「patterned substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

During a first exposure time, a first substrate set is patterned by a first reticle, and the reticle is exchanged for a second reticle.例文帳に追加

第１露光期間中、第１のレチクルにより第１の基板セットをパターニングし第１のレチクルを第２のレチクルと交換する。 - 特許庁

An insulation layer patterned to expose the end parts of the heating elements and address electrodes is attached onto the lower substrate.例文帳に追加

下部基板の上には、加熱素子及びアドレス電極の末端部を露出させるようにパターニングされた絶縁層が付着される。 - 特許庁

After a metal layer is vapor-deposited on a semiconductor substrate 100, the metal layer is patterned to form the metal wiring 101A.例文帳に追加

半導体基板１００上に金属層を蒸着後、その金属層をパターニングして金属配線１０１Ａを形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a patterned medium by which a problem caused by a center hole of a substrate is solved.例文帳に追加

基板の中心孔に起因する課題を解決する、パターンド媒体の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

After a member to be patterned is formed on a semiconductor substrate, the member to be patterned is patterned to form a plurality of line patterns in parallel, and dummy patterns are formed from the end of the line pattern in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the line pattern at predetermined intervals.例文帳に追加

半導体基板上に被パターニング部材を形成した後に、被パターニング部材をパターニングして、複数のライン状のパターンを並列に形成するとともにライン状のパターンの端部から所定間隔をもってライン状のパターンの長手方向と垂直な方向にダミーパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a mask for patterning a thin film by which the thin film can be patterned without damaging an organic polymer film formed on a substrate, in the mask for patterning the thin film used when the thin film is patterned on the substrate on which the organic polymer layer is formed.例文帳に追加

有機高分子層を形成した基板上に薄膜をパターン形成する際に使用する薄膜パターン化用マスクにおいて、基板上に形成された有機高分子膜にキズをつけることなく、薄膜のパターン化が可能な薄膜パターン化用マスクを提供する。 - 特許庁

A lithography apparatus includes an illuminating system that adjusts a radiation beam, a support that supports a patterning device capable of forming a patterned radiation beam by patterning the section of the radiation beam, a substrate table that holds a substrate, and a projection system that projects the patterned radiation beam to a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調節する照明システム、放射ビームの断面にパターンを付与することによってパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポート、基板を保持する基板テーブル、およびパターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムを含む。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate on a central area; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target part of the substrate in a first direction.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するようサポートと、基板をその中央領域上に保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを第１の方向で基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

To provide a substrate for magnetic recording medium suitable for manufacturing DT media and patterned media, which requires no complex process and enables simple manufacturing of the DT media and patterned media.例文帳に追加

ＤＴメディアやパターンドメディアの製造に適した磁気記録媒体用基板であって、複雑な工程が不要で簡易にＤＴメディアやパターンドメディアを製造することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。 - 特許庁

The method further includes: patterning the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; and projecting the patterned radiation beam onto a target portion of a substrate.例文帳に追加

この方法はさらに、放射ビームの断面がパターンを有するように放射ビームをパターニングして、パターニングされた放射ビームを形成すること、および、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上へ投影することを含む。 - 特許庁

In a lithography method for manufacturing a product such as a semiconductor device or a lithographic mask, the products are manufactured by a sequence of steps in which materials are deposited on a substrate and patterned, and patterned layers are used.例文帳に追加

半導体デバイス又はリソグラフ用マスクのような製品を製造するためのリソグラフ方法において、基板上に材料を塗布し、パターン付けし、パターン付層を用いる一連のステップにより製品を製造する。 - 特許庁

The spot grid is attained by using a patterning device 204 which turns the patterned beam on a micro lens array 240 in which a spot is formed by Fourier transform of the beam patterned in the substrate.例文帳に追加

これは、基板でパターン形成されたビームのフーリエ変換されたスポットを形成するマイクロレンズ・アレイ２４０上に、パターン形成されたビームを向けるパターン形成デバイス２０４を使用することによって達成される。 - 特許庁

To provide a curable resin composition for forming a cured film that can be made thick, gives a sharp patterned feature, and does not lose adhesiveness to a glass substrate or the like after cured with light or patterned.例文帳に追加

厚膜化することが可能であり、シャープなパターニング形状が得られ、かつ、光硬化後及びパターニング後もガラス基板等に対する密着性を失わない硬化膜を与える硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The substrate of an electrooptical device has a patterned light shading film 23 formed on a substrate 20 facing the substrate 10 on which switching elements are mounted, and electrodes 21 formed on the substrate 20 including the light shading film 23 and having planarized surfaces.例文帳に追加

スイッチング素子が形成された基板１０に対向する対向基板２０上に形成されるパターン化された遮光膜２３と、前記遮光膜２３を含む前記基板２０上に形成されて、表面が平坦化された電極２１とを具備した。 - 特許庁

The lithographic apparatus comprises: a radiation source for generating a radiation beam; a support structure for supporting a patterning device; a substrate table for supporting a substrate; and a projection system for projecting a patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを生成する放射源と、パターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁

The patterned substrate is conveyed after the rolls 12 are made to stand at the position of the pattern-unformed surface of the long-length substrate and the rolls 12 are rotated at a prescribed rotational speed while the conveyance of the substrate is stopped.例文帳に追加

さらに、搬送停止時に、洗浄用ロールを長尺基板上のパターン非形成面の位置においてスタンバイさせ、洗浄用ロールの回転が所定の回転速度に到達した後に、基板の搬送を行なう。 - 特許庁

The surface of the substrate 1 is patterned by irradiating the surface of the substrate 1 with ultraviolet rays 3 through an exposure mask 30, while bringing ozone water 2 into contact with the surface of the substrate 1 to which the exposure patterning is to be performed.例文帳に追加

露光パターニングしようとする基板１の表面にオゾン水２を接触させながら、紫外線３を露光マスク３０を介して基材１の表面に照射して、基材１の表面をパターニングする。 - 特許庁

To provide a thin film removal device which can selectively remove a prescribed part of a thin film applied onto a substrate from the substrate and can construct the thin film patterned on the substrate.例文帳に追加

基板上に塗布されている薄膜の所定部分を基板から選択的に除去することが可能で、基板上にパターニングされた薄膜を構築することが可能な、薄膜除去装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for accurately determining the location on a patterned substrate from which a measurement of an image of the pattern is being obtained.例文帳に追加

パターンの画像を測定しているパターン付き基板上の位置を正確に決定する方法および装置を提供することである。 - 特許庁

The shape like this is provided by, for example, an additive method by which the substrate 20 is patterned with a photoresist, with its recess applied with plating.例文帳に追加

このような形状は、例えば基板２０上でフォトレジストをパターニングし、その凹部にめっきを施す、アディティブ法によって得られる。 - 特許庁

To rapidly separate a surface of an imprint template from a patterned layer on a substrate formed by imprint lithography.例文帳に追加

インプリントテンプレートの表面と、インプリントリソグラフィによって形成された基板上のパターン形成された層との迅速な分離を可能にする。 - 特許庁

A gate layer is formed on a semiconductor substrate, and it is patterned, and then a metallic layer is formed on the upper part of produced matter.例文帳に追加

半導体基板の上部にゲート層を形成してそのゲート層をパタニングした後、生成物の上部に金属層を形成する。 - 特許庁

The hard mask film and buffer insulating film are patterned continuously for forming an opening for exposing a specific region on the semiconductor substrate.例文帳に追加

ハードマスク膜及びバッファ絶縁膜を連続してパターニングして半導体基板の所定の領域を露出させる開口部を形成する。 - 特許庁

The SiON layer and the mask layer are patterned to form an opening, exposing a substrate region on which a shallow trench isolation region is formed.例文帳に追加

SiON層とマスク層は所定パターンに定義されて開口が形成され、基板領域を露出して、シャロートレンチ分離領域を形成する。 - 特許庁

A heat accumulating layer 302 and an inter-layer film 303 are laminated on a substrate 301, with a resistor layer 304 and a wiring 305 patterned.例文帳に追加

基板３０１に蓄熱層３０２と層間膜３０３が積層され、抵抗層３０４と配線３０５とがパターニングされている。 - 特許庁

SELECTIVE DEPOSITION OF ZnO NANOSTRUCTURE ON SILICON SUBSTRATE USING NICKEL CATALYST AND EITHER PATTERNED POLYSILICON OR SILICON SURFACE MODIFICATION例文帳に追加

ニッケル触媒と、パターニングしたポリシリコンまたはシリコン表面改質とを用いたシリコン基板上へのＺｎＯのナノ構造の選択的堆積 - 特許庁

To provide a substrate on which a thin film is patterned, capable of constructing a function element with high performance, and to provide an organic element and a manufacturing method of the same.例文帳に追加

高性能な機能素子を構成することができる、薄膜がパターニングされた基板およびその製造方法等を提供する。 - 特許庁

The hard mask and the buffer insulation film are sequentially patterned, to form an opening for exposing a predetermined region of the semiconductor substrate.例文帳に追加

ハードマスク膜及びバッファ絶縁膜を連続してパターニングして半導体基板の所定の領域を露出させる開口部を形成する。 - 特許庁

The generated soot is deposited on the surface of the substrate opposed to an arc discharge region, through a mask having a patterned opening.例文帳に追加

この発生したすすを、パターン化された開口部を有するマスクを介して、アーク放電領域に対面した基板の表面に被着させる。 - 特許庁

In the terminal part 40, a wettability changing layer 43 is formed on a substrate 41, and a conductive layer 45 is patterned on it.例文帳に追加

端子部４０において、基板４１には、濡れ性変化層４３が形成されており、その上に導電層４５がパターン形成されている。 - 特許庁

The array of a projection system is provided over the entire frame for projecting respective patterned beams to targets on the substrate.例文帳に追加

基板の目標部分にそれぞれのパターン化されたビームを投影するために、このフレーム全体にわたって投影システムのアレイを配設する。 - 特許庁

Two or more patterned projection beams having different patterns and intensities are simultaneously projected on a substrate.例文帳に追加

それぞれが異なるパターンおよび異なる強度を有する２つ以上のパターン形成された投影ビームを基板上に同時に投影する。 - 特許庁

Patterning provided by a lithographic apparatus is optically corrected for focus errors that would result from a topology of a substrate being patterned.例文帳に追加

リソグラフィ装置によって提供されるパターニングの、パターニングされる基板のトポロジに起因する焦点誤差が光学的に修正される。 - 特許庁

The micromirrors (2) and the torsion springs (6) are patterned out of a substrate wafer and lie essentially in one plane.例文帳に追加

マイクロミラー（２）およびねじりばね（６）が基板ウェーハ（８）から構造化されており、実質的に１つの平面内に位置しているようにした。 - 特許庁

To provide a defect correction device and method for reliably correcting a defect, and also to provide a method for manufacturing a patterned substrate.例文帳に追加

確実に欠陥を修正することができる欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A pixel array module 3 includes a substrate 31, a pixel electrode array 32, a patterned conductive layer 33 and a semiconductor circuit unit 34.例文帳に追加

本発明のピクセルアレイモジュール３は、基板３１、ピクセル電極アレイ３２、パターン導電層３３及び半導体回路ユニット３４を備える。 - 特許庁

The electromolding substrate 1 has a patterned part 3 with a recess shape, which has the same shape as the plated layer, formed on the surface 1a.例文帳に追加

本発明における電鋳用基板１の表面１ａにはメッキ層と同形状の凹部状のパターン部３が形成されている。 - 特許庁

On the front surface of a silicon substrate 10, an LP silicon nitride film 20A which becomes a mask at forming a LOCOS oxide film is formed and patterned.例文帳に追加

シリコン基板１０の表面に、ＬＯＣＯＳ酸化膜を形成する際のマスクとなるＬＰシリコン窒化膜２０Ａをパターン形成する。 - 特許庁

A gate oxide film 11, polysilicon films 12 and 14 and a nitride film are formed on a semiconductor substrate, and then they are patterned to form a poly gate.例文帳に追加

半導体基板上にゲート酸化膜１１とポリシリコン膜１２，１４と窒化膜を形成し、これらをパターニングしてポリゲートを形成する。 - 特許庁

A photosensitive resin composition layer is formed on a substrate, on which a surface coating layer having high lyophobic property is formed and patterned.例文帳に追加

基板上に形成された感光性樹脂組成物層の上に疎液性の高い表面被覆層を形成させ、パターンを形成させる。 - 特許庁

The mask also includes a patterned layer of a material substantially opaque to the energy beam disposed on the mask substrate or the phase shifting layer.例文帳に追加

マスクはまた、マスク基板または位相シフト層上に配設されエネルギー・ビームに対しほぼ不透明な材料のパターン化された層も含む。 - 特許庁

Patterns such as a patterned cathode line, a gate electrode line, and a focusing electrode line are installed on a substrate so as to become mirror-image symmetric.例文帳に追加

基板上に、パターニングされたカソードライン、ゲート電極ライン及び収束電極ライン等のパターンを鏡像対称となるよう設ける。 - 特許庁

An etching mask layer 102 is formed on the surface of a p-type silicon substrate 101 and patterned by laser to form an aperture 104.例文帳に追加

Ｐ型シリコン基板１０１の表面にエッチングマスク層１０２を形成し、レーザーでパターニングを行って開口１０４を形成する。 - 特許庁

To disclose a phase shifting photomask comprising a patterned film stack formed on a transparent substrate, and a method of fabricating the photomask.例文帳に追加

透明基板上に形成されたパターン化フィルムスタックを含む位相シフトフォトマスク及びフォトマスクを製造する方法が開示されている。 - 特許庁

A patterned thin-film conductor 2 is formed by thin-film technology on at least one of the top and reverse surfaces of the core substrate 1.例文帳に追加

コア基板１の表裏面の少なくともいずれかに薄膜形成技術によってパターニングされた薄膜導体２を形成する。 - 特許庁