「patterned substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

A monolayer is formed on a substrate by bonding a silane compound having a hydrolyzable group and a carbon-containing group with liquid-repellent ends to the substrate, the top of the substrate is patternwise coated with an alkaline liquid by an ink jet process and the monolayer in the coated areas is removed by the hydrolytic action of the alkaline liquid to form a liquid-repellent monolayer pattern and a patterned lyophilic substrate surface.例文帳に追加

基板上に、加水分解性基と、撥液性末端を有する炭素含有基とを有するシラン化合物がこの基板に結合した単分子層を形成し、アルカリ性の液体をインクジェット法で基板上にパターン塗布し、この塗布した部分において前記単分子層を上記アルカリ性液体の加水分解作用により除去し、撥液性の単分子層と、パターン化された親液性の基板表面を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the light emitting device includes irradiating first light which satisfies a predetermined conditional expression from one face of a first substrate on which the material layer is formed, to pattern the material layer, and irradiating second light which satisfies a predetermined conditional expression from the other face of the first substrate to deposit the patterned material layer on a second substrate as a film-formed substrate.例文帳に追加

第１の基板の材料層が形成された一方の面から所定の条件式を満たす第１の光を照射することにより、材料層をパターン形成し、次いで第１の基板の他方の面から所定の条件式を満たす第２の光を照射することにより、パターン形成した材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させる発光装置の作製方法である。 - 特許庁

Semiconductor multi-layer films constituted of n-InGaAsP light absorption layers 101 or n-InGaAs light receiving layers 103 or the like are epitaxially grown on an n-InP substrate 100, and an SiN film is deposited and patterned.例文帳に追加

ｎ−ＩｎＰ基板１００上にｎ−ＩｎＧａＡｓＰ光吸収層１０１やｎ−ＩｎＧａＡｓ受光層１０３等からなる半導体多層膜を順次エピタキシャル成長した後、ＳｉＮ膜を堆積し、パターニングを行う。 - 特許庁

The present invention relates to an alignment mark and a forming method thereof, wherein a plating electricity feeding film 13 is formed on a surface of a substrate 12, and a photoresist pattern is formed on the plating electricity feeding film 13 and then patterned by electric plating.例文帳に追加

基板１２の表面にメッキ給電用膜１３を形成し、次いで当該メッキ給電用膜１３にフォトレジストパターンを形成して、その後電気メッキによりパターン形成されるアライメントマーク及びその作成方法である。 - 特許庁

To provide an antenna pattern in which a patterned metal-particle sintered film is formed on a substrate and a surface resistance of the metal-particle sintered film is small and a smoothness of the surface is high, and to provide a manufacturing method for the pattern.例文帳に追加

基材上に、パターン状の金属微粒子焼結膜を形成してなり、金属微粒子焼結膜の表面抵抗が小さく、かつ該表面の平滑性の高いアンテナパターン及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

Carbon gas is generated from carbon deposits attached on the inner wall of the etching chamber when the substrate is etched, and carbon gas is deposited on the side walls of the patterned organic material layer 2 to serve as a side wall protective film.例文帳に追加

エッチングチャンバ１０の内部に付着させた炭素系堆積物から、基板のエッチング処理時にカーボン系のガスを生じさせ、これをパターニングした有機材料層２の側壁に堆積させながら側壁保護膜として機能させる。 - 特許庁

A transparent conductive film on a substrate SUB constituting the display surface of the image display device is patterned in a plurality of pad electrode SSP shape detection electrodes which are arranged in a two-dimensional matrix shape of rows (X-direction) and columns (Y-direction).例文帳に追加

画像表示装置の表示面を構成する基板ＳＵＢ上の透明導電膜を行（Ｘ方向）および列（Ｙ方向）の二次元マトリクス状に配置された複数のパッド電極ＳＳＰ形状の検出電極にパターニングする。 - 特許庁

A pair of comb-line electrodes 2 are patterned such that one side becomes +45° and another side becomes -45° with respect to the center line X on a flat substrate 1, and are coated with an insulating layer 3 and, further, surface hydrophobic treatment 4 is applied thereon.例文帳に追加

平面基板１上に、中心線Ｘに対して一方が＋４５度、他方が−４５度となるように一対の櫛歯状電極２がパターンニングされ、絶縁層３でコートされ、その上に表面疎水処理４が施されている。 - 特許庁

The method for manufacturing the wiring board includes a process to form a wiring pattern 30 on a base substrate 10 comprising a metal layer 12 and a mask 14 formed on the metal layer 12 by being patterned by removing a part of the metal layer 12 by spraying an etchant 20.例文帳に追加

金属層１２と、パターニングされて金属層１２上に設けられたマスク１４とを有するベース基板１０に、エッチング液２０を噴射して金属層１２の一部を除去し、配線パターン３０を形成することを含む。 - 特許庁

An underlying metal film 2 and an overlying metal film 3 different from the underlying metal film 2 are formed sequentially on a substrate, a resist pattern 4 is formed on the overlying metal film 3, and then only the overlying metal film 3 is etched and patterned.例文帳に追加

下側金属膜２、及び下側金属膜２とは異なる上側金属膜３を基板上に順に積層し、上側金属膜３上にレジストパターン４を形成し、上側金属膜３のみをエッチングしパターニングする。 - 特許庁

To provide a lithography system in which throughput can be increased through patterning of all feature sizes during exposure and features can be patterned over an entire surface of a substrate substantially at a same time as required.例文帳に追加

各露光中にあらゆるフィーチャサイズのパターニングにわたりスループットを高めることができるようにし、必要に応じて実質的に一度に１つの基板の表面全体にフィーチャをパターニングできるようにしたリソグラフィシステムを提供する。 - 特許庁

In addition, the silicon layer 8 is patterned with dry etching using a reactive gas with the second inorganic film 8 used as a mask, an ion 12 is implanted into the silicon substrate 2 in energy of 5 MeV to 8 MeV using the silicon layer 6 as a mask.例文帳に追加

さらに、第２の無機膜８をマスクとする反応性ガスを用いたドライエッチングによりシリコン層６をパターン化し、このシリコン層６をマスクとして、５ＭｅＶないし８ＭｅＶのエネルギーでシリコン基板２にイオン１２を注入する。 - 特許庁

After a first metal film 302 is formed on a substrate 301 from an insulating material, a resist film 303 is formed on the desired portion of the upper surface of the first metal film 302 and a Ti film being the first metal film 302 is patterned.例文帳に追加

絶縁材料を基板３０１として第１の金属膜３０２を成膜した後、第１の金属膜３０２の上面の所望部分にレジスト膜３０３を形成し、第１の金属膜３０２であるＴｉ膜をパターニングする。 - 特許庁

After a transparent photosensitive resin material for spacer 20a is applied on the inner surface of a substrate 2 and patterned by lithography into specified form, it is colored in black to form a black spacer 20.例文帳に追加

基板２の内面上に、透明な感光性樹脂からなるスペーサ材２０ａを塗布し、そのスペーサ材２０ａをフォトリソグラフィ法により所定の形状にパターニングした後、パターニングされたスペーサ材２０ａを染色して黒色のスペーサ２０とする。 - 特許庁

A polysilicon 103 is grown on a semiconductor substrate and ion-implanted to be patterned, so as to form a gate electrode by etching away the gate polysilicon 103 using the films 104, 105 after successively depositing an oxide film 104 and a nitride film 105.例文帳に追加

半導体基板上にゲートポリシリコン１０３を成長させてイオン注入を行い、酸化膜１０４、窒化膜１０５を順次堆積した後、パターニングし、これらをマスクにしてゲートポリシリコンをエッチングしてゲート電極を形成する。 - 特許庁

An amorphous silicon film is formed on a substrate 10 formed of a glass plate or the like, and this amorphous silicon film is patterned to form main patterns P1 resembling islands or belts having a protruded end and a sub-pattern P2 for filling the gaps between the main patterns P1.例文帳に追加

ガラス板等からなる基板１０上にアモルファスシリコン膜を形成し、このアモルファスシリコン膜をパターニングして、先端が凸の島状又は帯状のメインパターンＰ１と、メインパターンＰ１間の隙間を埋めるサブパターンＰ２とを形成する。 - 特許庁

A gate insulating film 14 is formed on the surface of a semiconductor substrate 12, and an amorphous semiconductor film 16 is deposited in place of a polycrystalline semiconductor film on the gate insulating film 14, and the amorphous silicon layer 16 is patterned into the shape of a gate electrode.例文帳に追加

半導体基板１２表面にゲート絶縁膜１４を形成し、当該絶縁膜上に多結晶半導体膜の代わりにアモルファス半導体膜１６を堆積し、このアモルファスシリコン層１６をゲート電極部としてパターニングする。 - 特許庁

A first substrate 1 where a pixel electrode driving circuit 2 is formed is covered with a leveling/insulation layer 20, and a light shield layer (step forming pattern) 22 is patterned around the pixel region 1a on the leveling/insulation layer 20.例文帳に追加

画素電極駆動回路２が形成された第１基板１上を平坦化絶縁膜２０で覆い、平坦化絶縁膜２０上における画素領域１ａの周囲に遮光膜（段差形成用パターン）２２をパターン形成する。 - 特許庁

The slim fuel chambers shall preferably be patterned in a mirror-image position inside the substrate, so that two thin-film substrates can be combined so as to define a fuel chamber having two slim electrolytes, anodes, and cathodes extending along them.例文帳に追加

細長い燃料チャンバは好ましくは基板内で鏡像配置にパターン化され、２つの薄膜基板が、そこに沿って延在する２つの細長い電解質、陽極及び陰極を有する燃料チャンバを画定するよう結合され得る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a high quality color filter substrate at low cost for a liquid display device composed of a plurality of patterned layers composed of a first layer of non-photosensitive resin and a photosensitive resin.例文帳に追加

本発明は、非感光性樹脂からなる第１の層と感光性樹脂からなる複数のパターン化層からなる液晶表示装置用カラーフィルタ基板を低コスト、かつ高品質に得ることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterned perpendicular magnetic recording medium that has pillars with a magnetic material on their ends and trenches substantially having no magnetic moment and to provide a manufacturing process of the medium that allows use of a pre-etched substrate.例文帳に追加

端部上に磁性材料を有する柱を備え、かつ本質的に磁気モーメントを有さないトレンチを備えたパターン化垂直磁気記録媒体、ならびにプリエッチングされた基板の使用を可能にする媒体の製造プロセスが求められている。 - 特許庁

The photosensitive adhesive sheet is used for forming a patterned adhesive film using the method including: a step of bonding the photosensitive adhesive sheet to an adherend so that the photosensitive adhesive film and the adherend become opposite to each other; a step of exposing the photosensitive adhesive film after removal of the substrate; and a step of developing the exposed photosensitive adhesive film to form the patterned adhesive film.例文帳に追加

当該感光性接着シートを、被着体に感光性接着フィルムが被着体側になる向きで貼り付ける工程と、基材を除去してから感光性接着フィルムを露光する工程と、露光された感光性接着フィルムを現像して、パターニングされた接着フィルムを形成させる工程とを含む方法により、パターニングされた接着フィルムを形成するために用いられる。 - 特許庁

The master recording medium 101 includes a substrate 110 including a plurality of servo regions S and a plurality of data regions D, and a magnetic layer 140 formed on each of the servo regions S and patterned in the shape of a servo pattern to be patterned on a magnetic recording medium, wherein regions corresponding to the servo regions S are raised and protruded.例文帳に追加

サーボ領域Ｓとデータ領域Ｄとに区分された複数の領域を有する基板１１０と、サーボ領域Ｓ上に形成されたものであり、磁気記録媒体に形成しようとするサーボパターン形状を磁気転写するようにパターン化された磁性層１４０とを備え、サーボ領域Ｓに対応する領域が陽刻突出されたことを特徴とするマスター記録媒体１０１である。 - 特許庁

In the post processing method of the resist pattern, a coating film is formed on a substrate having a patterned resist film by using a coating forming agent containing a water-soluble resin, the coating film and the patterned resist film are heated, the coating film is brought into contact with water vapor to expand the coating film, and the coating film is removed.例文帳に追加

本発明に係るレジストパターンの後処理方法では、パターン形成されたレジスト膜を有する基板上に、水溶性樹脂を含有する被覆形成剤を用いて被膜を形成した後、上記被膜及びパターン形成された上記レジスト膜を加熱すると共に、上記被膜に水蒸気を接触させることにより被膜を膨張させ、次いで上記被膜を除去する。 - 特許庁

The exposure phase includes fast switching for the conditioning of the radiation beam to a second beam condition, with the second beam condition which is different from the first beam condition, forming the patterned radiation beam by imparting the radiation beam with the second beam condition with a second pattern in its cross-section, with the second pattern being provided by a patterning device, and projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

露光段階は、放射ビームを、第１のビーム条件とは異なる第２のビーム条件に調整する高速切替えステップと、第２のビーム条件を含む放射ビームに、その断面のパターニングデバイスが提供した第２のパターンを付与することによりパターン形成された放射ビームを形成するステップと、基板のターゲット部分上にパターン形成されたビームを投影するステップとを含む。 - 特許庁

The method of controlling dimensions of structures formed on the substrate using the etching process includes a step 204 of measuring pre-etching dimensions of the respective elements of a patterned etching mask, a step 206 of adjusting the process recipe of the etching process using the results of the pre-etch measurements, and a step 208 of adjusting the process recipe of the etching process, using the patterned etch mask.例文帳に追加

エッチングプロセスを用いて基板上に形成された構造物の寸法を制御する方法がパターン化されたエッチングマスクのそれぞれの素子のエッチング前の寸法を測定するステップ２０４、前記エッチング前の測定結果を用いてエッチングプロセスのプロセスレシピを調整するステップ２０６及びパターン化されたエッチングマスクを用いてエッチングプロセスを行い、プロセスレシピを調整するステップ２０８を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the pellicle patterned layer comprises the steps of providing a substrate having a plurality of partition walls and separately forming a plurality of accommodation spaces between the adjacent partition walls, discharging ink containing a high-boiling point solvent in the plurality of accommodation spaces using at least two nozzles, and solidifying the ink to form the pellicle patterned layer.例文帳に追加

本発明の薄膜パターン層の製造方法は、複数の隔壁を有し、隣接する前記隔壁との間に別々に複数の収容空間が形成されている基板を提供する工程と、少なくとも二つのノズルを用いて、前記複数の収容空間内に高沸点溶剤の含むインクを吐出する工程と、前記インクを固化して、薄膜パターン層を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

This manufacturing method for the member pattern plurality having a first strip member 26 patterned on a substrate 21 and a second strip member 24 patterned so as to spread from the first strip member 26 to the substrate 21 comprises a process forming the first strip member 26 by a printing method; and a process forming the second strip member 24 by exposure and developing using a photosensitive material.例文帳に追加

基板２１上に、パターニングされた第一の帯状部材２６と、当該第一の帯状部材２６上から当該基板２１上に跨ってパターニングされた第二の帯状部材２４の複数とを備える部材パターンの製造方法であって、前記第一の帯状部材２６を、印刷法にて形成する工程と、前記第二の帯状部材２４を、感光性材料を用いた、露光と現像とを伴うプロセスにて形成する工程と、を有することを特徴とする部材パターンの製造方法。 - 特許庁

A previously patterned groove shape is formed along the cleavage direction of the ground substrate in the rear surface of the ground substrate so as to cross the whole surface of the ground substrate.例文帳に追加

ＩＩＩ族窒化物半導体自立基板の製造方法が、下地基板上にＩＩＩ族窒化物半導体層を気相成長させる工程と、前記ＩＩＩ族窒化物半導体層から下地基板を除去する工程とを含み、前記下地基板の裏面には下地基板の劈開方向に沿って、前記下地基板全面を横断する様に、予めパターン化した溝形状が形成されている。 - 特許庁

The method includes a step of decomposing a desired pattern to be printed on a substrate into at least two constituent sub-patterns that are capable of being optically resolved by the lithography system, and a step of coating the substrate with a first positive tone resist layer and a relatively thin second positive tone resist layer on top of a target layer of the substrate which is to be patterned with a desired dense line pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィシステムによって光学的に分解することができる少なくとも二つの成分サブパターンに分解する工程、所望の高密度ラインパターンでパターンを形成させる基板のターゲット層の上に、第一のポジ型レジスト層と比較的薄い第二のポジ型レジスト層とを塗布する工程を含む。 - 特許庁

The pattern forming method includes exposing and developing a photosensitive resist material 13B to form a patterned layer 15, wherein before a step of applying the photosensitive resist material 13B on a substrate 11, an underlayer 13A comprising the same or another photosensitive resist material is formed on the substrate.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、感光性レジスト材料１３Ｂを露光、現像してパターン層１５を形成する方法において、基板１１の上に感光性レジスト材料１３Ｂを塗布する工程の前に、基板の上に同一又は他の感光性レジスト材料からなる下地層１３Ａを形成する。 - 特許庁

The spot from the micro lens array forms the hexagonal and exposed spot grid on the substrate (a) through at least one of the movement of the substrate patterned by the patterning device and/or the change of the frequency of the beam of radiation, or (b) through hexagonal configuration of the patterning device and the micro lens array.例文帳に追加

（ａ）パターン形成デバイスによってパターン形成される基板の移動、及び／又は放射のビームの周波数の変更の少なくとも１つを介して、或いは（ｂ）パターン形成デバイス及びマイクロレンズ・アレイの六角形構成を介して、マイクロレンズ・アレイからのスポットは、基板上の六角形の露光されたスポット・グリッドを形成する。 - 特許庁

The glass substrate 4 for display is formed by depositing a ground surface film 2 of metal oxide having crystallinity for impartation of ruggedness, an amorphous insulative continuous film 3 of a film thickness reflecting the ruggedness of the ground surface film 2 and the patterned electrode films 4 in this order on substrate glass 1 having a smooth surface.例文帳に追加

表面が平滑な基板ガラス１上に、凹凸を付与するための結晶性を有する金属酸化物の下地膜２と、該下地膜２の凹凸を反映する膜厚の非晶質の絶縁性連続膜３と、パターニングされた電極膜４とがこの順序で成膜されたディスプレイ用ガラス基板。 - 特許庁

The lithographic apparatus is comprised of a radiation system for providing a projection beam of radiation, a first support structure for supporting patterning means which serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a second support structure for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ機器は、放射投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターン化手段を支持する第１支持構造と、基板を支持する第２支持構造と、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影する投影システムとを備える。 - 特許庁

To provide a circuit board with a built-in patterned antenna that can be reduced in size without requiring any excessive substrate space, can prevent influences caused by mutual noise between the antenna and a wiring pattern or a device and an increase in load capacity, and can connect front and rear surfaces of a substrate electrically to each other without using any via hole.例文帳に追加

余分な基板スペースを必要とせず小型化を促進でき、アンテナと配線パターンやデバイスとの相互のノイズによる影響を防止でき、ビアを用いずに基板表裏面間の電気的接続を可能として負荷容量の増加を防止した構造のパターンアンテナ内蔵回路基板を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit board with a built-in patterned antenna that can be reduced in size without requiring any excessive substrate space, can prevent influences caused by the mutual noise between the antenna and a wiring pattern or device and an increase in load capacity by making the front and rear surfaces of a substrate electrically connectable to each other without using any via hole.例文帳に追加

余分な基板スペースを必要とせず小型化を促進できる構造、アンテナと配線パターンやデバイスとの相互のノイズによる影響を防止できる構造、ビアを用いずに基板表裏面間の電気的接続を可能として負荷容量の増加を防止した構造のパターンアンテナ内蔵回路基板を提供する。 - 特許庁

The thin film 2 is patterned by: forming the thin film 2 on a substrate 1 containing a sublimable coloring matter; irradiating the substrate 1 with light; subliming the sublimable color matter with heat generated by irradiation of light; and removing the thin film 2 corresponding to the region irradiated with the light.例文帳に追加

昇華性色素を含む基材１上に薄膜２を設け、基材１に対して光を照射し、光の照射によって生じる熱により所望領域の昇華性色素を昇華させることにより、光が照射された照射領域に対応する薄膜２を除去することにより、この薄膜２をパターニングする。 - 特許庁

In a flow field 38 in which one wall of a flow passage 36 in a flow field plate of a solid oxide fuel cell is formed, the flow field includes a flat substrate 40 having a patterned array of flow barriers 52, 64, 66 having different shapes, and the flow barrier is protruded to the inside the flow passage from the substrate.例文帳に追加

固体酸化物燃料電池の流れフィールドプレートにある流路３６の一方の壁を形成する流れフィールド３８において、流れフィールドは、形状の異なる流れ障壁５２、６４、６６のパターン化アレイを有する平坦な基板４０を含み、流れ障壁は、基板から流路の内部へ突出する。 - 特許庁

An ITO film 12 is formed on a glass substrate 11, wherein an indium film 13 and an iron film 14 in stripe forms patterned on the ITO film 12 are formed, the glass substrate 11 is heated to the temperature of 600 to 1,000°C to form beads repeatedly by CVD method using a carbon containing gas as the raw material gas.例文帳に追加

ガラス基板１１上にＩＴＯ膜１２を形成し、このＩＴＯ膜１２上にパターニングされたストライプ状のＩｎ膜１３及びＦｅ膜１４を形成し、前記ガラス基板１１を６００〜１０００℃に加熱し、炭素含有ガスを原料ガスとしたＣＶＤ法により、ビーズを繰り返し形成する。 - 特許庁

In the method of producing the organic electroluminescent element having the substrate and an electrode patterned on the substrate, and also having at least one organic layer film-formed by coating on the electrode, a process is included which irradiates an electromagnetic wave onto the organic layer after it is coated and dried.例文帳に追加

基材及び該基材の上にパターニングされた電極を有し、該電極の上に塗布により成膜された少なくとも１層の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、該有機層を塗布、乾燥後に電磁波を照射する工程を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 特許庁

This method includes, in order to select a pattern to be projected on the substrate, rotating a mask having a plurality of patterns by using of a selected pattern in order to impart a pattern, corresponding the selected pattern to the cross section of an emitted beam, and projecting the patterned beam on a target portion of the substrate.例文帳に追加

この方法は、基板に投影されるべきパターンを選択するために、複数のパターンを有するマスクを回転することと、選択パターンに対応するパターンを放射ビーム断面に付与するために選択パターンを使用することと、パターンが付与されたビームを基板の目標部分に投影することと、を含む。 - 特許庁

A substrate processing apparatus includes a lithographic apparatus which comprises an illumination system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements serving to impart the projection beam with a pattern in its cross-section, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of a substrate.例文帳に追加

基板処理装置は、放射の投影ビームを供給するための照明システム、投影ビームの断面にパターンを付与するべく機能する個々に制御可能な複数のエレメントのアレイ、及びパターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムを備えたリソグラフィ装置を備えている。 - 特許庁

The circuit board 3 is composed that an aluminum oxide substrate 11 formed by a fine particle deposition method is located on a surface of a copper substrate 10, on which surface patterned conductive wiring 12 is disposed, on which aluminum oxide layers 13, 14 formed by the same fine particle deposition method is located.例文帳に追加

回路基板３の構成は、銅基板１０の表面には微粒子ビーム堆積法にて形成された酸化アルミニウム基板１１が配置され、その表面にあるパターンを描く導電性配線１２が配置され、その上に同じく微粒子ビーム堆積法で形成された酸化アルミニウム層１３、１４が配置される。 - 特許庁

In the magnetic recording medium, having a nonmagnetic substrate and a servo layer patterned into stripes extending in the radial direction and a perpendicular magnetic recording layer, with both layers formed on the nonmagnetic substrate and separated from each other, a soft magnetic layer is formed between the servo layer and the perpendicular magnetic recording layer.例文帳に追加

非磁性基板と、前記非磁性基板上に半径方向に延びた縞状の形状にパターニングされたサーボ層と垂直磁気記録層とが分離して形成された磁気記録媒体において、前記サーボ層と前記垂直磁気記録層との間に軟磁性層を形成した構成を有する構成とする。 - 特許庁

An abnormality detection/classification method that checks dispersion in a raw data using a raw back-focal-plane image data of radiation from a substrate surface detected by a scatterometer detector, and associates the variation in the raw data that may possibly occur in the lithographic device or a fault that may possibly occur in a process where the substrate surface is patterned is disclosed.例文帳に追加

スキャトロメータディテクタによって検出された、基板表面からの放射の生の後焦点面像データを使用して、生データ内のばらつきを確認し、生データのばらつきをリソグラフィ装置、または基板表面をパターニングしたプロセスにて起こり得る異常に関連付ける、異常検出／分類方法を開示する。 - 特許庁