「patterned substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

As a result, wraparound of deposited particles to a reverse-patterned undercut part formed on the substrate 34 is prevented, thereby the trouble of remaining of the burr after lift-off is solved.例文帳に追加

この結果、基板３４上に形成された逆パターンのアンダーカット部への被膜粒子の回り込みが防止され、ひいてはリフトオフ後にバリが残るという不都合が解消される。 - 特許庁

The photomask includes a patterned light-shielding relief layer and a surface protective layer formed by applying a composition for formation of a surface protective layer on a transparent substrate, wherein the composition contains a fluorine compound.例文帳に追加

透明基材上に、パターン状の遮光性レリーフ層と、フッ素化合物を含有する表面保護層形成用組成物を塗布してなる表面保護層と、を有するフォトマスクである。 - 特許庁

A resist film 12 on a substrate 10 is patterned, and a first opening 13a and a plurality of openings 13b each having an opening width narrower than that of the first opening 13a are formed.例文帳に追加

基板１０上のレジスト膜１２をパターニングして第１の開口部１３ａと、第１の開口部１３ａより開口幅が狭い複数の第２の開口部１３ｂを形成する。 - 特許庁

A silicon oxide film 12 and a silicon nitride film 13 are successively formed on a silicon substrate 11, having a surface orientation (100), and the silicon nitride film 13 is patterned and then serves as a mask for the formation of a trench 14.例文帳に追加

面方位（１００）のシリコン基板１１にシリコン酸化膜１２、シリコン窒化膜１３を順次形成し、パターニングしたシリコン窒化膜１３をマスクとして、トレンチ１４を形成する。 - 特許庁

A gate insulating film 13 which is patterned so as to cover the gate electrode 12 and expose at least a part of the gate electrode 12 is formed on the polymer substrate 11.例文帳に追加

次いで、高分子基板１１上に、ゲート電極１２を覆うとともに、ゲート電極１２の少なくとも一部が露出するようにパターニングされたゲート絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁

On one surface 14 of the substrate 14, a set of conductor layers 23a, 23b and lead-out electrodes 24a, 24b are patterned corresponding to both faces of the membrane electrode junction 12.例文帳に追加

基板１４は、片面１４ａに、膜電極接合体１２の両面に対応して1組の導体層２３ａ、２３ｂおよび引き出し電極２４ａ、２４ｂがパターニング形成される。 - 特許庁

The laser irradiator patterns a laser beam into an elongated shape having a scheduled processing line in the longitudinal direction and irradiates the scheduled processing line on a brittle material substrate with the patterned laser beam.例文帳に追加

レーザ照射装置は、レーザビームを加工予定線が長手方向である細長い形状にパターニングし、パターニングされたレーザビームを脆性材料基板の加工予定線上に照射する。 - 特許庁

After a connection hole exposing the shoulder of the electrode layer 14a is formed, doped polysilicon is deposited on an upper face of the substrate, and the deposited layer is patterned to form gate electrode layers 28A, 28B.例文帳に追加

電極層１４ａの肩部を露呈する接続孔を形成した後、基板上面にドープトポリシリコンを堆積し、その堆積層をパターニングしてゲート電極層２８Ａ，２８Ｂを形成する。 - 特許庁

With a patterned silicon nitride film as a mask, a trench groove is formed at the silicon substrate 21, which is filled with a filling oxide film 27, and which is planarized until the silicon nitride film is exposed.例文帳に追加

そして、パターニングされたシリコン窒化膜をマスクにしてシリコン基板２１にトレンチ溝を形成し、埋め込み酸化膜２７で埋め込み、シリコン窒化膜が露出するまで平坦化する。 - 特許庁

Next, after the silicon nitride film 12 is patterned, the pad oxide film 11 and the substrate 10 are etched to form a trench 13a in a first area and a trench 13b in a second area.例文帳に追加

次に、窒化シリコン膜１２をパターニングした後、パッド酸化膜１１及び基板１０をエッチングして、第１の領域に溝１３ａを形成し、第２の領域に溝１３ｂを形成する。 - 特許庁

The dummy pattern 7 is patterned so that it connects in parallel the exothermic resistors 4 of a plurality of the flow detection devices 12 formed on a substrate 1 through the lead patterns 6.例文帳に追加

ダミーパターン７は、基板１上に複数個形成された流量検出素子１２の発熱抵抗４を、リードパターン６を介して並列に接続するようにパターニングされている。 - 特許庁

A patterned mask 20 is formed on the surface of a sacrifice layer 18, which is a part of a multilayer structure 10 comprising a substrate 12, a conductive layer 14, an insulating layer 16, and the sacrifice layer 18.例文帳に追加

基板１２、導電層１４、絶縁層１６及び犠牲層１８から成る多層構造１０の一部である犠牲層１８の表面上にパターニングされたマスク２０を形成する。 - 特許庁

An insulation film is formed on a substrate, on which STI (Shallow Trench Isolation) is formed, and patterned; and then polysilicon is evaporated and etched without a mask; thereby a poly-sidewall is formed on a sidewall of the insulation film.例文帳に追加

ＳＴＩを形成した基板上に絶縁膜を形成してパターニングして、ポリシリコンを蒸着してマスクなしにエッチングして絶縁膜側壁にポーリ側壁を形成する。 - 特許庁

A solution containing recording material is applied to the molding substrate to fill only the pit parts to form recording parts, and a required constitution layer is provided to form the optical information recording medium of the patterned medium type.例文帳に追加

記録材料を含む溶液を成形基板に塗布してピット部にのみ充填して記録部を形成し、必要な構成層を設けてパターンドメディアタイプの光情報記録媒体とする。 - 特許庁

To provide a nanoimprinting system which incorporates a patterned media contact architecture to provide a uniform imprinting pressure across a target imprinting area on a disk substrate.例文帳に追加

ディスク基材上の対象インプリント領域にわたって均一なインプリント圧力を発生するパターン化された媒体接触構造が導入されているナノインプリント・システムを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a nonlinear element in which a thin film for use in the nonlinear element can be patterned in such a profile as the side face is substantially perpendicular to a substrate.例文帳に追加

非線形素子に用いる薄膜を側面が基板に対して垂直に近い形状にパターニングすることができる非線形素子の製造方法、および電気光学装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is to be patterned on a substrate with a formed circuit and has excellent resolution, adhesion and plating resistance.例文帳に追加

回路形成済基板上にパターニングされるための感光性樹脂組成物であって、優れた解像度、密着性、及びめっき耐性を有する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A reflective grating 18 having spaced apart grid lines 36 patterned on a piezoelectric substrate 12 for controlling the magnitude and phase of surface acoustic waves in a reflective filter 10 or resonator.例文帳に追加

反射グレーティング１８は、圧電基板１２上にパターニングされた離間格子線３６を有し、反射フィルタ１０または共振器において表面弾性波の振幅および位相を制御する。 - 特許庁

The semiconductor device is produced by forming contact hole on the insulation film on a patterned silicon substrate using an semiconductor fabricating equipment having at least a reaction chamber for generating plasma.例文帳に追加

プラズマを発生させる反応室を少なくとも有する半導体製造装置を用いて、パターンニングされたシリコン基板の絶縁膜にコンタクトホールを形成して半導体装置を製造する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus improving image uniformity and contrast quality in detection of defects in a patterned semiconductor substrate by a charged particle utilization type defect inspection device.例文帳に追加

帯電粒子利用型欠陥検査装置によるパターン形成ずみの半導体基板の欠陥の検出に、画像の均一性およびコントラストの質を改善する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The projection system has an array of lenses located such that each lens directs a respective portion of the patterned beam towards a respective part of the target portion of the substrate.例文帳に追加

投影システムはレンズのアレイを有し、このアレイは、各レンズが、パターンの形成されたビームのそれぞれの部分を基板のターゲット部分のそれぞれの部分に向けて方向付けるように位置付けられる。 - 特許庁

A first photoresist layer 32 is formed on the substrate 30, thereafter, the first photoresist layer 32 is patterned and, thereby, the alignment mark 33 is formed from the first photoresist layer 32.例文帳に追加

基板３０上に第１のフォトレジスト層３２を形成した後、第１のフォトレジスト層３２をパターニングすることによって第１のフォトレジスト層３２からアライメントマーク３３を形成する。 - 特許庁

In this method for forming a resist pattern, after a positive resist is applied on a substrate 1, a first alignment is performed, thereby obtaining a resist pattern 2a which is patterned in a manner such that lines are arrayed at equal width and intervals.例文帳に追加

基板１の上にポジ型レジストが塗布された後に、第１の露光が行われることにより、等幅かつ等間隔で配列する線列にパターニングされたレジストパターン２ａが得られる。 - 特許庁

The coating liquid is applied and dried on a substrate, and the dried film is exposed, developed, patterned and baked to form the stannic-oxide based undercoat with delicate pattern for selective plating.例文帳に追加

この塗布液を基板上に塗布、乾燥し、該乾燥膜を露光、現像してパターン化し、焼成することにより、繊細にパターン化された酸化錫系選択メッキ下地膜が形成される。 - 特許庁

After coating a semiconductor substrate with a CMP cut-off layer, the CMP cut-off layer is patterned to form a CMP cut-off pattern in a shape having an opening for exposing a device separating region.例文帳に追加

半導体基板上にＣＭＰ遮断層を塗布した後にこれをパターニングして素子分離領域を露出させる窓を有する形状のＣＭＰ遮断パターンを形成する。 - 特許庁

The lithography equipment used for pattern-forming a substrate comprises a lighting system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements for imparting the cross-section of the projection beam with a pattern, and a substrate table for supporting the substrate at the time of exposure operation, and a projection system projects the patterned beam to a target part of the substrate.例文帳に追加

基板をパターン形成するために使用されるリソグラフィー装置において、放射の投影ビームを供給するための照明系と、投影ビームの断面にパターンを与えるための個別制御可能要素のアレイと、露光動作時に基板を支持するための基板テーブルとを具備し、投影系が、パターン形成されたビームを基板の標的部分の上に投影する。 - 特許庁

The disclosure is directed to a method for forming nanostructures on a substrate including silicon comprising the steps of: (a) depositing a layer of transition metal on the surface of the substrate; (b) annealing the layer of the transition metal to form a patterned transition metal layer; and (c) etching the substrate to form the nanostructures on the substrate surface.例文帳に追加

本開示は、ケイ素を含む基板上にナノ構造を提供する方法であって、（ａ）前記基板の表面上に遷移金属の層を堆積させるステップと、（ｂ）前記遷移金属の層をアニールして、パターン化遷移金属層を形成させるステップと、（ｃ）前記基板をエッチングして、前記基板表面上にナノ構造を形成させるステップとを含む方法に関する。 - 特許庁

The manufacturing method for patterned member which has a patterned insulating member on the substrate is characterized in that it is provided with a process of forming a precursor pattern of the insulating member by performing development after exposing photosensitive paste applied onto the substrate a plurality of times through a mask having a specified pattern and a process of baking the precursor pattern.例文帳に追加

基板上に、パターニングされた絶縁部材を備える部材パターンの製造方法であって、基板上に付与された感光性ペーストを、所定パターンのマスクを介して複数回露光した後、現像して、前記絶縁部材の前駆体パターンを形成する工程と、前記前駆体パターンを焼成する工程と、を備えることを特徴とする部材パターンの製造方法。 - 特許庁

In a transfer sheet 11 including a support substrate 1, a photocatalyst layer 7 on the support substrate 1, and organic material patterned traces 9r, 9g, 9b as transfer material patterned traces provided on the photocatalyst layer 7, a surface side of the photocatalyst layer 7 is composed of a hydrophilic area 7a that has become of hydrophilic nature by light irradiation to the photocatalyst layer 7 and a hydrophobic area 7b.例文帳に追加

支持基板１と、支持基板１上の光触媒層７と、光触媒層７上に設けられた転写材料パターンとしての有機材料パターン９ｒ，９ｇ，９ｂを備えた転写シート１１において、光触媒層７の表面側は、光触媒層７への光照射によって親水性となった親水性領域７ａと疎水性領域７ｂとで構成されている。 - 特許庁

The problems are solved by pasting a stuff either on a substrate 1 through a colored adhesive 2C or on a colored substrate through an adhesive, wherein the stuff includes a transparent paper 4 with a patterned layer 3 appropriately formed on it and being impregnated with an impregnating resin composition.例文帳に追加

透明紙４に適宜、模様層３を形成し、含浸用樹脂組成物を含浸したものを、基材１上に着色接着剤２Ｃを介するか、着色基材上に接着剤を介して貼ることにより、課題を解決することができた。 - 特許庁

When the plurality of fine particles are arranged on a substrate surface, the fine particles are arrayed in a self-aligning manner according to the particle size, and thereby, the nanocarbon material grown through the gaps among the fine particles grows while patterned on the substrate surface.例文帳に追加

複数の微粒子を基板表面に配置したとき、微粒子は粒径に従って自己整合的に配列されることから、該微粒子間の空隙から成長したナノ炭素材料は、基板表面においてパターニングされて成長することになる。 - 特許庁

Then, the contact electrode film 2 is patterned such that the contact region is segmented on nearly the entire rear surface of the substrate, more particularly, such that a collective pattern comprised of a number of squares is formed on nearly the entire rear surface of the substrate.例文帳に追加

そして、コンタクト電極膜２は、そのコンタクト領域が基板裏面の略全面にわたって細分化される態様でパターニングされ、詳しくは基板裏面の略全面にわたる多数の正方形からなる集合パターンをもって形成される。 - 特許庁

The method for manufacturing the forming die 10 includes steps of: forming a pattern having a concave portion and a convex portion on a substrate 11; and etching the patterned substrate 11 to form a circular arc at the corner of the convex portion.例文帳に追加

この成形型１０の製造方法としては、基材１１に凹部と凸部とを有するパターンを形成する工程と、パターンが形成された基材１１に対してエッチングを施し凸部の角に円弧を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a lithographic device comprising an illumination system that supplies radiation beams, an array of individually controllable elements that pattern the beams and a projection system that guides the patterned beams to a substrate supported on a substrate table from underneath, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁

The transparent sheet with the infrared absorption pattern comprises a visible light transmitting substrate, and a visible light transparent infrared reflecting layer and an infrared absorption patterned layer formed on the visible light transmitting substrate.例文帳に追加

可視光を透過する基材と、前記基材上に形成された可視光透明赤外線反射層およびパターン状の赤外線吸収層とからなることを特徴とする赤外線吸収パターン付透明シートにより上記課題を解決した。 - 特許庁

To provide a lithography device including an illumination system for supplying radiation beams, the array of elements to be individually controlled to pattern the beams, and a projection system for guiding the patterned beams to a substrate supported on a substrate table; and to provide a method therefor.例文帳に追加

放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁

The polymer film patterning method includes applying polymer ink onto the substrate after forming a resist layer patterned on the substrate, and then separating the resist layer to remove the applied polymer ink therefrom.例文帳に追加

ポリマー膜のパターニング方法において、基板上にパターニングされたレジスト層を形成後に、前記基板上にポリマーインクを塗布し、その後、前記レジスト層を剥離することで前記塗布されたポリマーインクを併せて除去することを特徴とするポリマー膜のパターニング方法。 - 特許庁

For forming this mirror layer 4, a lower part clad layer being the lower half of the clad layer 2 is formed, and the core 3 is patterned on it, and a mirror forming layer formed by coating the whole of a substrate is etched just under an etching mask so as to be undercut, or is patterned through photolithography and development processing.例文帳に追加

このミラー層４を形成するには、クラッド層２の下半分である下部クラッド層を形成し、この上でコア３をパターニングした後、基体の全面を被覆して形成されたミラー形成層をエッチング・マスクの直下にアンダカットが入るようにエッチングするか、またはフォトリソグラフィと現像処理を経てパターニングする。 - 特許庁

The lithographic apparatus comprises an illumination system which conditions a radiation beam, a support structure which supports a patterning device for patterning the cross section of the radiation beam, a substrate table which holds a substrate, a projection system which projects the patterned beam onto a target portion of the substrate, and a robot which replaces a replaceable object.例文帳に追加

本発明はリソグラフィ装置に係わり、放射ビームを調整する照明系と、放射ビームの横断面にパターンを与えるパターン付与装置を支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、交換可能物品を交換するロボットとを含む。 - 特許庁

Disclosed is a photomask comprising a patterned substrate, a pellicle membrane stretched in such a way that it confronts the surface of the substrate at a prescribed interval and a frame which holds the pellicle membrane and encloses the space between the pellicle membrane and the photomask substrate, wherein the frame has an opening and this opening is provided with a lid capable of blocking up the opening.例文帳に追加

パターンの形成された基板と、基板の表面に対向し、表面と所定の間隔をおいて張設されたペリクル膜と、ペリクル膜を保持し、ペリクル膜とフォトマスク基板との間を封じるフレームとを備えるフォトマスクにおいて、フレームには、開口を有し、開口には、前記開口を塞ぐことのできる、蓋部を備える。 - 特許庁

In order to attain the purpose, the substrate for an EL element is structured so as to have a substrate, a first electrode layer formed on the substrate in a patterned form, a light emitting part formed on the first electrode layer, and a protective layer formed so as to cover the surface of the light emitting part.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基板と、前記基板上にパターン状に形成された第１電極層と、前記第１電極層上に形成された発光部と、前記発光部の表面を覆うように形成された保護層とを有することを特徴とするＥＬ素子形成用基板を提供する。 - 特許庁

An immersion lithographic apparatus is disclosed having a projection system configured to direct a patterned beam of radiation onto a substrate and a liquid handling system configured to supply and confine immersion liquid to a space defined between the projection system and a substrate, or a substrate table, or both.例文帳に追加

パターン付放射ビームを基板上に誘導するように構成された投影システムと、投影システムと基板、又は基板テーブル、あるいはその両方との間に画定された空間に液浸液を供給して閉じ込めるように構成された液体ハンドリングシステムとを有する液浸リソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

A lithography apparatus is equipped with a radiation system for providing projection radiation beam, a supporting structure for supporting a patterning means which functions to pattern the cross section of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィック装置は、投影放射ビームを提供するための放射システムと、投影ビームの断面をパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えている。 - 特許庁

The lithographic projection apparatus comprises a radiation system for providing a projection beam of radiation having a wavelength λ_1 smaller than 50 nm, a support structure for supporting the patterning means that serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

５０ｎｍ未満の波長λ_1を有する放射線の投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system which forms a beam of radiation, the pattern grant equipment which is supported by a support structure and gives a desired pattern to a cross section of the beam of radiation, a substrate holder which holds the substrate, a projection system which projects the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a conditioned chamber.例文帳に追加

リトグラフ装置が、放射ビームを形成する照射系と、支持構造体により支持され、放射ビームの横断面に所望パターンを付与するパターン付与装置と、基板を保持する基板保持具と、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、調整室とを含む。 - 特許庁