「patterned substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The method includes successively projecting at least two image portions of a patterned radiation beam on the target potion of a substrate so that projected image portions are mutually adjoining on the substrate to form a combined image collectively on the substrate.例文帳に追加

方法は、投影されたイメージ部分が基板上で相互に実質的に隣接し、集合的に基板上に複合イメージを形成するように、パターニングした放射ビームの少なくとも２つのイメージ部分を基板のターゲット部分に順次投影することを含む。 - 特許庁

Moreover, the apparatus includes a substrate table for holding the substrate, a projection system for projecting a patterned beam on a target portion of the substrate, and at least one fastening tool for fastening a first component of the apparatus to a second component of the apparatus.例文帳に追加

また、この装置は、基板を保持する基板テーブルと、パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影する投影系と、当該装置の第１の部品を当該装置の第２の部品に締結する少なくとも１つの締結具とを含む。 - 特許庁

A perpendicular magnetic recording medium includes a nonmagnetic interlayer formed on a nonmagnetic substrate, an antiferromagnetic layer having a thickness of 2 nm or more and 30 nm or less, a first nonmagnetic underlayer having a thickness of 0.2 nm or more and 5 nm or less, a first bit patterned ferromagnetic layer, a first bit patterned nonmagnetic layer, and a second bit patterned ferromagnetic layer.例文帳に追加

非磁性基板上に形成された非磁性中間層、２ｎｍ以上３０ｎｍ以下の厚さを有する反強磁性層、０．２ｎｍ以上５ｎｍ以下の厚さを有する第１の非磁性下地層、第１のビットパターン状強磁性層、第１のビットパターン状非磁性層、第２のビットパターン状強磁性層を有する垂直磁気記録媒体。 - 特許庁

To provide a method of forming a patterned feature portion on a substrate having a higher density (that is, a low pitch) as compared to what is possible using a standard photolithography processing technique using a single high-resolution photomask, while changing both the width of the patterned feature portion and a spacing (trench width) between the patterned features portions are in an integrated circuit.例文帳に追加

パターン形成特徴部の幅とパターン形成特徴部の間の間隔（トレンチ幅）の双方を集積回路内で変化させつつ単一高解像度フォトマスクを用いた標準フォトリソグラフィ処理技術を用いて可能であるものと比較して高密度（即ち、低ピッチ）を持つ基板上にパターン形成特徴部を形成する方法を提供する。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板上のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁

The lithographic device is equipped with an illumination system constituted to adjust an irradiation beam, a supporting body constituted to support a patterning device capable of forming a patterned irradiation beam by setting a pattern on the sectional surface of the irradiation beam, a substrate table constituted to support a substrate, and a projection system constituted to project the patterned irradiation beam to the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを備える。 - 特許庁

A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁

To provide a liquid state material forming a highly fine-patterned membrane on a substrate plate simply and inexpensively by removing a solvent, a method for producing a substrate plate having a membrane forming the substrate plate equipped with the highly fine-patterned membrane by using such the liquid state material, and method for producing an electro-optical device and an electronic instrument by using such the method of production.例文帳に追加

溶媒を除去することにより、基板上に高精細なパターンの膜を簡単かつ安価に形成可能な液状材料、かかる液状材料を用いて高精細なパターンの膜を備えた基板を形成することができる膜付き基板の製造方法、および、かかる製造方法を用いた電気光学装置の製造方法および電子機器の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The apparatus also includes a control unit arranged to receive information regarding the extent to which a patterned beam of radiation would extend across a periphery of the substrate when being projected onto the target region of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームが基板の目標部分に投影される際、パターン付与された当該放射ビームが基板周縁を超えて広がる程度に関する情報を受ける制御装置をさらに備える。 - 特許庁

A plurality of wires are patterned in parallel at an equal interval on a universal substrate, and the universal substrate is cut to obtain the number of wires according to the number of pads in the LSI chip 5 to form the contact probe 4.例文帳に追加

汎用基板には複数の配線が等間隔で並列にパターニングされており、同汎用基板をＬＳＩチップ５におけるパッド数に応じた配線数となるよう切断することでコンタクトプローブ４が形成される。 - 特許庁

To mount a metal mask and a substrate excellently in operability with respect to a heating base plate by using a metal mask of simple structure in a method for ejecting ultrafine particles from a nozzle and forming fine- patterned article on the substrate.例文帳に追加

超微粒子をノズルから噴射し、基板上に微細形状の造形物を形成する方法において、加熱基盤に対しメタルマスク及び基板を簡単な構造のメタルマスクを用いて作業性よく装着する。 - 特許庁

A groove made patterned is formed on a main surface of a Si substrate 11 being a base object as the master disk for magnetic transfer, and conductive thine films 14 are formed on the main surface of the Si substrate 11 and the surface of the groove part.例文帳に追加

磁気転写用マスタディスクの基体であるＳｉ基板１１の主表面上にパターン化された溝を形成し、Ｓｉ基板１１の主表面および溝部表面に導電性薄膜１４を形成する。 - 特許庁

The semiconductor device 1 has an insulating substrate 10 where a patterned insulating layer 40 and a conductive layer 50 are formed, and the two semiconductor elements (semiconductor chips) 21 and 22 stacked on the insulating substrate 10.例文帳に追加

半導体装置１は、パターニングされた絶縁層４０および導電層５０とを成膜した絶縁基板１０と、この絶縁基板１０上に積層された２枚の半導体素子（半導体チップ）２１、２２とを有している。 - 特許庁

A nitride based III-V compound semiconductor mixed crystal layer such as an n-type AlGaN layer 23 is grown on a substrate such as a (c) surface sapphire substrate 21 and is patterned to form a seed crystal.例文帳に追加

ｃ面サファイア基板２１などの基板上に例えばｎ型ＡｌＧａＮ層２３のような窒化物系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体混晶層を成長させ、これをパターニングして種結晶を形成する。 - 特許庁

A first solid impurity diffusing source 2A is formed on the whole area of one surface of a semiconductor substrate 1, and a second solid impurity diffusing source 2B is formed on the other surface of the substrate 1 in a state that the source 2B is patterned to have openings.例文帳に追加

半導体基板１の一方の面の全面に第１の不純物固体拡散源２Ａを形成し、他方の面に、開口部を有するようにパターニングされて第２の不純物固体拡散源２Ｂを形成する。 - 特許庁

A pad layer 20 and a barrier layer 30 are formed on a substrate, these pad layers are patterned so as to form a trench opening and are etched through the trench opening and a trench 12 is formed on the substrate 10.例文帳に追加

基板上にパッド層２０及びバリア層３０を形成し、これらパッド層２０等をトレンチ開口部を形成するようにパターン化し、トレンチ開口部を通じてエッチング処理し、基板１０にトレンチ１２を形成する。 - 特許庁

The magnetic recording medium is provided with a substrate 2a, the magnetic recording layer 2b provided on the substrate 2a and magnetic flux guide materials 2c, 2c.. formed on the magnetic recording layer 2b to be patterned in a prescribed pattern and including at least a soft magnetic body.例文帳に追加

基体２ａと、基体２ａ上に設けられた磁気記録層２ｂと、磁気記録層２ｂ上に、所定パターンにパターニングされて形成された、少なくとも軟磁性体を含む磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・とを備える。 - 特許庁

A transparent ornament substrate 22, formed of at least one type of precious stones, shells, or ceramic, is made to adhere and fixed onto a transparent plastic substrate 21 with a plurality of patterned protruded parts 21a.例文帳に追加

模様状に複数の凸部２１ａを有する透明なプラスチック基板２１の上に、貴石，貝，セラミック等の少なくとも一種類からなる透過性装飾基板２２を接着剤２４を介して接着固定する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method by which an optical waveguide is precisely patterned by suppressing a warp of a substrate in the method for manufacturing optical waveguide device where a resin made optical waveguide is mounted on an inorganic material substrate.例文帳に追加

無機材料基板上に樹脂製光導波路を搭載した光導波路デバイスの製造方法であって、基板の反りを抑制して精度良く光導波路をパターニングすることのできる製造方法を提供する。 - 特許庁

Concretely, treatment is performed wherein a patterned substrate is immersed in a cation based surfactant, and acid treatment is performed furthermore, so that potential difference is formed between a photopolymer portion and a substrate portion, and non-electrolytic plating is performed.例文帳に追加

具体的には、派ターニングのなされた基板をカチオン系界面活性剤に浸漬する処理を施し、さらに酸処理することによって感光性樹脂部と基板部との間に電位差を形成し、無電解メッキに供する。 - 特許庁

An indium tin oxide (ITO) is patterned (step S1) on a substrate by making a liquid or a fluid containing the indium tin oxide discharged at a requested position on the substrate from an inkjet head of a drop discharge device.例文帳に追加

液滴吐出装置のインクジェットヘッドから基板上の所望位置に、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）を含む液体または流動体を吐出させることで、インジウム錫酸化物を基板上にパターニングする（ステップＳ１）。 - 特許庁

When forming a patterned gate layer 140a in a memory region 1000 in advance prior to forming the insulation layer 270 on the entire surface of a semiconductor substrate, a patterned gate layer 140c which will become a dummy circuit is formed in the periphery of the chip 900.例文帳に追加

半導体基板上に全面的に絶縁層２７０を形成する前に、予め、メモリ領域１０００にパターニングされたゲート層１４０ａを形成する際に、チップ９００の外周部に、同様に、ダミー回路となる、パターニングされたゲート層１４０ｃを形成する。 - 特許庁

A substrate of an electrooptical device has: a substrate 20 facing a substrate 10 on which switching elements are mounted; a patterned light shading film 23 formed on the above substrate 20; a film 83 with a flattened surface formed on the above substrate 20 which includes the light shading film 23; and the electrodes 21 formed on the above planarized film 83.例文帳に追加

スイッチング素子が形成された基板１０に対向する対向基板２０と、前記基板２０上に形成されるパターン化された遮光膜２３と、前記遮光膜２３を含む前記基板２０上に形成されて、表面が平坦化された平坦化膜８３と、前記平坦化膜８３上に形成される電極２１とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The substrate of the display filter includes a transparent substrate 11, a conductive pattern part 13 provided on one side surface of the transparent substrate 11 and patterned in a predetermined shape, and a black light shielding part 211 provided between the transparent substrate 11 and the conductive pattern part 13 to shield visible light going from the transparent substrate 11 side to the conductive pattern part 13.例文帳に追加

ディスプレイ用フィルタ用の基材は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面側に設けられ、所定の形状にパターニングされた導電パターン部１３と、透明基材１１と、導電パターン部１３との間に透明基材１１側から導電パターン部１３に向かう可視光を遮光する黒色の遮光部２１１を備える。 - 特許庁

By supplying a means for shifting a patterned projection beam which is incident on a substrate in synchronism with the movement of the substrate during the duration of the pulse of the radiation, movement of the substrate inside is corrected during the duration of the pulse of one-time radiation.例文帳に追加

放射線のパルスの持続時間中に基板の移動と同期させて、基板上に入射するパターン化された投影ビームをシフトする手段を供給することにより、放射線の１回のパルスの持続時間中に内での基板の移動を補正する。 - 特許庁

By laminating the substrate 30 and the resin film forming substrate 40, after the patterned resin film 43 is laminated on the mounting surface 27 of the optical element 2, the resin film forming substrate 40 is peeled from the resin film 43 by removing the sacrifice film 42.例文帳に追加

基板３０と樹脂膜形成基板４０とを貼り合わせることにより、パターニングした樹脂膜４３を光学素子２の取り付け面２７に貼り合わせた後、犠牲膜４２を除去することにより樹脂膜形成基板４０を樹脂膜４３から剥離する。 - 特許庁

The equipment comprises a substrate support WT which is assembled so as to support the substrate, a projection system PS which is constituted so as to project a patterned radiation beam on a target part of the substrate, and a frame to which at least part of the projection system is attached.例文帳に追加

本装置は、基板を支持するように組み立てられた基板支持物ＷＴ、パターン形成された放射ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムＰＳ、及び投影システムの少なくとも一部が取り付けられているフレームを含む。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition that can be patterned by exposure to active rays such as UV rays and has higher adhesion to a wafer, a glass substrate or an organic substrate as a substrate compared to a conventional electronic/electric insulating material, and excellent liquid repelling property.例文帳に追加

紫外線などの活性光線の露光によりパターニングが可能で、基材となるウエーハやガラス基材、有機基板等への接着力が、従来の電子・電気絶縁材料よりも高く、かつ撥液性にも優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The apparatus includes a substrate support WT constructed to support the substrate, a projection system PS configured to project a patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, and a frame onto which at least a part of the projection system is mounted.例文帳に追加

本装置は、基板を支持するように組み立てられた基板支持物ＷＴ、パターン形成された放射ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムＰＳ、及び投影システムの少なくとも一部が取り付けられているフレームを含む。 - 特許庁

The substrate 1 is patterned by laser beam machining and then rubbed and cleaned by rotating two polyurethane-made cleaning rolls 12 so that one roll is rotated normally and the other roll is rotated inversely in the substrate conveying direction and vibrating the rolls 12 in the direction perpendicular to the substrate conveying direction to remove the residues after laser beam machining.例文帳に追加

レーザ加工により基板１をパターニングした後、ウレタン製の２個の洗浄用ロール１２を基板搬送方向に正逆回転させ、かつ基板搬送方向と直角方向に振動させて基板を擦り洗浄し、レーザ加工残渣を除去する。 - 特許庁

In addition, in a method of manufacturing a light-emitting device, the first substrate provided with the material layer which is patterned by the above method is irradiated with second light, whereby the material layer can be evaporated onto a third substrate which is a deposition target substrate.例文帳に追加

また、上述した方法によりパターン形成された材料層を有する第１の基板に第２の光を照射することにより、材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させることが可能な発光装置の作製方法である。 - 特許庁

The lithography equipment of this invention comprises a substrate table that holds a substrate, radiation system that forms radiation projection means, pattern providing means for patternization of projection beams according to a desired pattern, and projection system that projects patterned beams to the target part of the substrate.例文帳に追加

本発明リトグラフ装置は、基板を保持する基板テーブルと、放射投影ビームを形成する放射系と、所望のパターンに応じて投影ビームをパターン化するように働くパターン付与手段と、基板の目標部分にパターン化されたビームを投影する投影系とを含む。 - 特許庁

Next, the silicon substrate 3 is coated with a photoresist and an aligner is used to perform the patterning of the coated silicon substrate 3 through a photomask and the patterned silicon substrate is exposed and developed to be subjected to dry etching to form a minute flow channel groove 8 high in accuracy and having a cross section high in aspect ratio.例文帳に追加

次に、シリコン基板３にフォトレジストをコーティングし、アライナーを使用してフォトマスクでパターンニングをし、露光・現像して、その後、シリコン基板３をドライエッチングすることにより、微小で精度の高い、高アスペクト比の断面を有する流路溝８を作製する。 - 特許庁

A Cu-plated film 3 is patterned on an lumina substrate 1 with a base layer in between, and a first Ni-plated film 4 is stacked on the Cu-plated film 3.例文帳に追加

アルミナ基板１上に下地層２を介してＣｕメッキ膜３がパターン形成されており、Ｃｕメッキ膜３上に第１のＮｉメッキ膜４が積層されている。 - 特許庁

In this manufacturing method for an optical element, an Si thin film is coated on a substrate 10, the Si thin film is patterned to form thin films 120a, 120b together for each layer constituting an optical element.例文帳に追加

基板１０の表面にＳｉ薄膜を着膜し、Ｓｉ薄膜をパターニングして光学素子を構成する各層の薄膜１２０ａ，１２０ｂを一括して形成する。 - 特許庁

A laminated film comprising a thermal oxide film 2, a polysilicon film 3, and a silicon nitride film 4 is formed on a silicon substrate 1, and the laminated film is patterned by using a resist pattern 5 as the mask.例文帳に追加

シリコン基板１上に熱酸化膜２、ポリシリコン膜３およびシリコン窒化膜４からなる積層膜を形成し、レジストパターン５をマスクとしてこの積層膜をパターニングする。 - 特許庁

To homogenize intensity characteristics or the like even when beams of light are individually patterned and are projected on a substrate in using an illumination source for generating a plurality of beams of light.例文帳に追加

複数の放射ビームを生成する照明源を使用し、放射ビームは個別にパターン付与されて基板上に投影しても強度特性等を一様化する。 - 特許庁

To provide a cleaning method of a wiring board capable of effectively remove foreign matters (contamination) existing on a substrate on which an electrode is patterned, and a manufacturing method of a light emitting device.例文帳に追加

電極がパターニングされた基板上に存在する異物（汚染）を有効に除去することができる配線基板の洗浄方法、発光装置の製造方法を提案する。 - 特許庁

An insulting film 2, a thin film resistive material 3a, and a barrier metal 4 are deposited on a semiconductor substrate 10, and the thin film resistive material 3a and the barrier metal 4 are patterned.例文帳に追加

半導体基板１０上に絶縁膜２、薄膜抵抗材料３ａ及びバリアメタル４を被着し、薄膜抵抗材料３ａとバリアメタル４をパターニングする。 - 特許庁

The patterned electrode films 4 is ≥15 mN in its adhesion stipulated in JIS R 3255-1997 'Adhesiveness Test of Thin Film Consisting of Glass as a Substrate'.例文帳に追加

パターニングされた電極膜４は、その付着力がＪＩＳ Ｒ３２５５−１９９７「ガラスを基板とした薄膜の付着性試験」で規定される１５ｍＮ以上である。 - 特許庁

Thus, by executing prescribed etching treatment to the substrate 30 after forming the SiO_2 film 38, the SiO_2 film 38 patterned similarly to the uneven pattern is obtained.例文帳に追加

そのため、ＳｉＯ_２膜３８を成膜した後、基板３０に所定のエッチング処理を施すことにより、上記凹凸パターンと同様にパターニングされたＳｉＯ_２膜３８が得られる。 - 特許庁

A transparent electrode film consisting of ITO(indium tin oxide), etc., is laminated on a glass substrate 201 with sputtering, etc., and is patterned to form stripe-shaped electrodes 202.例文帳に追加

ガラス基板２０１上にＩＴＯなどからなる透明電極膜をスパッタリングなどにより積層し、これをパターニングしてストライプ状の電極２０２を形成する。 - 特許庁

Many ligands are patterned on the surface of the substrate in the form of arrays to analyze the binding pattern of a sample to the arrays, thereby enabling the taxonomic identification of microorganisms.例文帳に追加

基材表面に多くのリガンドをアレイ状にパターン化することによって、アレイに対する試料の結合パターンを分析すれば、微生物の分類学的同定が可能である。 - 特許庁

Field oxide areas (21) for isolation are first formed over a semiconductor substrate subsequent to which transistor trenches (22) are patterned and etched in a silicon nitride layer (18).例文帳に追加

まず、絶縁用のフィールド酸化物領域（２１）が半導体基板上に形成され、ついで、窒化シリコン層（１８）にパターン形成が行われ、エッチングによりトランジスタトレンチ（２２）が得られる。 - 特許庁

Subsequently an aluminum film 62 is formed as a masking material and patterned on the underside of the substrate 52 in the figure and an ink chamber 64 is formed by anisotropic etching (Fig. 3(e)).例文帳に追加

次に、基板５２の図中下面に、マスク材料としてアルミニウム膜６２が成膜されてパターニングされ、異方性エッチングにより、インク室６４が形成される（図３（ｅ））。 - 特許庁