective coating (ARC) layer (240) on the thin film (220), and a step for forming a mask layer (250) on the (ARC) layer (240).例文帳に追加

当該方法は、基板（２１０）上にパターニングされる薄膜（２２０）を形成する工程、その薄膜（２２０）上に反射防止コーティング（ＡＲＣ）層（２４０）を形成する工程、及びそのＡＲＣ層（２４０）上にマスク層（２５０）を有する工程を有する。 - 特許庁

In this lithographic projection apparatus, especially one using a spatial light modulator (5), a projection system (PL) includes a means (10) for splitting a pattern beam (4) into patterned beam fractions (12 and 15) and projecting the fractions (12 and 15) onto separate target positions (25 and 26) on a substrate (27).例文帳に追加

投影システム（ＰＬ）が、パターン付きビーム（４）をパターン付きビーム成分（１２、１５）に分割し、それらを基板（２７）上の個別目標部分（２５、２６）に投影するための手段（１０）を含む、特に空間光変調器（５）を使用するリソグラフィ装置。 - 特許庁

After a two layer mask of an aluminum film 102 and an organic film resist 103 is formed on a silicon substrate 101 and patterned through exposure, development and wet etching, first time dry etching is performed to form a recess 104 including a level difference shape of one step.例文帳に追加

シリコン基板１０１上に、アルミニウム膜１０２と有機膜レジスト１０３の２層のマスクを形成し、露光、現像およびウェットエッチングを経てパターニングした後、１回目のドライエッチングを行い、１段の段差形状を含む凹部１０４を形成する。 - 特許庁

A manufacturing method for the semiconductor device has a process in which metallic films as the plugs are formed on the whole surface of the semiconductor substrate, the process, in which the metallic films are patterned in the shape of the plugs, and the process in which sections among the plugs are filled with the insulating film.例文帳に追加

その製造方法において、前記プラグとなる金属膜を半導体基板全面に形成する工程と、前記金属膜をプラグの形状にパターニングする工程と、前記プラグ間に絶縁膜を充填する工程とを有する。 - 特許庁

To provide the manufacture method of a substrate, whose thickness of a conductive region with which a via is filled is not restricted by the thickness of a patterned metallic layer and in which conduction layers which are mutually connected by the conductive via are installed on both faces.例文帳に追加

バイアを充填する導電性領域の厚さがパターニングされた金属層の厚さによって制限されない、導電性バイアにより相互接続された導電層が両面に設けられた基板の製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

This novel method for making a biochip is characterized in that microcarriers made by immobilizing the biomaterial and a patterned substrate made by immobilizing the carriers thereon are immobilized by hydrophobic interaction by using a random in-liquid self-organizing method.例文帳に追加

本発明により、生体材料を固定化した微小担体と担体を固定化したパターン化基板を、無作為液中自己組織化法を用いて疎水性相互作用により固定化することを特徴とする、新規なバイオチップの作製方法が与えられた。 - 特許庁

An LC filter 7 is constructed by disposing an inductor 6 formed by a patterned wiring above the region of an electrode 4 consisting of a capacitor 5 formed on a semiconductor substrate 1 and connecting one end of the inductor 6 to the electrode 4.例文帳に追加

半導体基板１上に形成されたキャパシタ５を構成する電極４の領域上方に、パターン配線で形成されるインダクタ６を配置形成し、そのインダクタ６の一端と電極４とを接続することでＬＣフィルタ７を構成する。 - 特許庁

A bipolar transistor and a capacitive element are formed on the same semiconductor substrate 11 wherein a base region 20 formed of an epitaxial layer and the upper electrode 21 of the capacitive element are patterned from a vapor phase epitaxial growth layer formed simultaneously.例文帳に追加

同一の半導体基板１１にバイポーラトランジスタ及び容量素子が形成され、エピタキシャル層で形成されたベース領域２０及び容量素子の上部電極２１が、同時に形成された気相成長層からパターニングされて形成されている。 - 特許庁

When the metal layer is provided by electroless metal plating, the resin composition being patterned preferably contains a component adsorbing a catalytic metal for electroless metal plating or a catalytic metal becoming the substrate of electroless meta plating.例文帳に追加

このように無電解金属メッキで金属層を設ける場合は、パターン化される樹脂組成物は、無電解金属メッキのための触媒金属を吸着する成分、又は無電解金属メッキの下地となる触媒金属を含有していることが望ましい。 - 特許庁

The top surface of the substrate 10 including the inside of the contact hole 16 is covered with a metal layer 17 of aluminum etc., as shown in Fig. 1 (e) and the metal layer 17 is patterned to form cathodes 18 and wires 19 as shown in Fig. 1 (f).例文帳に追加

図１（ｅ）に示すように、コンタクトホール１６内側を含む孔開き基板１０の表面をアルミニウム等の金属層１７で覆い、その金属層１７をパターニングして、図１（ｆ）に示すように陰極１８及び配線１９を形成する。 - 特許庁

The patterning molded product 5 which keeps a molding material 4 integratedly molded by overlying the patterning sheet 3 and patterned on the surface is molded by using the one where a pattern material 2 is fixed on a part of the substrate 1 made of the material capable of infiltrating resin as the patterning sheet 3.例文帳に追加

樹脂が浸透可能な材料よりなる基材１の表面の一部に柄材２を固定したものを柄シート３として、この柄シート３に成形材料４を積層一体成形して表面に柄付けした柄付け成形品５を成形する。 - 特許庁

In the method for manufacturing an article covered with a patterned film, a substrate is coated with a photosensitive composition containing a metal alkoxide and β-diketone, the resulting coating film is patternwise irradiated with light, the exposed area of the coating film is polymerized and the unexposed area is dissolved and removed.例文帳に追加

金属アルコキシドおよびβ−ジケトンを含む感光性組成物を基材に塗布し、塗布膜にパターン状に光照射して塗布膜の露光部を重合させそして非露光部を溶解して除去するパターン膜被覆物品の製造方法である。 - 特許庁

To provide a fluorine-containing photosensitive composition which is a photosensitive liquid-repellent finishing agent capable of being patterned by photolithography, satisfies both of liquid repellency and photosensitivity, and has all of adhesion to a substrate, hardness of a liquid-repellent coating film and environmental adaptation.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法でパターニングが可能な感光性を有する撥液性表面処理剤であり、撥液性と感光性の両立のみならず、基板への密着性、撥液塗膜の硬度、環境対応性のすべてを兼ね備えたものを提供する。 - 特許庁

The spiral antenna includes: antenna elements 11 patterned in a spiral shape on a dielectric substrate; a cavity 13 formed by providing an air gap between the antenna elements 11; and a magnetic material 15 located between the antenna elements 11 and the cavity 13.例文帳に追加

スパイラルアンテナは、誘電体基板上にスパイラル型にパターン形成されたアンテナ素子１１と、アンテナ素子１１との間に空隙を設けて形成されるキャビティ１３と、アンテナ素子１１とキャビティ１３との間に配置される磁性体１５とを備える。 - 特許庁

In the nanoimprint method, a resin layer consisting of UV-curing resin is formed on a substrate, a mold having an irregularly patterned part is applied to the resin layer so that the irregularly patterned part comes into contact therewith, and then the resin layer is irradiated with UV-rays under an atmosphere containing a gas which impedes curing of the UV-curing resin thus curing the resin layer.例文帳に追加

本発明に係るナノインプリント方法は、基材上に紫外線硬化樹脂からなる樹脂層を形成し、前記樹脂層に対して、凹凸パターン部を有するモールドを、前記凹凸パターン部が前記樹脂層に接触するように押し当て、紫外線硬化樹脂の硬化を阻害する気体を含む雰囲気下で、前記樹脂層に紫外線を照射して前記樹脂層を硬化させることを特徴とする。 - 特許庁

A method for forming a patterned thin film layer on a substrate of a device comprises a step (block 110) for forming a first structure of comparatively high resolution on the device substrate using a first processing tool, and a step (block 120) for forming a second structure of comparatively low resolution on the device substrate so as to be connected to the first structure using a second processing tool.例文帳に追加

本発明は、装置の基板上にパターニングされた薄膜層を形成する方法であって、第1の処理ツールを用いて、前記装置基板上に比較的高解像度の第1構造を形成するステップ（ブロック１１０）と、第２の処理ツールを用いて、前記装置基板上に、前記第１構造と接続されるように、比較的低解像度の第２構造を形成するステップ（ブロック１２０）と、を含む方法であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a liquid drop jet head that can prevent electrostatic destruction of a driving circuit, by suppressing an electrostatic level of the driving circuit provided on a silicon substrate when the liquid drop jet head is manufactured by spraying particles on the face of the substrate having a mask layer of an organic material patterned thereon beforehand.例文帳に追加

予めパターニングされた有機材料のマスク層を有する基板の基板面に粒子を吹き付けることによって、液滴吐出ヘッドを製造する際、シリコン基板等の基板上に設けられた駆動用回路の帯電位を低減し、駆動用回路の静電破壊を防止することのできる液滴吐出ヘッドの製造方法および装置を提供する。 - 特許庁

The transflective color filter has a transparent substrate and a transparent film pattern region where a transparent film pattern layer consisting of a transparent film formed on the transparent substrate in a patterned shape and a coloring layer formed so as to cover the transparent film pattern layer are laminated.例文帳に追加

本発明は、透明基板と、前記透明基板上に透明膜がパターン状に形成されてなる透明膜パターン層と、前記透明膜パターン層を覆うように形成された着色層とが積層されてなる透明膜パターン領域を有することを特徴とする半透過半反射型カラーフィルタを提供することにより上記目的を達成するものである。 - 特許庁

Further, while using the patterned photo resist 14 as a mask, the reflection prevention film 13 and polymer layer 12 are etched under such a condition that the etching speed of the polymer layer 12 is higher than that of the reflection prevention film 13 and more higher than that of the semiconductor substrate 11, so that a mask for processing the semiconductor substrate 11 is formed.例文帳に追加

続いて、パターニングされたフォトレジスト１４をマスクとして、ポリマー層１２のエッチング速度が反射防止膜１３のエッチング速度よりも速く、半導体基板１１のエッチング速度よりもさらに速くなる条件で、反射防止膜１３及びポリマー層１２をエッチングし、半導体基板１１に処理を施す際のマスクを形成する。 - 特許庁

Since the heaters 15 are formed on the insulating base layer 14 formed on the back of the solid electrolyte substrate 11 by patterning using insulating paste, the heat conductivity to the solid electrolyte substrate 11 from the heaters 15 is enhanced as compared with a conventional example wherein the heaters are patterned on separate substrates and the number of members or manufacturing processes is also reduced.例文帳に追加

固体電解質基板１１の裏面に形成された絶縁性ペーストによる絶縁基層１４上にヒータ１５がパターニング形成されているため、ヒータが別途のヒータ基板上にパターニングされている従来例に較べ、ヒータ１５から固体電解質基板１１への熱伝導性が向上し、しかも、部材や製造工程も削減される。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes steps of: forming a resist underlay film from the above composition for forming a resist underlay film on a substrate; forming a resist film thereon; forming a resist pattern by exposure and development; etching the underlay film through the resist pattern; and processing the semiconductor substrate through the patterned underlay film.例文帳に追加

基板にレジスト下層膜形成組成物によりレジスト下層膜を形成する工程、その上にレジスト膜を形成する工程、露光と現像によりレジストパタ−ンを形成する工程、レジストパタ−ンにより該下層膜をエッチングする工程、及びパタ−ン化された下層膜により半導体基板を加工する工程を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a preliminarily determined pattern such as a grating, comb-shaped and circular pattern can be formed in a single film forming process using a single mask under conventional various mask use environments such as high temperature, low temperature, vacuum and gas atmospheres, and to provide a patterned substrate prepared by the method, and a solar cell element using the substrate.例文帳に追加

従来の高温・低温・真空・ガス雰囲気中などの様々なマスク使用環境下で、格子状、櫛形、環状などの所定のパターンの成膜を、単独のマスクを用いて１回の成膜で行うことができるパターン形成方法、該方法によって作成されたパターン形成基板、及び該基板を用いた太陽電池素子の提供。 - 特許庁

In the patterned aluminum sheet, an aluminum substrate of a lower layer and an aluminum perforated sheet of an upper layer having opening parts consist of a clad sheet integrated by the clad rolling, and a pattern is formed over the entire surface of the clad sheet by providing an anodically oxidized film of different tone on the surface of the perforated sheet and the surface of the substrate exposed in the opening parts.例文帳に追加

下層のアルミニウム基板と開口部を備えた上層のアルミニウム開口板とがクラッド圧延により一体化されたクラッド板から成り、開口板の表面および開口部内に露出した基板の表面に、異なる色調の陽極酸化皮膜を備えたことにより、クラッド板の表面全体に模様が形成されている模様付アルミニウム板。 - 特許庁

The organic light-emitting element includes: a substrate; a first electrode layer regularly patterned on the substrate; a low-refraction conductive layer arranged on the first electrode layer and including a conductive material with a refractive index smaller than that of an organic layer; the organic layer arranged on the low-refraction conductive layer; and a second electrode layer formed on the organic layer.例文帳に追加

基板と、基板上に規則的にパターニングされた第１電極層と、前記第１電極層上に配置され、有機層よりも屈折率が小さい導電性物質を含む低屈折導電層と、前記低屈折導電層上に配置される有機層と、前記有機層上に形成される第２電極層と、を備える有機発光素子。 - 特許庁

By an imaging method using the lithography system, a desired pattern printed onto a substrate is decomposed into at least two constituting subpatterns that can be decomposed optically by the lithography system, and the piled-up body of two sacrifice hard masks is applied onto the substrate at the upper portion of a target layer patterned by a desired dense line pattern.例文帳に追加

リソグラフィ・システムを使用するイメージング方法は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィ・システムによって光学的に分解することが可能な少なくとも２つの構成サブパターンに分解すること、所望の密なライン・パターンでパターニングされる標的層の上部において、２つの犠牲ハード・マスクの積重体を基板にコーティングすることを含む。 - 特許庁

The directional coupler includes: a main line 11 provided on a dielectric substrate; a loop-shaped sub line 12 which is patterned on the dielectric substrate and a part of which is spaced from the main line; and a pair of correction pattern 13 disposed on both ends of a coupled portion of the main line to the sub line.例文帳に追加

本実施形態に係る方向性結合器は、誘電体基板に設けられる主線路１１と、前記誘電体基板上にパターン形成され、その一部が前記主線路と一定の空隙をもって配置されるループ形状の副線路１２と、前記主線路と前記副線路との結合部の両端に配置される一対の補正パターン１３とを具備する。 - 特許庁

The method for manufacturing a metal photograph includes steps of preparing a substrate, applying a photoresist film thereon, exposing and developing the film by using a patterned film as a mask to pattern the photoresist film to form a photoresist pattern having a pattern corresponding to the film, forming a seed film on the substrate and the photoresist pattern, and producing a metal film on the seed film by LIGA techniques.例文帳に追加

金属写真の製作方法は、基板を提供して、それにフォトレジスト膜を塗布し、パターンを有するフィルムをマスクとして露光現像工程を行って、フォトレジスト膜をパターン化して、フィルムに対応するパターンのあるフォトレジストパターンを形成し、基板とフォトレジストパターンにシード膜を形成し、ＬＩＧＡ技術でシード膜に金属膜を形成するステップを含む。 - 特許庁

The patterned magnetic recording medium is provided with: a substrate; and a recording layer formed on the substrate, having a plurality of sides with planar shapes inclined in a down track direction, a first width part of a cross track direction, and a second width part smaller than the first width part of the cross track direction, and including recording bits constituting projecting patterns.例文帳に追加

基板と、前記基板上に形成され、平面形状がダウントラック方向に対して傾斜する複数の辺と、クロストラック方向の第１の幅の部分と、クロストラック方向の第１の幅よりも狭い第２の幅の部分とを有し、凸パターンをなす記録ビットを含む記録層とを具備したことを特徴とするパターンド磁気記録媒体。 - 特許庁

The magnetic recording medium has a non-magnetic substrate, magnetic recording layers patterned and formed to separate from each other on the non-magnetic substrate, non-magnetic materials embedded between the patterns of the magnetic recording layers, metallic films formed on the magnetic recording layers and the non-magnetic materials and carbon protective films formed on the metallic films.例文帳に追加

非磁性体基板と、前記非磁性体基板上に互いに分離するようにパターン化して形成された磁気記録層および磁気記録層のパターン間に埋め込まれた非磁性体と、前記磁気記録層および非磁性体上に形成された金属膜と、前記金属膜上に形成されたカーボン保護膜とを有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁

A trench is formed in the major surface of a semiconductor substrate, impurities are implanted into the bottom of the trench, an insulating film is formed at least on the inner surface of the trench, a conductive film is formed on the entire surface of the semiconductor substrate including the interior of the trench, and then the conductive film is patterned corresponding to the trench thus forming a semiconductor device having a trench structure.例文帳に追加

半導体基板の主面にトレンチを形成し、トレンチの底部に不純物を注入し、少なくとも前記トレンチの内表面に絶縁膜を形成し、前記トレンチの内部を含む半導体基板の全面に導電膜を形成し、導電膜を前記トレンチに対応してパターニングして、トレンチ構造を有する半導体装置を形成する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a process of forming an amorphous silicon layer 13 on a substrate such as a plastic substrate 11, a process of patterning the amorphous silicon layer 13 and forming a prescribed pattern to be a thin film transistor, and a process of crystallizing the patterned amorphous silicon layer 13 thereafter, and the semiconductor device provided with the thin film transistor is manufactured.例文帳に追加

プラスチック基板１１等の基板上にアモルファスシリコン層１３を形成する工程と、アモルファスシリコン層１３をパターニングして、薄膜トランジスタとなる所定のパターンを形成する工程と、その後、パターニングされたアモルファスシリコン層１３を結晶化する工程とを有して、薄膜トランジスタを有する半導体装置を製造する。 - 特許庁

The patterned magnetic recording medium has a substrate, a ferromagnetic recording layer formed on the substrate and formed in projecting patterns and the non-magnetic embedding layer embedded in recessed parts between the projecting patterns of the ferromagnetic recording layer and composed of an SiOC film containing Si, O and C and having ≤0.05at% C content.例文帳に追加

基板と、前記基板上に形成された、凸パターンをなす強磁性記録層と、前記凸パターンをなす強磁性記録層の間の凹部に埋め込まれた、Ｓｉ、Ｏ、およびＣを含有し、Ｃの含有量が０．０５ａｔ％以下であるＳｉＯＣ膜で形成された非磁性埋め込み層とを具備したことを特徴とするパターンド磁気記録媒体。 - 特許庁

In the method for manufacturing the TFT array substrate provided with at least a first conductive film, an insulation layer, a semiconductor layer, a second conductive film and a third conductive film (or a reflector film) on an insulation substrate, the second conductive film, the semiconductor layer and the insulation layer are patterned with one photoengraving step and the second conductive film is over-etched.例文帳に追加

絶縁性基板上に少なくとも第１の導電膜、絶縁膜、半導体層、第２の導電膜および第３の導電膜（または反射膜）を有するＴＦＴアレイ基板の製造方法において、第２の導電膜、半導体層および絶縁膜を１回の写真製版工程でパターニングするとともに、第２の導電膜をオーバーエッチする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method wherein crack generation based on membranous stress can be induced in an appropriate position which does not have impact in the semiconductor device or the like, when at least one film is formed on a substrate and patterned and at least one device is formed, and strength of the substrate is not reduced.例文帳に追加

基板上に少なくとも１つの膜を形成しパターニングを行い、少なくとも１つのデバイスを形成する際に、膜の応力に基づくクラック発生を半導体デバイス等に影響の無い適切な位置で誘発させることができ、かつ基板の強度も減ずることのない半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the method for manufacturing the microstructure array, a thermoplastic resin material 2 is applied to a substrate 1 in a desired patterning shape corresponding to the arrangement of a desired microstructure array, the patterned thermoplastic material layer 2 is deformed in a discrete state by heat treatment, and a continuous film 3 is formed on the deformed surface of the thermoplastic material layer 2 and the substrate 1.例文帳に追加

マイクロ構造体アレイの作製方法において、基板1上に熱可塑材料層2を所望のマイクロ構造体アレイの配列に応じて所望の形状でパターニングし、離散状態においてパターニングした熱可塑材料層2を熱処理にて変形させ、変形した熱可塑材料層2面及び基板2上に連続膜3を形成する。 - 特許庁

In the cell array substrate having cell-adhesiveness variation pattern that comprises regions having good cell adhesiveness and regions having inhibited cell adhesiveness patterned on a substrate and having a water contact angle of 10 to 40° at the good cell adhesiveness regions, and cells are adhered to the good cell adhesiveness region.例文帳に追加

基材上に細胞接着性良好領域と細胞接着性阻害領域がパターン化された細胞接着性変化パターンを有し、該細胞接着性良好領域の水接触角が１０〜４０°である細胞配列用基材において、該細胞接着性変化パターンの細胞接着性良好領域に細胞が接着された細胞接着基材。 - 特許庁

The method has wettability improving treatment ST 5 and ST 7 which improve the wettability of a patterned substrate 1 to be treated with respect to the liquid materials 11, 12 and 13 by bringing the substrate 1 into contact with water 4 prepared by dissolving gaseous ozone into pure water when coating the liquid materials and film deposition treatment ST 6 and ST 8 which deposit the film of the liquid materials after the wettability improving treatment.例文帳に追加

液体材料１１，１２，１３を塗布する際に、パターニングされた被処理基板１を純水にオゾンガスを溶解させた水４に接触させて、基板１の液体材料に対する濡れ性を向上させる濡れ性向上処理ＳＴ５，ＳＴ７と、濡れ性向上処理後に液体材料を成膜する成膜処理ＳＴ６，ＳＴ８とを有する。 - 特許庁

An insulation film is deposited on a P-type Si substrate 1, a polysilicon film is formed with a CVD method after a well layer 2 is formed by implanting a P-type impurity such as boron and the like, and a plurality of gate-electrodes patterned with its corner-edge-contact arranged is formed.例文帳に追加

Ｐ型Ｓｉ基板１上に絶縁膜を堆積し、Ｂ等Ｐ型不純物を注入してウエル層２を形成後、ＣＶＤ法でポリＳｉ膜を形成し、角部の頂点が接するような配置でパターニングされた複数のゲート電極部を形成する。 - 特許庁

On the surface of a silicon substrate 1, a gate oxide film 3 is formed, thereon an N-type polycrystalline silicon film 4 is formed, furthermore thereon a silicon nitride film 5 for preventing impurity diffusion is formed, and the films 3, 4, 5 are patterned so as to left in an NMOS region.例文帳に追加

シリコン基板１の表面上にゲート酸化膜３を形成し、その上にｎ型の多結晶シリコン膜４を形成し、さらにその上に不純物拡散防止用のシリコン窒化膜５を形成し、これらをｎＭＯＳ領域に残すようにパターニングする。 - 特許庁

Consequently, variation in irradiation position of an electron beam based on a vibration transmitted from the outside of an apparatus, e.g., from the floor surface on which an electron beam lithography apparatus 100 is mounted, can be corrected efficiently and thereby the substrate W can be patterned precisely.例文帳に追加

これにより、電子線描画装置１００が載置された床面など、装置の外部から伝わる振動に基づく電子線の照射位置の変動分を効率的に補正することができ、結果的に、基板Ｗに精度よくパターンを描画することが可能となる。 - 特許庁