「patterned substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

A channel region 12 and a gate oxidized film 13 are patterned on a prescribed region on a P-type element region 11 in the substrate of signal- crystal Si, and a gate electrode 14 on them, for example, as shown in Fig. (a).例文帳に追加

（ａ）に示すように、単結晶Ｓｉの基板における例えばＰ型の素子領域１１上の所定領域に、チャネル領域１２、ゲート酸化膜１３、その上にゲート電極１４をパターニングする。 - 特許庁

An amorphous Si thin film in film thickness of 35 nm is formed with reference to a substrate 2, it is patterned to be in a prescribed shape, and then an amorphous Si thin film in a film thickness of 50 nm is formed additionally.例文帳に追加

基板２に対して３５ｎｍの膜厚で非晶質Ｓｉ薄膜を形成し、これを所定形状にパターニングしてから５０ｎｍの膜厚で非晶質Ｓｉ薄膜を更に形成する。 - 特許庁

A low reflecting film 6 and a high reflecting film 10 are respectively separately patterned to one side 4a and the other side 4b of a transparent substrate 4 and the films 6, 10 configure the black matrix.例文帳に追加

低反射膜６と高反射膜１０とを、それぞれ透光性基板４の一方面４ａと他方面４ｂとに分けてパターンニングし、当該各膜６、１０によってブラックマトリックスを構成した。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method wherein an object film formed on a substrate such as a silicon wafer is patterned into a specified shape by using a masking material high in etch resistance.例文帳に追加

高いエッチング耐性を持ったマスク材を用い、シリコンウェハーなどの基板上に形成した被加工膜を所定の形状にパターニングすることが可能となる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

After an insulating film 21c and a silicon film 12c are patterned onto a semiconductor substrate 10, and a capacity formation section C is formed; a sidewall insulating film 14c is formed on the side of the capacity formation section C.例文帳に追加

半導体基板１０上に絶縁膜２１ｃ及びシリコン膜１２ｃをパターニングして容量形成部Ｃを形成した後、容量形成部Ｃの側面上に側壁絶縁膜１４ｃを形成する。 - 特許庁

Each recording area has data area patterns 58, where the shape of magnetic material is patterned and a plurality of servo area patterns 60 which are provided with a prescribed phase in the circumferential direction of the substrate.例文帳に追加

各記録領域は磁性体形状がパターン化されたデータ領域パターン５８および基板の円周方向に所定の位相で設けられた複数のサーボ領域パターン６０を有している。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a high-definition color conversion substrate having a predetermined film thickness to be patterned preferably and to be produced efficiently without deteriorating the organic molecules or generating an incomplete transfer.例文帳に追加

有機分子を劣化させることなく、かつ転写残りがなく効率的に生産でき、高精細で所定の膜厚を有し、良好なパターニングが可能な、色変換基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

On that substrate 1S, a groove (trench) 6 is patterned which has a depth deeper than that of the p^--type well 3, and a secondary gate electrode 10G1 is provided inside the groove 6 via an insulating film 9.例文帳に追加

その基板１Ｓには、深さがｐ^−型ウェル３より深い溝６（トレンチ）がパターニングされており、その溝６の内部に絶縁膜９を介して設けられた第２ゲート電極１０Ｇ１が設けられている。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device wherein an underground organic film is made not to be corroded by an organic solvent when a retardation layer is patterned on a substrate on which the organic film is formed and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

有機膜が形成された基板に位相差層をパターニングする際に有機溶剤によって下地の有機膜が侵食されないようにした液晶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

An etching solvent 13 is placed on the substrate 10 and a light 15 which is patterned by using a mask 17 from a parallel light source 19 is emitted to the etching solvent 13, thereby manufacturing the acoustic lens.例文帳に追加

特に、エッチング溶剤１３を基板１０上に載せ、平行な光源１９からマスク１７を用いて作ったパターン化した光１５を、エッチング溶剤１３に照射して、音響レンズを製造する。 - 特許庁

A major surface of a transparent substrate 11 made of quartz, calcium fluoride or the like transparent to exposure light has recesses patterned by engraving the surface, and a light shielding film 12 is disposed in the recess.例文帳に追加

露光光に対して透明な石英やフッ化カルシウムなどの透明基板１１の主面に掘り込み形成された凹部がパターニングされており、この凹部に遮光性膜１２が設けられている。 - 特許庁

A lithography apparatus comprises a masking device for covering at least a part of patterning means used for patterning a projected beam, before image formation of a patterned beam is performed on a substrate.例文帳に追加

パターン化されたビームを基板上に結像する前に投影ビームをパターン化するために使用されるパターン化手段の少なくとも一部を覆い隠すためのマスキング・デバイスを有するリソグラフィ投影装置。 - 特許庁

In this detection chip, a liquid-permeable spacer 2 with molecules 1 having a molecule recognizing function fixed thereto is patterned on a substrate 3 so as to serve as a flow path 6 for a liquid sample.例文帳に追加

分子認識機能を有する分子１が固定された液浸透性スペーサ２が、液体試料用の流路６となるように基板３上にパターニングされていることを特徴とする検出チップ - 特許庁

A patterned first polycrystalline silicon 102 is formed on a first silicon oxide film 101 formed on a semiconductor substrate 100, and the surface thereof is covered by a second silicon oxide film 103.例文帳に追加

半導体基板１００上に形成された第１のシリコン酸化膜１０１上に、パターニングされた第１の多結晶シリコン１０２が形成され、表面を第２のシリコン酸化膜１０３により覆われている。 - 特許庁

Next, a predetermined resist is formed on an electrode film 113 from which the substrate 111 for film formation is removed, the electrode film 113 is patterned to form the upper electrode 103 (the figure 3B, the process j).例文帳に追加

次に、成膜用基板１１１が除去された電極膜１１３上に所定のレジストを形成し、この電極膜１１３をパターニングして、上部電極１０３を形成する（図３Ｂ、工程ｊ）。 - 特許庁

The phase shift mask comprises the light-proof film (MoSiON) as a patterned phase shift film, which is heat-treated on a transparent substrate, to form an oxide film on the surface of the light-proof film (MoSiON).例文帳に追加

位相シフトマスクにおいて、透明基板にパターニングした位相シフト膜としての遮光膜（ＭｏＳｉＯＮ）を熱処理して前記遮光膜（ＭｏＳｉＯＮ）の表面に酸化膜を形成させてなる。 - 特許庁

To provide an array substrate for a reflection type liquid crystal display device capable of embodying high numerical aperture and high brightness by providing a patterned spacer for maintaining a gap of a liquid crystal panel, and to provide a manufacture method thereof.例文帳に追加

液晶パネルのギャップを維持するパターン化したスペーサーを含んで、高開口率と高輝度を具現できる反射型液晶表示装置用アレイ基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture, with high throughput, a magnetic recording medium having a patterned medium wherein imprinting is carried out uniformly over a full surface even when there is distortion between a substrate and a stamper, and wherein no change occurs in a resist film with time.例文帳に追加

基板とスタンパの間で歪みがある場合にも全面均一にインプリントが可能であり、且つレジスト膜の経時変化もしないパターンドメディアを有する磁気記録媒体を高スループットで作製する。 - 特許庁

To provide a method for forming minute projections of uniform height on a flexible substrate, the minute projections capable of being used for spacers for a liquid crystal display or the like and capable of being accurately patterned.例文帳に追加

液晶表示用スペーサーなどに用いることが可能で、精度よくパターニングでき、高さが均一に揃った微小突起物を可撓性基材上に形成する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a laser scribing device determining whether a laminated film of a solar cell substrate has been patterned to a predetermined pattern even in a production line with a reliable and simple structure.例文帳に追加

太陽電池基板の積層膜を所定パターンにパターニングできたかどうかを、ライン工程においても確実かつ簡単な構造で判定することができる、レーザースクライブ装置を提供することにある。 - 特許庁

The light interference type color display has a transparent substrate, an inner front light diffusion layer, a plurality of first electrodes, a patterned supporting layer, a plurality of optical films, and a plurality of second electrodes.例文帳に追加

透明基板、内側前方光拡散層、複数の第一電極、パターン化支持層、複数の光学的フィルム、および複数の第二電極を有する光干渉型カラーディスプレイが提供される。 - 特許庁

A glass or an Si wafer having an optional pattern comprising a metal and formed thereon is used as the substrate to carry out the CVD method and the carbon nanotubes are selectively prepared only in the patterned part.例文帳に追加

基板として、ガラス又はＳｉウェハー上に、前記金属からなる任意のパターンを形成したものを用いて上記ＣＶＤ法を行い、このパターン部のみに選択的に、カーボンナノチューブを作製する。 - 特許庁

A nonporous anode oxidation film (MAO) 5 is formed by anodizing the surface of a wiring metal film formed on a substrate, and then the wiring metal film is patterned to form a gate electrode 4.例文帳に追加

基板上に形成された配線金属膜の表面を陽極酸化することにより無孔質陽極酸化膜(ＭＡＯ)５を形成した後、配線金属膜をパターニングしてゲート電極４を形成する。 - 特許庁

A plurality of electrodes 5 for connection are patterned on a facing surface 21 of a facing substrate 2, and a TFT 6 is formed to connect a drain electrode 67 to each electrode 5 for connection.例文帳に追加

対向基板２の対向面２１に複数の接続用電極５をパターニングするとともに、各々の接続用電極５にドレイン電極６７が接続されるようにＴＦＴ６を形成する。 - 特許庁

Protein including a metal is patterned on a semiconductor substrate as a result of including steps for patterning a charged material, and adsorbing protein including a metal to the charged material.例文帳に追加

電荷を帯びた材料をパターニングし、電荷を帯びた材料に、金属内包タンパク質を吸着させる工程を含むことにより、結果的に金属内包タンパク質を半導体基板にパターニングするものである。 - 特許庁

A thin film device comprises the flexible substrate (10), a conductive film (14) which is patterned in a specified shape and disposed on one surface side of the substrate, and a hard film (16) which has higher hardness than the conductive film and is provided covering the conductive film.例文帳に追加

可撓性を有する基板(10)と、所定形状にパターニングされており、前記基板の一方面側に設けられる導電膜(14)と、前記導電膜よりも硬度が高く、当該導電膜を覆うようにして設けられる硬質膜(16)と、を備える、薄膜デバイスである。 - 特許庁

The flexible substrate resolver includes: a rotor 2; a stator 4 having a plurality of protrusions 3 circumferentially disposed, and radially protruded toward the rotor 2; and a flexible substrate 8 having a surface radially viewing the rotor 2, and formed with an excitation coil 5 and output coils 6, 7 which are patterned.例文帳に追加

ロータ２と、そのロータ２に向けて径方向に突き出た突起３を周方向に複数個並べたステータ４と、上記ロータ２に径方向から基板面を臨ませ励磁コイル５及び出力コイル６，７がパターンで形成されたフレキシブル基板８とを備えた。 - 特許庁

Next, the substrate table is positioned relative to a radiation beam on the basis of the reading of the level sensor, and the value of the level sensor is read by using the level sensor and the patterned radiation beam while a pattern is synchronously imaged on a target portion by scanning the target portion of the substrate.例文帳に追加

さらに、基板テーブルをレベルセンサ読取値に基づいて放射ビームに対して位置決めし、基板のターゲット部分をスキャンすることによってパターンをターゲット部分に同期イメージングしている間、レベルセンサとパターン付き放射ビームを使用してレベルセンサ値を読取る。 - 特許庁

After a pad oxide film 2, a silicon nitride film 3 and a resist film 4 are formed in order on a silicon substrate 1, the resist film 4 is patterned by photolithography, and a groove is formed by etching the silicon nitride film 3, the pad oxide film 2 and silicon substrate 1 with the resist film 4 as a mask.例文帳に追加

シリコン基板１上にパッド酸化膜２、シリコン窒化膜３、レジスト膜４を順に形成した後、レジスト膜４をフォトリソグラフィによってパターニングし、レジスト膜４をマスクとしてシリコン窒化膜３、パッド酸化膜２、シリコン基板１をエッチングして溝を形成する。 - 特許庁

The light-emitting diode has a first and a second opposing surfaces, is transparent with respect to light radiation of a predetermined wavelength range, and in section includes a substrate patterned so as to form a plurality of pedestals which extends in the substrate toward from the first surface to the second surface.例文帳に追加

発光ダイオードは、第１及び第２の対向する面を有し、所定の波長範囲の光放射に対しては透明であり、断面では、第１の面から第２の面に向かって基板の中に延びる複数のペデスタルを形成するようにパターン化された基板を含む。 - 特許庁

An insulating film 53 is formed on a semiconductor substrate 51, in the same process as that of the gate insulating film of an MIS transistor which is present on the semiconductor substrate 51, and a gate electrode material layer 54 of the MIS transistor is formed on this insulating film, and patterned.例文帳に追加

半導体基板５１上に、この基板上に存在するＭＩＳ型トランジスタのゲート絶縁膜と同一工程で絶縁膜５３を形成し、この絶縁膜上に上記ＭＩＳ型トランジスタのゲート電極材料層５４を形成してパターニングする。 - 特許庁

To provide a conductive base substrate for plating capable of being easily manufactured and a manufacturing method thereof, with and by which a substrate with a conductor pattern patterned so as to have conductivity and light transmitting property can be manufactured at high productivity by using a transfer method.例文帳に追加

導電性及び光透過性を有するようにパターニングされた導体層パターン付き基材を転写法を用いて生産性よく製造することができ、しかも、それ自体作製が容易であるめっき用導電性基材及びその製造法を提供する。 - 特許庁

After forming an element isolation region 105 that uses a silicon nitride film 102 for forming a field, the silicon nitride film 102 and a semiconductor substrate 100 are patterned to form a gate trench, which reaches the semiconductor substrate 100 in an active region 106.例文帳に追加

フィールド形成用のシリコン窒化膜１０２を用いて素子分離領域１０５を形成した後、このシリコン窒化膜１０２及び半導体基板１００をパターニングすることにより、半導体基板１００に達するゲートトレンチを活性領域１０６に形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a matrix substrate for a liquid crystal with which a liquid repellent layer with a property to repel a conductive material to form a conductive film is patterned without using lifting-off and to provide the matrix substrate for the liquid crystal manufactured with the method.例文帳に追加

導電膜を形成する導電材料を弾く性質を有する撥液層を、リフトオフを利用することなくパターニングすることができる液晶用マトリクス基板の製造方法およびそれによって製造される液晶用マトリクス基板を提供する。 - 特許庁

The method for forming regularly-disposed nanodots includes: a step (step S1) of supplying a substrate, a step (step S2a) of forming a thin metal film on the substrate, a step (step S3a) of forming a fine patterned grooves, and a step (step S4) of performing annealing.例文帳に追加

規則的に配置されるナノドットを形成するナノドット形成方法は、基板を提供する過程（ステップＳ１）と、基板上に金属薄膜を形成する過程（ステップＳ２ａ）と、微細パターンの溝を形成する過程（ステップＳ３ａ）と、焼鈍する過程（ステップＳ４）とからなる。 - 特許庁

The method of fabricating the CMOS image sensor includes the steps of providing a substrate in which a predetermined process has completed; forming a patterned block layer on top of a region of the substrate where the photodiode is to be formed; using mask to implant ions into a remaining region except the region where the photodiode is to be formed, leaving the patterned block layer; and removing the mask.例文帳に追加

本発明のＣＭＯＳイメージセンサの製造方法は、所定の工程が完了した基板を用意するステップと、該基板のフォトダイオードの形成される領域の上部にパターニングされたブロック層を形成するステップと、該パターニングされたブロック層を残した状態で、前記フォトダイオードの形成される領域を除く残りの領域に対して、マスクを用いたイオン注入を行うステップと、前記マスクを除去するステップとを含む。 - 特許庁

In this decorating method which has a stage of applying an inorganic coating material consisting of an aqueous solution of water-soluble alkali metal silicate on the surface of a substrate 1, patterned parts containing a hardener which hardens the alkali metal silicate on at least a part of the surface of the substrate 1 are formed and, subsequently, the inorganic coating material is applied so as to cover at least the patterned parts.例文帳に追加

基材１の表面に水溶性アルカリ金属珪酸塩の水溶液よりなる無機塗料を塗布する工程を有する加飾方法において、該基材の表面の少なくとも一部にアルカリ金属珪酸塩を硬化させる硬化剤を含有した模様部を形成し、次いで、少なくとも該模様部を覆うように前記無機塗料を塗布することを特徴とする無機塗料を用いた加飾方法。 - 特許庁

This lithography system projects a patterned radiation beam on the target of a substrate containing a radiation photosensitive layer by a radiation source, a patterning structure and a projection system is provided with a gas flashing system for supplying air from a region between the projection system and the substrate in order to remove gas spread from the target section while the target section is exposed by the patterned radiation beam.例文帳に追加

放射線源、パターニング構造、投影システムによって放射線感光層を含む基板の標的部分上にパターン化放射線ビームを投影するリソグラフィシステムにおいて、投影システムと基板の間の領域から空気を供給することによって、標的部分をパターン化放射ビームで露光する間に標的部分から発散するガスを除去するためのガス・フラッシング・システムを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The lithography device comprises a lighting system which supplies projection beams, a structure for supporting a pattern forming unit which is so constituted that the pattern forming device gives the section of a beam a pattern, a substrate table which retains a substrate, a projection system which projects a patterned beam to a target portion on the substrate, and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁

The lithography device comprises a lighting system which supplies projection beams, a structure for supporting a pattern forming unit which structure is so constructed that the pattern forming device gives the section of a beam a pattern, a substrate table which retains a substrate, a projection system which projects a patterned beam onto target portions on the substrate, and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁

A lithography apparatus of the present invention comprises: a lighting system which supplies projection beams; a structure for supporting a pattern forming device which is constituted so that the pattern forming device gives a section of a beam a pattern; a substrate table which retains a substrate; a projection system which projects a patterned beam to a target portion on the substrate; and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁

By covering a step that is caused between the lower lead electrode 3 and the substrate with the interlayer dielectric 5, when a conductive film for the lower electrode is deposited on the substrate and patterned by etching, there is not the fear that etching residue at the step caused by a conventional manufacturing method may be caused.例文帳に追加

下部引き出し電極３と基板との間に生じる段差部分を、層間絶縁膜５で覆うことにより、下部電極用の導体膜を基板上に堆積してエッチングによりパターニングする際、従来の製造方法では段差部分に生じていたエッチング残渣が生じるおそれがなくなる。 - 特許庁

A structure body obtained by growing the linear structure body 4 made of a carbon compound on an arbitrary place of the smooth base material 5 in the direction perpendicular to the base material is used as a stamper, and a substrate material like plastics is used to manufacture a holed substrate for patterned media by a molding method.例文帳に追加

また、上記と同様に平滑基材５上に、炭素系化合物からなる線状構造体４を基材の任意の場所に基材と垂直方向に成長させた構造体をスタンパとして、プラスチック等の基板材料を用いて成型法にてパターンドメディア用穴開き基板を作製する。 - 特許庁

The thin-film transistor 1a is constituted by providing a semiconductor layer 9 on the resin substrate 3 across a gate electrode 5 and a gate insulating film 7 and the inorganic insulating layer constituting the gate insulating film 5 is patterned in the island shape covering the semiconductor layer 9 from the side of the resin substrate 3.例文帳に追加

薄膜トランジスタ１ａは、樹脂基板３上にゲート電極５およびゲート絶縁膜７を介して半導体層９を設けてなり、ゲート絶縁膜５を構成する無機絶縁膜層が、樹脂基板３側から半導体層９を覆う島状にパターニングされている。 - 特許庁

This method of manufacturing the electrooptical device includes a resist coating process of applying resist (202) onto the substrate (10), a patterning process of patterning the applied resist into a predetermined shape, and a cleaning process of cleaning the substrate having the patterned resist (202a) using cleaning liquid.例文帳に追加

電気光学装置の製造方法は、基板（１０）上にレジスト（２０２）を塗布するレジスト塗布工程と、塗布されたレジストを所定形状にパターニングするパターニング工程と、パターニングされたレジスト（２０２ａ）を有する基板を、洗浄液を用いて洗浄する洗浄工程とを備える。 - 特許庁